臺北高等行政法院判決 九十二年度訴字第二二○六號
原 告 甲○○
訴訟代理人 鍾亦琳律師
丁○○專利代
被 告 經濟部智慧財產局
代 表 人 蔡練生（局長）
訴訟代理人 丙○○
戊○○
參 加 人 日月光半導體製造股份有限公司
代 表 人 乙○○董事長
訴訟代理人 陳森豐律師
右當事人間因發明專利異議事件，原告不服經濟部中華民國九十二年三月二十日經訴
字第○九二○六二○七○一○號訴願決定，提起行政訴訟，本院判決如左：
主 文
原告之訴駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事 實
一、事實概要：參加人於民國（下同）八十八年十一月二日以「半導體打線球墊構造 及其形成方法」向被告申請新型專利，經被告編為第00000000號審查， 准予專利。公告期間，原告以其有違系爭專利核准審定時專利法第二十條第一項 第一款及第二項之規定，不符發明專利要件，對之提起異議，參加人則於九十一 年八月十二日提出申請專利範圍修正本，案經被告審查，以九十一年十一月二十 一日（九一）智專三（二）○二○四八字第○九一八九○○二五四三號專利異議 審定書為「異議不成立」之處分。原告不服，提起訴願，遭決定駁回，遂提起行 政訴訟。本院因認本件撤銷訴訟之結果，參加人之權利或法律上利益將受損害， 爰依職權裁定命獨立參加被告之訴訟。
二、兩造聲明：
㈠原告聲明：
⒈訴願決定與原處分均撤銷。
⒉命被告重為本專利異議案成立之處分。
⒊訴訟費用由被告負擔。
㈡被告聲明：
如主文所示。
三、兩造之爭點：
系爭案是否違反核准審定時專利法第二十條第一項及第二項之規定？ ㈠原告主張：
⒈按專利法第十九條：「稱發明者，謂利用自法然則之技術思想之高度創作」 及第二十條第二項：「發明係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項 技術者所能輕易完成時，雖無前項所列情事，仍不得依本法申請取得發明專
利」規定，申請專利之發明應係指具有高度之創作精神者，且該創作精神係 熟習該項技術者所無法由既有之技術輕易推論而完成，始符合專利法第二十 條第二項進步性之規定；若僅係習用技術之組合與轉換，且屬一般業者所容 易想出者，自難謂具有高度創作之精神，顯然不符專利法第十九條發明專利 之定義，先予敘明。
⒉被告並未針對系爭專利是否係熟習該項技術者所能輕易完成加以審究，僅以 系爭專利與引證案不同，即為異議不成立之審定，顯然有誤。 ⑴按行政程序法第八條後段宣示行政行為應保護人民正當合理之信賴。且， 大法官解釋字五二五號亦明確指出：「信賴保護原則攸關憲法上人民權利 之保障，公權力行使涉及人民信賴利益而有保護之必要者，不限於授益行 政處分之撤銷或廢止（行政程序法第一百十九條、第一百二十條及第一百 二十六條參照）」。如行政機關頒布之現行有效且該機關公開對社會大眾 販售，人民已奉為圭臬、準則之行政規則，行政機關依據此項行政規則為 行政處分時，當然有信賴保護原則之適用。再者，行政機關為行政處分之 理由，縱使與裁量（學說上亦有稱之為判斷餘地者）有關，行政機關亦不 得任意改變向來之行為方式，致有損人民之信任感（Grundsatz des Verbots eines venire contra factum propium），此與誠信原則、平等 原則、比例原則等，同屬裁量處分應遵守之基本法律原則。 ①再者，專利審查基準乃被告之行政規則，被告均係依該基準之認定與判 斷標準作為專利申請之準則，申請人信賴依此準則所為之申請必能獲得 被告之肯認；是以，被告明顯違反此項準則之標準所為之處分，則必然 傷害人民之信賴而違反信賴保護原則。
②是以，就專利要件之新穎性與進步性的審查而言，雖係有關科技法律之 適用，可謂為行政機關行使職權時得自由判斷之裁量，惟該種裁量並非 完全之放任，其所為之個別判斷，仍應避免違背誠信原則、平等原則、 比例原則等一般法的規範。故，被告未按其行政規則，依一貫的標準進 行審查，實已違背誠信原則，顯然有裁量權濫用之虞。 ⑵按被告所頒行之「專利審查基準」第1-2-19頁所述：有關發明專利進步性 不足之「『輕易完成』係指不能超越熟習該項技術者所可預期的技術上的 一般發展，且單單可由先行技術推論而完成者。亦即，申請專利之發明具 有突出的技術特徵或顯然的進步時，即認為超越熟習該項技術者所可預期 之技術上一般發展，而非所能輕易完成者」；以及，同基準第1-2-21頁亦 明確指出：「『顯然的進步』係指申請專利之發明克服先前技術中存在的 問題點或困難性而言，通常係表現於功效上」。亦即，一發明相較於申請 當時之既有技術，若未具有增進之功效，則該發明應視為未具有顯然的進 步，屬熟習該項技術者所能輕易完成，而不具進步性。再者，前述之專利 審查基準中，除載明專利要件之進步性應以「突出的技術特徵」或「顯然 的進步」作為判斷依據，第1-2-22至1-2-23頁亦明確指出，若文字界定上 所導致之差異（構成要件之置換、變更、或省略）未能產生「突出的技術 特徵」或「顯然的進步」，仍應視為不具有專利要件之進步性。換言之，
專利要件之進步性的判斷，應以該發明相較於申請當時之既有技術（即異 議證據）是否具有增進之功效而為該項技術者所能輕易完成作為判斷標準 ；至於該發明與既有技術之異同，應非為用以論究專利要件之進步性的依 據。故原處分機關單以異議證據之形成方法與系爭案不同，完全忽視系爭 案相較於異議證據並未具有增進功效之事實，即指稱異議證據不能證明系 爭案不具進步性（亦即，系爭案具有專利要件之進步性），顯然與審查基 準之判斷標準不符，實有嚴重瑕疵。
⑶經查，系爭案「半導體打線球墊構造及其形成方法」之功效「提昇打線品 質及可靠度」主要係藉由「在球墊頂部形成具有規則形狀之平台供進行打 線」之創作精神所達成，而該創作精神「在球墊頂部形成具有規則形狀之 平台供進行打線」早於系爭案提出專利申請前，均已為異議證據所揭示。 ①首先，原告於九十年十一月十九日提起異議後，參加人瞭解系爭案「半 導體打線球墊構造及其形成方法」之技術內容確實已為異議證據所揭露 ，旋於九十一年八月十二日針對被異議案之申請專利範圍進行修正，將 原申請專利範圍第4項至第7項所界定之「半導體打線球墊構造」刪除， 同時將原申請專利範圍第2及3項方法專利併入原申請專利範圍第1項中 ；換言之，被異議案所界定之「半導體打線球墊構造」確已為異議證據 一、二、三所揭示而不具專利要件，應無疑義。 ②再者，後續雖系爭案之申請專利範圍「半導體打線球墊形成方法、半導 體打線球墊構造」已縮限修正為「半導體打線球墊形成方法」，但該種 申請專利範圍之縮限修正，顯然並未改變系爭案之創作精神係在於「在 球墊頂部形成具有規則形狀之平台供進行打線」之事實，該「半導體打 線球墊形成方法」僅為具體實現系爭案之創作精神的方法之一，且該「 半導體打線球墊形成方法」之各個步驟本身，並未能產生其他增進之功 效，相較於異議證據所揭示之內容並無實質差異。 ③換言之，系爭案雖於原告提起異議後修正限縮原申請專利範圍，惟系爭 案本身技術思想並未因申請專利範圍過廣之修正而有所改變，其申請專 利範圍在文字敘述上所產生的差異，並未變更其實質技術內容。且，就 系爭案所界定之方法本身而言，其各個步驟並無可專利之「突出的技術 特徵」或「顯然的進步」，相較於異議證據所揭示之內容，系爭案亦未 能產生無法預期之增進功效，明顯為熟習該項技術者所能輕易完成，實 難謂有技術上之創新與產業發展上之貢獻，絕非專利法所欲鼓勵者。 ⑷因此，系爭案所請之方法相較於異議證據一至三所揭示之內容，既無突出 的技術特徵亦未見顯然的進步，被告及訴願決定之理由中均未審究系爭案 所界定「半導體打線球墊形成方法」的各個步驟均已為異議證據所揭示， 且整體觀之，系爭案之方法並未能產生增進之功效，當屬熟習該項技術者 依異議證據所揭示之內容而能輕易完成，原處分及訴願決定顯然有誤，應 予以撤銷。
⒊為使鈞院得以瞭解系爭案之申請專利範圍經修正後所界定之「半導體打線球 墊形成方法」相較於異議證據一、二、三所揭示之內容，並無任何「突出的
技術特徵」或「顯然的進步」，確實不具專利要件之新穎性及進步性的事實 ，茲詳予說明如下：
⑴根據系爭案之說明書第五頁第八至十行所述：「‧‧‧本發明改良以上缺 點，其在球墊頂部設有一平台供進行打線，由於該平台具有平坦的表面及 相同的高度使得該球墊具有規則形狀而減少打線的變異性」；換言之，系 爭案之目的「減少打線之變異性」係基於「在球墊頂部形成一平臺並使該 平臺具有平坦的表面及相同的高度」而達成，而系爭案之「半導體打線球 墊形成方法」係用以在球墊頂部形成一平台並使該平台具有平坦的表面及 相同的高度的方法之一。
⑵首先，就系爭案之目的「減少打線之變異性」而言，依上述可知凡「用以 打線之球墊頂部形成有一平號號台且該平台具有平坦的表面及相同的高度 」即可達系爭案「減少打線之變異性」之功效；換言之，異議證據一、二 、三所揭示之方法中，該等方法所形成之球墊頂部係形成有一平台且該平 台具有平坦的表面及相同的高度，則必然可達與系爭案相等之功效，應無 庸置疑。
①經查，該種「頂部形成有一平台且該平台具有平坦的表面及相同的高度 」之球墊，確已分別為異議證據所揭示。
②況且，如在球墊上可提供形成相同高度且具更大面積之平坦表面時，勢 必將可更為有效地減少打線之變異性，參閱異議證據一之第6圖，顯示 出其可在球墊（球型銲塊）38上形成等高度且較系爭案具更大平坦化面 積。故就目的與功效而言，異議證據一及異議證據三不僅可達與系爭案 相等之功效，且異議證據一更可提供較系爭案為佳之功效，實難強稱系 爭案具有「顯然的進步」。
⑶依據被告所發布之專利審查基準第1-2-20頁，有關判斷進步性之基本原則 第1點指出：「判斷進步性時，應依據申請專利範圍之請求項所載發明」 。而比對系爭案之製程方法，即如其修正後之申請專利範圍第1項所述， 主要係包括下列步驟：①於一鋼嘴上將一導線一端燒成一球體；②將該鋼 嘴下降，植球於一銲墊上，以便使該球體在該銲墊上形成一球墊；③將該 鋼嘴往上升一適當距離，使該球墊頂部形成一環傾斜面，該距離為鋼嘴開 口環傾斜面的垂直高度，此時，該鋼嘴之夾具形成開啟狀態；④將該鋼嘴 往該球墊一側移動一適當距離，使該球墊頂部形成一平台頂部之平面、該 平面之寬度為該導線直徑的2/3至7/8之間。該球墊頂部形成一平台且減小 該球墊與導線的連接部以便被扯斷；及⑤將該鋼嘴上升一適當距離，以便 預留下次打線燒球的長度，再將該鋼嘴之夾具閉合並往上升，使該導線沿 熱影響區扯斷。惟，根據系爭案於其說明書中所自承之習知技術，亦如系 爭案之第1、2、3圖及說明書第四頁第十四至二十四行所述：「如第一圖 所示，‧‧‧一鋼嘴110位於該晶片100上將一導線120一端燒成一球體121 。如第二圖所示，該鋼嘴110往下降至該晶片100之焊墊101上進行植球‧ ‧‧而該鋼嘴110 則壓迫於該球體形成一球墊130。如第三圖所示，將該 鋼嘴110上升一適當距離，以便預留下次打線燒球的導線120長度，該鋼嘴
110之夾具111形成閉合，‧‧‧再該鋼嘴110往上移動時，該導線120及球 墊130沿著熱影響區（heat affected zone）斷裂」，該方法之步驟 (1) 、(2)及 (5)係形成打線球墊的基本步驟且為系爭案所自承之習知技術， 斷非用以論就系爭案之新穎性及進步性之依據，合先敘明。 ⑷又，系爭案所請之方法中，該「步驟 (3)將該鋼嘴往上升一適當距離」使 球墊頂部之平台具有相同的高度，以及「步驟 (4)將該鋼嘴往該球墊一側 移動一適當距離」使球墊頂部之平台具有平坦的表面，均已為異議證據一 、二或三所揭示而為熟習該項技術者所能直接推知，實難見「突出的技術 特徵」，茲進一步說明如下：
①就步驟 (3)而言，其主要係用以使球墊頂部之平臺具有相同的高度。惟 ，欲使球墊頂部之平臺具有相同的高度並非必然需藉由該「步驟 (3)將 該鋼嘴往上升一適當距離」加以達成，如異議證據一之第8圖所示「先 上升再下降至形成倒稜形狀 (即系爭案之環傾斜面)之適當高度」；異 議證據二之第1圖 (a)及第1圖 (b)「控制該鋼嘴下降時之距離」；以及 異議證據三之第 (e)圖所示「先上升再下降至形成凸起部（即系爭案之 環傾斜面）之適當高度」，均可達「使球墊頂部之平台具有相同的高度 」之目的。另一方面，如上所述，該系爭案之方法中，該步驟 (3)所 形成之環傾斜面亦已分別見於異議證據一第8圖之倒稜部形狀及異議證 據三第 (e)圖之凸起部8；故該步驟 (3)所形成之環傾斜面以及使球墊 頂部之平台具有相同的高度均已為異議證據所揭示，實難稱該步驟 (3) 具有任何「突出的技術特徵」。
②再就步驟 (4)而言，該步驟係藉由一水平移動而使球墊頂部之平台具有 平坦的表面。惟，證據二之第1圖 (c)及說明書第147頁已載明：「如第 １圖 (c)所示，將該鋼嘴水平移動，‧‧‧同時該鋼嘴1水平移動時亦 可藉其平坦底面4按壓於該球體10頂面上，以完成於基板銲墊上形成銲 塊11之製程」；換言之，該用以使球墊頂部之平台具有平坦的表面之步 驟 (4)亦已為異議證據二所揭示，毫無「突出的技術特徵」可言。 ⑸綜上所述，系爭案係使用其申請專利範圍所界定「半導體打線球墊形成方 法」係在球墊頂部形成一平臺並使該平台具有平坦的表面及相同的高度以 達「減少打線之變異性」之目的。惟，如上述，異議證據一、二、三已明 確揭示與系爭案之方法所形成"在球墊頂部形成一平臺並使該平臺具有平 坦的表面及相同的高度"之打線球墊相同之球墊構造，並具有與系爭案相 等之功效；故，以整體觀之，被議案並未具任何「顯然的進步」或「增進 之功效」。
①再者，就系爭案之方法本身而論，使球墊頂部平台具有平坦表面之方法 ，不外乎向下按壓 (異議證據一、三)或水平側移 (異議證據二)，而該 等方法均屬異議證據所揭示之習知技術；此亦足以說明，不論係使用向 下按壓或是水平側移的方式形成球墊頂部之平坦表面，均已為熟習該項 技術者所熟知並能任意選用者。原處分及訴願決定理由中，係以異議證 據一、三並未揭示如系爭案"將鋼嘴往該球墊一側移動一適當距離，使
該球墊頂部形成一平台頂部之平面"之步驟，以及證據二係將鋼嘴下降 壓接球體後並未再上升即水平移動以扯斷連接之導線，即指稱系爭案之 方法係不同於異議證據所揭示者；原處分及訴願決定均忽視系爭案「半 導體打線球墊形成方法」中的各個步驟均已見於異議證據，而該各個步 驟係屬熟習該項技術者可輕易組合而完成，並未存有任何須克服之困難 點，且系爭案所界定之方法相較於異議證據所揭示之內容，並無功效上 的增進，根據被告所頒行之專利審查基準，系爭案顯然不具專利要件之 進步性。
②又，系爭案經修正後之申請專利範圍所界定之「半導體打線球墊形成方 法」係針對該鋼嘴上升之適當距離以及該鋼嘴往該球墊一側移動之適當 距離加以具體界定；依其說明書之內容，該上升與側移之特定距離均係 為使所形成之球墊具有平坦表面與相同高度。惟，如前述，異議證據中 均已揭示藉由向下按壓或水平移動均可形成球墊頂部之平坦表面，以及 藉由控制鋼嘴下降高度 (即，系爭案先下降再上升適當距離之步驟) 調 整所形成之球墊高度；換言之，異議證據已明確指出系爭案用以形成球 墊平坦表面以及形成相同高度之方法。且，相較於異議證據所揭示之內 容，依系爭案說明書所述，系爭案之方法中的特定「上升距離」以及「 側移距離」，並無功效上的增進，亦未改變系爭案之創作精神，該種畫 蛇添足之界定，就技術內容而言並無實質上的改變，顯然係為規避其技 術手段已為異議證據揭示之事實。若此種未具功效上之增進，僅係為改 變而改變之修正均可獲准專利，則依此原則，日後僅需針對習知技術之 特定步驟以特定範圍加以限定，不需在技術以及功效上有所增進，即可 獲准專利，而排除他人實施該項技術之權利，必然會阻礙運用習知技術 所為創新與技術改良，而影響產業之發展，此絕非專利法之立法原意， 尚請鈞院詳查。
③有鑑於系爭案所請之方法相較於異議證據一至三所揭示之內容，既無突 出的技術特徵亦未見顯然的進步，被告及訴願決定之理由中均未審究系 爭案所界定「半導體打線球墊形成方法」的各個步驟均已為異議證據所 揭示，且整體觀之，系爭案之方法並未能產生增進之功效，當屬熟習該 項技術者依異議證據所揭示之內容而能輕易完成，原處分及訴願決定顯 然有誤，應予以撤銷。
⒋參加人於補充理由書中指稱：「原告所執以爭論系爭案進步性之判斷方式， 顯而諸多誤解而致對系爭案為錯誤之評價」云云。惟其係參加人之嚴重誤解 進步性之判斷依據及方式。
⑴事實上，根據被告所發布之專利審查基準第1-2-6頁，有關新穎性判斷之 基本原則第 (3)點指出：「判斷發明有無新穎性時，應以發明之技術內容 比對是否相同（含能由熟習該項技術者直接推導）為準。不相同即具有新 穎性；相同即不具新穎性」。
⑵亦即「發明與既有技術之異同，並非為用以論究專利要件之進步性依據， 而係用以判斷新穎性之基本原則」，因此，參加人誤認發明與既有技術之
異同為論就系爭案進步性之依據，實嚴重誤解進步性之判斷依據。 ⑶另根據被告所發布之專利審查基準第1-2-20頁，有關判斷進步性之基本原 則第3點指出：「判斷發明有無進步性時，應確實依據發明所屬技術領域 ，以及申請專利當時之技術水準 (the state of the art)，檢索申請當 日之前之既有技術及/或知識作為引證資料，以研判發明之技術手段之選 擇與結合，如其選擇與結合具有困難度，並非為熟習該項技術者所能輕易 完成者，即具有進步性；反之，如為熟習該項技術者基於引證資料所能輕 易完成者，則不具進步性」。
⑷復根據被告所發布之專利審查基準第1-2-20頁，有關判斷進步性之「判斷 方式」中指出：「判斷發明是否能輕易完成時，(1)准予將二件或二件以 上不同文獻之全部內容或其各該文獻之部分內容、或同一文獻之各不同部 分內容相互組合，(2)准予將先前技術 (prior art)之各片斷部分相互組 合，以判斷申請專利之發明是否具有突出的技術特徵或顯然的進步」。 ⑸亦即，系爭案進步性之比對依據及判斷方式係在於：檢索系爭案申請當日 之前之既有技術及/或知識作為引證資料，以研判發明之技術手段之選擇 與結合是否有困難，是否為熟習該項技術者基於引證資料所能輕易完成； 再者，於比對系爭案是否具進步性時，係可將不同引證證據中各不同部分 進行組合，再據以分析、判別系爭案之技術特徵，對於熟悉該項技術者在 瞭解引證證據內容後，能否輕易完成系爭案之技術特徵所在。 ⑹而本案原告即係對系爭案中所謂之不同於習知技術內容之技術特徵作比較 分析，進而確認系爭案之技術特徵係為熟悉該項技術領域者參酌申請前已 公開之習知技術所能輕易完成，因此，本案原告係依客觀證據之評量而確 知系爭案不符發明專利之進步性要件。
⒌另參加人於補充理由書中指稱：「查系爭案係藉銅嘴在球墊形成後之水平移 動以形成球墊上之平台，並於球墊平台形成後，將鋼嘴閉合往該球墊的垂直 方向上升，使該導線沿熱影響區扯斷而形成較小的尾端‧‧‧自具備有突出 的技術特徵；另系爭案藉由上述之技術特徵，其以鋼嘴水平移動來形成之球 墊平台避免了習知技藝以鋼嘴下壓致球墊平台過寬、球墊過扁之缺點；並且 鋼嘴之水平移動更減小了該球墊與導線之連接部，以便之後鋼嘴閉合上升扯 斷導線而成較小的尾端，避免了習知技藝球墊平台尾端高度不一所致之打線 變異過大之缺失‧‧‧足證明其具備有顯然的進步」。參加人比對系爭案與 證據一、二之技術內容後指稱：「相較習知技藝（含證據一、二）係以鋼嘴 下壓之方式來形成球墊平台，致所形成之球墊平台較為扁平亦較為寬大，從 而影響球墊之吸附減震功能‧‧‧」云云。惟查，參參加人於系爭案與異議 證據之比對過程中卻完全忽視異議證據三之技術內容（詳證據三之說明書圖 式）中即明確指出：於一鋼嘴上將一導線一端燒成一球體（圖1(a)所示）； 將該鋼嘴下降，植球於一銲墊上，以便使該球體在該銲墊上形成一球墊（如 圖1(b)所示）；將該鋼嘴往斜上移一適當距離，並使該球墊頂部形成一平台 （如圖1(c)所示）；下移該鋼嘴至該平台頂端（如圖1(d)所示，注意，其並 無下壓該平台）；將鋼嘴往該球墊一側移動一適當距離，以扯斷球墊與導線
的連接部（如圖1(d)所示）。亦即在證據三中，該球墊之結構型態係已完全 揭示系爭案之球墊形態，且其平台並非以下壓方式形成，斷無參加人所誤解 ，習知技藝中均係以鋼嘴下壓之方式來形成球墊平台，致所形成之球墊平台 較為扁平亦較為寬大，從而影響球墊之吸附減震功能之情事發生。 ⒍基於上述之事實及理由，足見被告之原處分及經濟部維持原處分之訴願決定 ，無論認事用法均有嚴重違誤，為此狀請判決如訴之聲明，以彰專利法旨， 並維社會公益。
㈡被告主張：
⒈異議證據一、三雖亦於球墊頂部形成一具平坦表面之平台，但皆須於上升鋼 嘴並水平移動後，又再使鋼嘴下降並反壓球墊而形成該平台，其方法相較系 爭案將鋼嘴上升一適當距離，使球墊頂部形成一環傾斜面，且該距離為鋼嘴 開口環傾斜面的垂直高度，而後即將該鋼嘴往該球墊一側（水平）移動一適 當距離等，不但方法上不同，且該證據一、三須增加向下按壓之步驟而較繁 複。而異議證據二將鋼嘴下降壓接球體後，並未再上升即水平移動扯斷連接 之導線，故其球墊頂部並未如系爭案形成平坦表面之平台，系爭案仍具進步 性。
⒉系爭案乃包含一系列步驟之整體方法，其中若干個別步驟仍延用習知技術， 不影響其整體方法之新穎性或進步性。此外系爭案既未如異議證據一、三之 「向下按壓」，亦非如異議證據二之僅單純的「水平側移」，亦難稱異議證 據已揭露系爭案形成球墊平坦表面及形成相同高度之方法。 ⒊綜上所述，被告原處分並無違法，敬請駁回原告之訴。 ㈢參加人主張：
⒈查原告所執系爭案「半導體打線球墊構造及其形成方法」應不予專利之理由 ，係以系爭案有違核准審定時所適用之八十三年一月二十一日修正公布之專 利法第二十條第一項第一款：「申請前已見於刊物或已公開使用」，以及同 條第二款：「發明係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所 能輕易完成」之規定，而向被告提起異議，嗣被告為「異議不成立」之處分 ，復經訴願機關為「訴願駁回」之決定，而執以向鈞院提起行政訴訟。 ⒉惟查原告所持以爭論系爭案有違八十三年一月二十一日修正公布之專利法關 於新穎性及進步性之理由，顯有諸多曲解法令、誤認事實之處，茲謹一一陳 述如後：
⑴為助鈞院瞭解系爭案具專利進步性之關鍵所在，參加人爰陳述其與引證一 、二、三之技術差異及所克服之困難點所在：
①習知技藝以及引證一、二、三之問題點所在： 按，半導體積體電路元件在進行封裝打線時，特別是覆晶打線技術領域 ，為避免打線時之施力而損壞積體電路元件之晶片銲墊，多會在晶片銲 墊上形成球墊以保護銲墊，因晶片銲墊上之球墊於形成後，將倒立置放 於基板上，因此球墊在製作時多於其上端形成一平台，以利其置放於基 板上。惟，關於球墊之形成，不論系爭案所揭露之習知技藝或引證一、 二、三，皆有其問題點存在，茲一一分述如下：
Ａ、系爭案中所揭露習知技藝之問題點：在形成半導體打線之球墊後， 為使球墊形成於晶片銲墊上，必須將導線與其所形成之球墊扯斷， 而扯斷時在球墊頂端必形成一尾端，而尾端之高度則取決於導線之 熱影響區。由於習知技藝係由鋼嘴往上拉升一相當之導線長度，然 後再以水平移動扯斷導線，因此在扯斷導線時其熱影響區並不一致 ，故而所形成球墊之尾端高度不一，而致影響導線之變異性。 Ｂ、引證一之問題點：關於球墊及其上平台之形成，由於引證一係於形 成圓形本體34及圓凸部36（34及36即為形成後之球墊）後，先向上 拉升一段長度之導線，然後再水平移動一段距離後，以鋼嘴下降施 壓之方式，使球墊表面形成平台，因此其形成之球墊相對較扁，當 應用於覆晶打線技術領域時，球墊會承受較大之剪應力，影響產品 可靠度。
Ｃ、引證二之問題點：與引證一相類，引證二是以鋼嘴水平移動扯斷導 線，同時在水平移動過程中以鋼嘴按壓球墊表面之方式來形成球墊 平台，因此其形成之球墊相對較扁，當應用於覆晶打線技術領域時 ，球墊會承受較大之剪應力，影響產品可靠度。 Ｄ、引證三之問題點：引證三關於球墊之形成係先將鋼嘴往上升一距離 ，後再將鋼嘴下降，以鋼嘴之平面部4擠壓球墊主體部7，以形成球 墊之凸起部8（平台），以此方式形成之球墊相對較扁，當應用於 覆晶打線技術領域時，球墊會承受較大之剪應力，影響產品可靠度 。
②系爭案所具有之獨特技術特徵暨其解決之問題點： Ａ、相較引證一、二、三係以鋼嘴下壓之方式來形成球墊平台，致所形 成之球墊形狀較為扁平，當應用於覆晶打線技術領域時，球墊會承 受較大之剪應力，影響產品可靠度，系爭案則係藉鋼嘴在球墊形成 後之水平移動以形成球墊上之平台，由於系爭案並非以鋼嘴下壓之 方式，故其所形成之平台寬度為導線直徑之三分之二至八分之七之 間，因此其球墊之功能較佳，相對地提高其半導體封裝產品之可靠 度。
Ｂ、相較系爭案說明書所揭露之習知技藝，由於該等習知技藝係以鋼嘴 拉升導線一定長度後再予以扯斷，由於其熱影響區範圍較大，故形 成之尾端較大且高度不一；反觀系爭案則以鋼嘴水平移動以形成球 墊平台，嗣後再以鋼嘴往該球墊的垂直方向上升來扯斷導線，由於 其導線在鋼嘴水平移動之過程其熱影響區範圍較小，故所形成之尾 端亦較細微，從而改善習知技藝形成球墊平台尾端高度不一所致之 打線變異性過大之缺失。
⑵系爭案相較習知技藝具有「突出之技術特徵」及「顯然的進步」，而符合 發明專利之進步性要件：
專利審查基準第1-2-21頁明文：「判斷發明是否能輕易完成時，應考慮發 明是否具有『突出的技術特徵』或『顯然的進步』」；「『突出的技術特
徵』乃指申請專利之發明對熟習該項技術者而言，若以先前技術為基礎， 仍然不易由邏輯分析、推理或試驗而得者。」；「『顯然的進步』乃指申 請專利之發明克服先前技術中存在的問題點或困難性而言，通常係表現於 功效上。」查系爭案係藉鋼嘴在球墊形成後之水平移動以形成球墊上之平 台，並於球墊平台形成後，將鋼嘴閉合往該球墊的垂直方向上升，使該導 線沿熱影響區扯斷而形成較小的尾端，其製程之設計與安排，絕非輕易透 過先前技藝加以邏輯分析或推理、試驗可得，自具備有「突出的技術特徵 」；另，系爭案藉由上述之技術特徵，其以鋼嘴水平移動來形成之球墊平 台避免了習知技藝以鋼嘴下壓致球墊平台過寬、球墊過扁之缺點；並且該 鋼嘴之水平移動更減小了該球墊與導線之連接部，以便之後鋼嘴閉合上升 扯斷導線而成較小的尾端，避免了習知技藝球墊平台尾端高度不一所致之 打線變異性過大之缺失。此種改良克服了習知技藝之問題點而具有增進之 功效，更足證明其具備有「顯然的進步」。簡言之，系爭案既具「突出的 技術特徵」與「顯然的進步」，其非熟習該項技藝者所能輕易完成而具進 步性之專利要件，實為明矣。
⑶原告所執以爭論系爭案進步性之判斷方式，顯有諸多誤解而致對系爭案為 錯誤之評價：
①判斷發明專利進步性要件之四步測試法：
判斷一發明是否為非能輕易完成而符合發明專利之進步性要件，包括下 述之四個評價步驟（四步測試法，Four Step Test）：一、確認申請前 已公開之先前技術或知識；二、比較申請專利之發明與申請前之習知技 藝差異；三、申請專利之發明與申請前之習知技藝之差異，是否為其所 屬技術領域中具有通常知識之人士參酌申請前已公開之習知技藝所得輕 易完成；四、客觀證據之評量。換言之，比較申請專利之發明與申請前 習知技藝間之差異，乃判斷發明專利進步性之先決步驟，先比對發現申 請專利之發明與習知技藝間存有差異後，始能進而探究該差異是否為熟 習該項技術者所能輕易完成，原告所稱「該發明與既有技術之異同，應 非為用以論究專利要件之進步性依據」云云，實嚴重誤解進步性之評價 步驟。
②申請專利範圍應以整體觀之（As a Whole），不可將之分裂支解而為過 低之評價：
於判斷比對申請專利之發明與申請前之習知技藝之差異時，應將申請專 利之發明所載之技術內容整體觀之（As a Whole），原告所稱系爭案之 各個步驟已為異議證據所揭示，實擅將申請專利之發明加以片段肢解而 分析，其極容易對之產生過低之評價。蓋發明的技術特徵散見於先前已 知的技術文獻中乃屬常態，故於組合前案技術來衡量申請專利發明之進 步性時，應著重其組合之過程，而非組合之事實，不能僅僅於不同之申 請前之先前技術中分別發現有申請專利之發明或創作所載之部分技術內 容，即以後見之明（hindsight）認定其不符進步性要件（參， Timmimgton v. United States, 31 USPQ 2d 1265, 1268（Fed. Cir.
1993）。相同之觀點亦可見於專利審查基準，如第1-2-20頁文獻組合應 注意事項中言明，組合所需之文獻為不同之文獻者，其數量越多，通常 視為非能輕易完成；前揭基準第1-2-28頁更明文述及審查委員在審查中 瞭解其技術內容後，極易對發明之進步性作成偏低之判斷，以致有『後 見之明』之情形，故審查時應以熟習該項技術者之觀點，根據申請當時 之技術水準，作客觀之判斷。
⒊綜上所陳，被告所為異議不成立之處分，及受理訴願機關所為之決定，均無 違法之處，請判決如被告機關所請。
理 由
一、按凡利用自然法則之技術思想之高度創作，而可供產業上利用者，得依法申請取 得發明專利，為系爭專利核准審定時專利法第十九條暨第二十條第一項所規定。 而公告中之發明，任何人認有違反前揭專利法第十九條至第二十一條規定者，依 法得自公告之日起三個月內備具異議書，附具證明文件，向專利專責機關提起。 從而，系爭專利有無違反專利法情事而應不予專利，依法應由異議人附具證據證 明之，倘其證據不足以證明系爭專利有違專利法之規定，自應為異議不成立之處 分。
二、本件系爭第00000000號「半導體打線球墊構造及其形成方法」發明專利 案，其球墊形成方法包含之步驟為：於一鋼嘴上將一導線一端燒成一球體；將該 鋼嘴下降，植球於一焊墊上，以便使該球體在該焊墊上形成一球墊；將該鋼嘴往 上升一適當距離，使該球墊頂部形成一環傾斜面，該距離為鋼嘴開口環傾斜面的 垂直高度，此時，該鋼嘴之夾具形成開啟狀態；將該鋼嘴往該球墊一側移動一適 當距離，使該球墊頂部形成一平台頂部之平面、該平面之寬度為該導線直徑的 2/3至7/8之間；該球墊頂部形成一平台且減小該球墊與導線的連接部以便被扯斷 ；及將該鋼嘴上升一適當距離，以便預留下次打線燒球的長度，再將該鋼嘴之夾 具閉合並往上升，使該導線沿熱影響區扯斷者。原告檢送之異議證一為八十五年 九月二十四日公開之美國第0000000號專利案 (即引證一)；證據二為七 十九年十月八日公開之日本平二─二五○三二八號專利案 (即引證二)；證據三 為八十六年五月十六日公開之日本特開平九─一二九六四五號案 (即引證三) 。 案經被告審查，認引證一及二皆未揭示如系爭案使球墊頂部成一環傾斜面後再構 成一平台；引證三則係待銲塊電極主體部形成後上升鋼嘴，又使鋼嘴再次下降而 於該銲塊電極主體部上形成一凸起部，亦與系爭案形成球墊後，僅將鋼嘴上升一 鋼嘴開口環傾斜面垂直高度距離，並未再下降即往該球墊一側移動等，在球墊之 形成方法上不同，故引證一至三不能證明系爭案球墊形成方法不具新穎性及進步 性，乃為異議不成立之處分。原告不服，依序提起訴願及行政訴訟；兩造及參加 人之主張，各如事實欄所載，其爭點厥為系爭案是否違反核准審定時專利法第二 十條第一項及第二項之規定？
三、經查，系爭案是一種方法之發明，其與引證一、二、三比較，目的雖均為「使球 墊頂部形成一平台」，惟形成的方法各不相同，形成之平台形狀亦不相同。質言 之，系爭案以習知技術植球於一銲墊上後，將鋼嘴往上升一適當距離，使球墊頂 部形成一環傾斜面，且該距離為鋼嘴開口環傾斜面的垂直高度，而後再將該鋼嘴
往該球墊一側移動一適當距離，使該球墊頂部形成一平台；而引證一於形成倒稜 形狀後，其鋼嘴上升距離較高，且係先水平移動，再下降該鋼嘴並反壓先前形成 球墊使其呈扁平狀；而引證二係將鋼嘴下降壓接球體後，並未再上升即水平移動 以扯斷連接之導線；引證三亦為上升鋼嘴一距離，後再將鋼嘴下降，以鋼嘴擠壓 球墊主體部，以形成球墊之凸起部（平台）；顯見引證一至三之形成平台之方法 與系爭案各不相同，自不能證明系爭案不具新穎性。又引證一、二、三均係以鋼 嘴下降施壓之方式，使球墊表面形成平台，因此其形成之球墊相對較扁，下面之 晶片銲墊亦會受到壓力，而承受較大之剪應力，影響產品可靠度；系爭案則係藉 鋼嘴在球墊形成後之水平移動以形成球墊上之平台，由於非以鋼嘴下壓之方式， 故其所形成之平台寬度為導線直徑之三分之二至八分之七之間，具有規則形狀， 進而使該球墊的打線變易性減小，相對地提高其半導體封裝產品之可靠度（見系 爭案申請專利範第四項所載），足見系爭案相較於引證一、二、二，非但有突出 的技術待徵，且有顯然的進步，實非熟習該項技藝者所能輕易完成者，故引證一 、二、三亦不能證明系爭案不具進步性。至於原告於九十三年九月二十九日所提 出之補充理由（一）狀雖訴稱引證三「下移該鋼嘴至該平台頂端（如圖1(d)所示 ），其並無下壓該平台」），其技術內容與系爭案相同乙節，姑不論原告於其起 訴狀第九頁到數第一、二行，已陳稱引證三使球墊頂部具有平坦表面之方法，為 「向下按壓」；且查引證三之專利說明中亦已載明如圖1(d)所示，鋼嘴再度下降 ，以鋼嘴之平坦部「擠壓」主體部，以形成凸起部（平台）（見卷附特開平九─
一二九六四五號公開特許公報第三頁），是原告上開所訴，與事實不符，應無足 採。
四、綜上所述，系爭案並未違反核准審定時專利法第二十條第一項第一款及第二項之 規定，被告為本件異議不成立之處分，洵無違誤，訴願決定予以維持，亦無不合 。原告仍執前詞，訴請撤銷訴願決定及原處分，並命被告作成異議成立之處分， 均無理由，應予駁回。
據上論結，本件原告之訴為無理由，依行政訴訟法第九十八條第三項前段，判決如主文。
中 華 民 國 九十三 年 十 月 十三 日 臺 北 高 等 行 政 法 院 第 一 庭
審 判 長 法 官 徐瑞晃
法 官 蕭惠芳
法 官 李得灶
右為正本係照原本作成。
如不服本判決，應於送達後二十日內，向本院提出上訴狀並表明上訴理由，如於本判決宣示後送達前提起上訴者，應於判決送達後二十日內補提上訴理由書（須按他造人數附繕本）。
中 華 民 國 九十三 年 十 月 二十 日 書記官 陳清容
, 台灣公司情報網