保全證據
智慧財產法院(民事),民專抗字,114年度,2號
IPCV,114,民專抗,2,20250731,2

智慧財產及商業法院民事裁定
114年度民專抗字第2號
抗 告 人 友威科技股份有限公司

法定代理人 李原吉

代 理 人 楊理安律師
趙嘉文專利師
吳俊億專利師
相 對 人 凌嘉科技股份有限公司

法定代理人 陳連春
上列當事人間保全證據事件，抗告人不服民國114年3月4日本院
114年度民聲字第3號裁定，提起抗告，本院裁定如下：
主 文
一、抗告駁回。
二、抗告訴訟費用由抗告人負擔。　　
　　理 由
一、本件聲請意旨略以：
　　抗告人為我國第I817606號「雙電極連續式電漿製程系統」 發明專利（下稱系爭專利）專利權人，專利期間自民國112 年10月1日至131年7月12日，相對人凌嘉科技股份有限公司 （下稱相對人）前於113年9月3至6日參加經濟部能源發展署 金屬工業研究發展中心SEMICON Taiwan國際半導體展（下稱 113年國際半導體展），就FOPLP蝕刻及濺鍍技術進行發表會 （下稱系爭發表會），其中一組型號為「MOOOO OOOOOO」之 電漿製程機台（下稱系爭產品），經比對分析已落入系爭專 利請求項1、2之專利範圍。然系爭產品價格昂貴且體積龐大　　，且兩造間為競爭關係，難以自行購入系爭產品及取得相關 文書進行蒐證，為免相對人日後竄改或隱匿相關文書資料， 致證據有滅失或礙難使用之虞，以及確認損害賠償之範圍與 金額，爰依民事訴訟法第368條規定聲請保全證據。二、原審裁定意旨：
　　觀諸抗告人所提系爭產品照片（聲證6），該濺鍍系統雖為 連續式且具備一電漿蝕刻模組，惟無從得知系爭產品電漿處 理模組是否具備雙電極，且由系爭產品照片可知其電漿蝕刻 模組之電漿產生方式採「感應耦合(ICP)」方式，但系爭專 利之電漿產生方式並不具備「感應耦合（ICP）」之特徵； 系爭產品照片無法具體呈現各模組位置，亦無法直接以特徵 區分各模組，況照片下方表格亦未揭露任何與上載加工物之



腔體、或下載腔體有關的模組；又該照片亦無法具體得知其 是否包含一控制器、一夾持裝置、一位移裝置、耦接該控制 器的一第一電極、一第二電極、一第一射頻電源以及一第二 射頻電源，亦未呈現電漿模組之內部構造等，難以判斷系爭 產品有無落入系爭專利請求項1之文義或均等範圍。系爭專 利請求項2依附於請求項1，包含請求項1之全部技術特徵， 依抗告人所舉事證不足以釋明系爭產品被系爭專利請求項1　　、2所文義讀取，亦不足以釋明系爭產品有落入系爭專利請 求項1、2均等範圍之可能。此外，抗告人亦未提出其他證據 釋明相對人有將系爭產品或相關文書等證據故意隱匿、銷燬 等客觀事證，故依抗告人所提資料均不足以釋明本件有證據 滅失或礙難使用之虞，且就本件有何確定事物現狀之法律上 利益，亦未見抗告人提供即時可調查證據釋明，自難認有保 全證據之必要性。從而，抗告人聲請就位於相對人廠房內之 系爭產品以拍照、錄影或其他必要方式進行現場勘驗，並就 系爭產品之合約書、規格書、說明書、使用（操作）手冊、 平面圖、三維立體圖面（3D圖面）、型錄、規劃建議書、報 價單、出貨單、統一發票、收付貨款銀行往來明細，以及相 對人自112年10月1日起至證據保全執行日止之營業帳冊等相 關資料予以保全，並未釋明本件有確定事、物之現狀之法律 上利益且有必要之情事，核與民事訴訟法第368條第1項規定 不合，而駁回抗告人之聲請等語。
三、抗告意旨略以：
　　系爭產品之電漿蝕刻模組為ICP-RIE（感應耦合電漿反應性 離子蝕刻）架構（下稱ICP-RIE），原裁定誤解為僅包含ICP 架構，且系爭專利請求項1之「雙電極連續式電漿製程腔體　　」沒有限制其不能為ICP架構，原裁定逕以系爭專利不具備 「感應耦合（ICP）」特徵，駁回抗告人請求，顯然有誤。 又若要符合「ICP-RIE」技術模式，勢必就會需要一組由螺 旋、圓柱狀或平環狀的電源電極模組，以及另外一組耦接待 加工物（基板、晶圓）的電源電極模組，即具備雙電極符合 系爭專利請求項1要件1A之技術特徵。又系爭產品既為連續 式電漿製程系統，所屬技術領域中具有通常知識者可知連續 式電漿製程系統必定包含有載入待加工物的上載腔體、進行 電漿製程的製程腔體以及將完成加工之待加工輸出的下載腔 體，且上述三者必須彼此連通，始能完成電漿製程程序；如 參考與系爭產品具有高度相似架構之聲證10，亦足以認定系 爭產品確有落入系爭專利請求項1要件1B、1C、1E文義範圍 及均等範圍之高度可能，然原裁定逕以系爭產品照片無法辨 識上載、下載腔體，認定未落入系爭專利請求項1要件1B、1



C或1E之文義或均等範圍，顯然有誤。再者，系爭產品之ICP -RIE電漿蝕刻模組因具備有雙電極架構，為要分別控制ICP 及RIE，必然具備控制器、位移裝置與兩個獨立的電極及電 源等，可分別對應系爭專利之控制器、位移裝置第一電極、 第二電極、第一射頻電源以及第二射頻電源，此外，依聲證 7足以證明系爭產品具有抗翹曲裝置設計，亦可對應系爭專 利之夾持裝置，來防止加工物翹曲，因此系爭產品具備系爭 專利請求項1要件1D所有物件，有高度落入該請求項之文義 範圍可能，且要件1D之技術特徵功用，係為讓待加工物在雙 電極的架構下進行電漿製程，並可分別控制雙電極的輸出能 量，系爭產品所揭露ICP-RIE架構，亦必然會落入要件1D之 均等範圍。準此，抗告人已釋明系爭產品有高度可能落入系 爭專利請求項1之文義或均等範圍。此外，依聲證8之專利侵 權比對分析亦釋明系爭產品有落入系爭專利請求項2之文義 或均等範圍可能，爰請求廢棄原裁定並准予抗告人保全證據 聲請等語。
四、按民事訴訟法之證據保全制度，固由原本防止證據滅失或礙 難使用，避免將來於訴訟中舉證困難之預為調查功能，擴大 及於賦與當事人於起訴前充分蒐集事證資料之機會，助益於 當事人研判紛爭之實際狀況，進而成立調解或和解，以消弭 訴訟，於同法第368條第1項後段增訂「就確定事、物之現狀　　」，亦得聲請為鑑定、勘驗或保全書證之規定，然限於「有 法律上利益並有必要」時，始得為之，以防止濫用而損及他 造之權益，並避免司法資源之浪費。又保全證據之聲請，除 應表明應保全之證據、依該證據應證之事實、應保全證據之 理由，並應就應保全證據之理由予以釋明，此觀同法第370 條第1項、第2項規定即明（最高法院107年度台抗字第939號 裁定意旨參照）。
五、經查：
(一)本件未釋明有證據滅失或礙難使用之虞：　⒈按所謂證據有滅失或礙難使用之虞，係指若不及時為證據保 全，證據有滅失或礙難使用之虞之情形。又證據保全必須有 時間上之迫切性，倘於訴訟繫屬後之調查證據程序中即可為 調查，則無證據調查之迫切需要，否則證人必有死亡日，證 物於物理上亦有滅失之日，倘任何證據均有滅失之虞，悉得 依證據保全之程序預為調查，即非證據保全之立法目的。　⒉抗告人固主張因相對人之系爭產品價格昂貴且體積龐大，且 其與相對人為競爭關係，為避免相對人日後修改產品結構或 隱匿相關文書資料，致有證據滅失或礙難使用之虞。惟查， 系爭產品既經相對人發表於113年國際半導體展，自無刻意



隱匿之情事，抗告人並未能舉出客觀事證釋明相對人將有修 改系爭產品結構或隱匿相關文書資料等情事，僅憑抗告人之 主觀抽象臆測，尚無從認定本件證據有毀損、滅失或有致抗 告人礙難使用證據之虞，即無保全證據之必要。(二)本件未釋明有確定事、物現狀之法律上利益並有必要：　　系爭專利請求項1之要件解析如附表。抗告人主張相對人產 製之系爭產品有高度可能落入系爭專利請求項1、2之文義及 均等範圍，固提出聲證6之技術發表會投影片、聲證7之相對 人公司簡介截圖、聲證8之專利侵權比對分析報告為證。惟 查：
　⒈聲證7僅為相對人公司之簡介，聲證8乃抗告人自行提出之侵 權分析報告，其並非以系爭產品實物為比對分析，而係以系 爭產品之技術文件投影片即聲證6為比對的對象，均不足以 據此認定系爭產品有落入系爭專利請求項1、2之文義及均等 範圍。又依抗告人所提聲證6（原審卷第63頁）顯示，系爭 產品其電漿蝕刻模組為ICP-RIE架構系統，對於所屬技術領 域中具有通常知識者可知，其電漿係藉由感應耦合(ICP)之 方式產生，即利用射頻電流通過纏繞在反應腔外部的感應線 圈（形狀可為平面螺旋、圓柱形或半環形）產生時變磁場， 根據法拉第電磁感應定律，磁場在腔內氣體中誘發出環向電 場，從而激發並維持電漿。然而依系爭專利請求項1要件1D 之記載「一種雙電極連續式電漿製程系統，其包括：一製程 腔體，該製程腔體具有一第一電極、一第二電極、一第一射 頻電源以及一第二射頻電源，該第一電極與該第二電極相對 設置於該製程腔體內的兩端並形成一加工空間」，即系爭專 利之電漿係藉由製程腔體內的第一射頻電源、第二射頻電源 分別施加於該製程腔體內的第一電極、第二電極產生（參系 爭專利圖式6之示意圖），此與系爭產品藉由射頻電流通過 纏繞在反應腔外部的感應線圈之產生方式明顯不同。據此， 系爭產品與系爭專利請求項1用以產生電漿之電極配置方式 已明顯不同，致其產生電漿之方式亦不相同，亦即系爭產品 與系爭專利應屬不同之電漿製程系統，縱認系爭產品具有可 對應系爭專利請求項1之「上載腔體」、「製程腔體」、「　　下載腔體」之技術內容，亦難認系爭產品有落入系爭專利請 求項1之文義及均等範圍之可能。又系爭專利請求項2依附於 請求項1，包含請求項1之全部技術特徵，系爭產品既未落入 系爭專利請求項1之文義或均等範圍，即未落入系爭專利請 求項2之文義及均等範圍。準此，抗告人並未釋明系爭產品 有落入系爭專利請求項1、2之文義及均等範圍而有侵權可能 之情事。




　⒉抗告人雖稱系爭專利請求項1沒有限制不能為ICP架構，且依 系爭專利圖3的第一電極可對應ICP架構，又系爭產品採用兩 組不同的電極設計進行電漿製程，即具備雙電極符合系爭專 利請求項1之技術特徵云云。惟查，系爭專利請求項1已明確 記載用以產生電漿之第一電極、第二電極是設置於製程腔體 內，並形成一加工空間，此復為抗告人於原審陳明系爭專利 請求項1有限定第一、第二電極要位於製程腔體之内等語（　　原審卷第270頁）明確，核與系爭產品藉由射頻電流通過纏 繞在反應腔外部的感應線圈之產生方式，明顯不同。又解釋 專利請求項本不得將說明書或圖式有揭露但請求項未記載之 內容引入請求項，是以系爭專利圖3所示之第一電極，當無 法對應前述ICP架構反應腔外部的感應線圈，更難謂抗告人 所稱系爭專利請求項1系統可為ICP架構，故抗告人之主張並 非可採。
　⒊綜上，依抗告人所提證據尚不足以釋明系爭產品有落入系爭 專利請求項1、2文義或均等範圍，故其主張系爭專利受到侵 害，請求就相對人位於廠房之系爭產品以拍照、錄影或其他 必要方式進行現場勘驗，並就系爭產品之合約書、規格書、 說明書、使用（操作）手冊、平面圖、三維立體圖面（3D圖 面）、型錄、規劃建議書、報價單、出貨單、統一發票、收 付貨款銀行往來明細，以及相對人自112年10月1日起至證據 保全執行日止之營業帳冊等相關資料予以保全，有確定系爭 產品侵權與否、損害賠償認定及數額計算之法律上利益並有 必要，難認有據。
六、綜上所述，本件依抗告人所提事證難認其就確定事、物之現 狀有何法律上利益且有必要性，且抗告人就相關證據資料有 何滅失或礙難使用之虞情形，亦未提出可供本院即時調查之 客觀證據以為釋明，故本件保全證據之聲請自不應准許。從 而，原裁定駁回抗告人保全證據之聲請，核無不合，抗告意 旨指摘原裁定不當，求予廢棄，為無理由，應予駁回。七、據上論結，本件抗告為無理由，爰裁定如主文。　　中　　華　　民　　國　　114 　年　　7 　　月　　31　　日 智慧財產第一庭
審判長法 官　汪漢卿
法 官　曾啓謀
法 官　吳俊龍
以上正本係照原本作成。
本裁定除以適用法規顯有錯誤為理由外，不得再抗告。如提起再抗告，應於收受送達後10日內委任律師為代理人向本院提出再抗告狀，並繳納再抗告費新臺幣1,500元。　



中　　華　　民　　國　　114 　年　　8 　　月　　6 　　日　　　　　　　　　　　　 　 書記官　蔣淑君