智慧財產及商業法院民事判決
111年度民專訴字第37號
原 告 黃秀媛
訴訟代理人 黃世瑋律師
輔 佐 人 詹偉鴻
被 告 超越群科技有限公司
兼法定代理人 周文禮
被 告 費西產品設計研發有限公司
兼法定代理人 陳冠名
共 同
訴訟代理人 林冠佑律師
輔 佐 人 詹豐隆
上列當事人間請求侵害專利權有關財產權爭議等事件，本院於民
國113年7月18日言詞辯論終結，判決如下：
主 文
原告之訴及假執行之聲請均駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
甲、程序方面：
按智慧財產案件審理法民國112年1月12日修正之條文施行前 ，已繫屬於法院之智慧財產民事事件，適用本法修正施行前 之規定，112年1月12日修正、同年8月30日施行之智慧財產 案件審理法第75條第1項前段定有明文。本件係智慧財產案 件審理法修正施行前即111年1月6日繫屬於本院，此有民事 起訴狀上本院收狀章在卷為佐（見本院卷一第13頁），是本 件應適用修正前之規定，合先敘明。
乙、實體方面：
壹、原告主張：
一、原告為中華民國發明專利證書第1630405號「雷射干擾器」 專利（下稱系爭專利1）、中華民國發明專利證書第1630406 號「雷射干擾器」專利（下稱系爭專利2，與系爭專利1合稱 系爭專利）之專利權人。原告於110年1月間發現訴外人康璿 科技有限公司（下稱康璿公司）所銷售之「南極星HP-3 PLU S雷射二極體防護罩」產品（下稱系爭產品1）有侵害系爭專 利權之虞。進行專利比對後，發現系爭產品1具有系爭專利1 請求項1之技術特徵，而對系爭專利1請求項1至7、11至13構 成文義侵權，對請求項8、10構成均等侵權。且系爭產品1亦 有系爭專利2請求項1之技術特徵，而對系爭專利2請求項1至 3、5、6、9至11、13、14構成文義侵權，對請求項4、7、8 、12、15構成均等侵權。嗣經原告詢問得知系爭產品1係被
告費西公司製造並出貨與康璿公司。又被告費西公司製造由 被告超越群公司販賣之系爭產品2、被告費西公司製造由康 璿公司販賣之系爭產品3(與系爭產品1、2，合稱系爭產品) ，經原告進行侵害鑑定比對，發現系爭產品2對系爭專利1請 求項1至7、11至13構成文義侵害、對請求項8、10構成均等 侵害；對系爭專利2請求項第1至3、5、6、9至11、13、14構 成文義侵害，對請求項4、7、8、12、15構成均等侵害；系 爭產品3落入系爭專利1請求項1至7、11至13之文義範圍，請 求項8、10之均等範圍；系爭產品3落入系爭專利2請求項1至 3、5、6、9至11、13、14之文義範圍、請求項4、7、8、12 、15之均等範圍。綜上，原告爰依專利法第96條第1、3項、 民法第185條、公司法第23條規定，對被告等請求排除侵害 暨連帶損害賠償，並銷毀侵害系爭專利之系爭產品。二、並聲明：
㈠被告超越群公司不得自行或使第三人為製造、販賣、為販賣 之要約、使用或基於上述目的而進口系爭產品1、2之行為； 被告費西公司不得自行或使第三人為製造、販賣、為販賣之 要約、使用或基於上述目的而進口系爭產品1至3之行為。 ㈡被告超越群公司應將其販賣、為販賣要約之系爭產品1、2全 數回收並銷毀；被告費西公司應將其製造、販賣之系爭產品 1至3全數回收並銷毀。
㈢被告費西公司、陳冠名應連帶給付原告100萬元，暨自本起訴 狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利率5%計算之利息 。
㈣被告超越群公司及費西公司，或被告超越群公司及周文禮， 或被告費西公司及陳冠名應連帶給付原告100萬元，暨自本 起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利率5%計算之 利息。如其中一被告為給付，其餘被告免除給付之義務。 ㈤訴訟費用由被告等負擔。
㈥就上開訴之聲明第三項、第四項，原告願供擔保，請准宣告 為假執行。
貳、被告等則以：
一、系爭產品均未落入系爭專利之文義範圍：
依原告所提鑑定報告，無法確認係經由具有專業資格之鑑定 機關之人所做成，且其檢測方法亦無法確認系爭諸產品與系 爭二專利間之差異，因而無法證明系爭諸產品確實侵害系爭 二專利。又被告等於系爭專利申請前，於我國實施系爭專利 之技術，並用於系爭產品之先前產品，符合專利法第59條第 1項第3款先使用權抗辯規定。
二、系爭專利均不具進步性：
針對系爭專利1而言，被證2、3之組合足以證明系爭專利1請 求項1、6不具進步性，被證2、3、6之組合足以證明系爭專 利1請求項2至5、11至13不具進步性，被證1至3之組合足以 證明系爭專利1請求項7不具進步性，被證1、2、3及6之組合 足以證明系爭專利1請求項8、10不具進步性。針對系爭專利 2而言，被證2、3、6及7之組合足以證明系爭專利2請求項1 至7、9至15不具進步性，被證1、2、3、6及7之組合足以證 明系爭專利2請求項8不具進步性。
三、並聲明：
㈠原告之訴及其假執行之聲請均駁回。
㈡訴訟費用由原告負擔。
㈢如受不利判決，被告願供擔保請准宣告免為假執行。 參、兩造不爭執事項：(本院卷四第467至468頁，並依本院論述 與妥適調整文句)
一、原告為系爭專利1之專利權人。系爭專利1申請日為106年4月 13日，公告日為107年7月21日，專利權期間126年4月12日止 。
二、原告為系爭專利2之專利權人。系爭專利申請日為106年4月1 3日，公告日為107年7月21日，專利權期間126年4月12日止 。
三、被告費西公司開發、設計、製造系爭產品1。四、被告費西公司開發、設計、製造系爭產品2，並供貨由被告 超越群公司販售。
五、被告費西公司開發、設計、製造系爭產品3。肆、本件爭點：(本院卷五第87至90頁、本院卷六第394頁，並依 本院論述與妥適調整文句)
一、專利侵權部分：
㈠系爭產品1是否落入系爭專利1請求項1至7、11至13文義範圍 ？是否落入系爭專利1請求項8、10均等範圍？ ㈡系爭產品1是否落入系爭專利2請求項1至3、5至6、9至11、13 至14文義範圍？是否落入系爭專利2請求項4、7至8、12、15 均等範圍？
㈢系爭產品2是否落入系爭專利1請求項1至7、11至13文義範圍 ？是否落入系爭專利1請求項8、10均等範圍？ ㈣系爭產品2是否落入系爭專利2請求項1至3、5至6、9至11、13 至14文義範圍？是否落入系爭專利2請求項4、7至8、12、15 均等範圍？
㈤系爭產品3是否落入系爭專利1請求項1至7、11至13文義範圍 ？是否落入系爭專利1請求項8、10均等範圍？ ㈥系爭產品3是否落入系爭專利2請求項1至3、5至6、9至11、13
至14文義範圍？是否落入系爭專利2請求項4、7至8、12、15 均等範圍？
㈦被告等可否主張專利法第59條第1項第3款之先使用權抗辯？二、專利有效性部分：
㈠系爭專利1：
⒈被證2、3之組合是否足以證明系爭專利1請求項1、6不具進步 性?
⒉被證2、3及6之組合是否足以證明系爭專利1請求項2至5、11 至13不具進步性?
⒊被證1、2及3之組合是否足以證明系爭專利1請求項7不具進步 性?
⒋被證1、2、3及6之組合是否足以證明系爭專利1請求項8、10 不具進步性?
㈡系爭專利2：
⒈被證2、3、6及7之組合是否足以證明系爭專利2請求項1至7、 9至15不具進步性?
⒉被證1、2、3、6及7之組合是否足以證明系爭專利2請求項8不 具進步性?
三、原告依專利法第96條第2項、公司法第23條第2項、民法第18 5條之規定，請求被告等對原告連帶負損害賠償責任，有無 理由？若有，則金額為何？
四、原告依專利法第96條第1項、第3項，請求被告超越群公司、 費西公司排除侵害並銷毀系爭產品，有無理由？伍、系爭專利及系爭產品技術內容(被告等所提專利有效性之證 據技術內容部分不另於本判決逐一分析，理由詳後述)：一、系爭專利1技術分析：
㈠系爭專利1之技術內容：
系爭專利1係關於一種雷射干擾器，包括：一光接收器，供 接收一包括複數入射脈波之入射雷射光並產生一與該複數入 射脈波相關聯之入射光訊號；一光發射器；一處理單元，依 據該入射光訊號計算該複數入射脈波之相鄰㈡者之間的間隔 時間、且驅動該光發射器產生一干擾雷射光，該干擾雷射光 包括複數干擾脈波，該複數干擾脈波間斷地各於該複數入射 脈波之間隔時間內發射、且各持續至重疊於其中一該入射脈 波（見系爭專利1摘要，本院卷一第37頁）。 ㈡系爭專利1之主要圖式：
⒈系爭專利1圖2為雷射干擾器之分解圖
⒉系爭專利1圖4為雷射干擾器之結構方塊圖
⒊系爭專利1圖6為訊號干擾示意圖
㈢系爭專利1申請專利範圍：
系爭專利1核准公告之請求項共13項，其中請求項1為獨立項 ，其餘為附屬項。被告對系爭專利1提起舉發，原告則提出 申請專利範圍更正本（110年7月9日更正本），經智慧財產 局於112年4月14日審定「110年7月9日之更正事項，准予更 正。請求項1至13舉發不成立」。系爭專利1更正後請求項1 至13內容如下：
⒈請求項1：
一種雷射干擾器，包括：
一光接收器，供接收一包括複數入射脈波之入射雷射光並產 生一與該複數入射脈波相關聯之入射光訊號；
一光發射器；
一處理單元，依據該入射光訊號計算該複數入射脈波之相鄰 二者之間的間隔時間、且驅動該光發射器產生一干擾雷射光 ，該干擾雷射光包括複數干擾脈波，該複數干擾脈波間斷地 各於該複數入射脈波之間隔時間內發射、且各持續至重疊於 其中一該入射脈波。
⒉請求項2：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該干擾脈波之振幅大於 該入射脈波之振幅，該光接收器連接於一電路板，該電路板 之一側設有一金屬罩，該金屬罩遮罩該光接收器。 ⒊請求項3：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中各該干擾脈波持續至重 疊於其中一該入射脈波之1/2以上，該光接收器連接於一電 路板，該電路板之一側設有一金屬罩，該金屬罩遮罩該光接 收器。
⒋請求項4：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該干擾雷射光之發射訊 號頻率與該入射雷射光之發射訊號頻率相同，該光接收器連 接於一電路板，該電路板之一側設有一金屬罩，該金屬罩具 有一跨隙，該跨隙跨過該電路板之一電路。
⒌請求項5：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該複數入射脈波之數量 至少為3個，該光接收器及該光發射器連接於一電路板，該 電路板之一側設有一金屬罩，該金屬罩遮罩該光接收器；該 金屬罩具有一跨隙，該跨隙跨過該電路板之一電路，該濾波 透鏡設於一外殼，該光接收器及該光發射器設於該外殼中。 ⒍請求項6：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該處理單元包括一與該 光接收器通聯之第一級放大器、一與該第一級放大器通聯之 第二級放大器、一與該第二級放大器通聯之處理器，該處理 器與該光發射器通聯，該第一級及第二級放大器處理該入射 光訊號成一放大訊號，該處理器依據該放大訊號間隔時間、 且驅動該光發射器產生該干擾雷射光。
⒎請求項7：
如請求項6所述的雷射干擾器，其中該第一級放大器為電晶 體放大器，該第二級放大器為視頻放大器，該處理單元另包 括一通聯於該視頻放大器與該處理器之間的比較器，該比較 器設有一閥值，該比較器僅允許經該視頻放大器處理後之放 大訊號大於該閥值的峰部部分通過，該等峰部部分中之相鄰 二者之間間隔該間隔時間。
⒏請求項8：
如請求項7所述的雷射干擾器，其中該閥值設為該放大訊號 之電壓值、電流值或振幅值，該光接收器連接於一電路板， 該電路板之一側設有一金屬罩，該金屬罩遮罩該光接收器， 該金屬罩具有一跨隙，該跨隙跨過該電路板之一電路。 ⒐請求項9：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中於該光接收器之前方另 設有一濾波透鏡，該濾波透鏡僅允許700奈米至950奈米波長 的光通過，該濾波透鏡設於一外殼，該光接收器及該光發射 器設於該外殼中。
⒑請求項10：
如請求項8所述的雷射干擾器，其中該光接收器包括至少一 光電二極體，該光發射器包括至少一雷射二極體；該光電二 極體具有一介於40度至80度之光接收角，該雷射二極體具有 一介於15度至45度之光發射角；該干擾雷射光與該入射雷射 光之發射訊號頻率相同，該干擾雷射光與該入射雷射光之波 長介於850奈米至910奈米之間，該發射訊號頻率介於100赫 茲至600赫茲之間；該干擾脈波之振幅大於該入射脈波之振 幅；各該干擾脈波持續至重疊於其中一該入射脈波之3/4以 上；該複數入射脈波之數量至少為3個，該干擾雷射光相對 地於其前三個入射脈波之後發射；於該光接收器之前方另設 有一濾波透鏡，該濾波透鏡為塑材且僅允許700奈米至900奈 米波長的光通過，該光接收器及該光發射器連接於一電路板 ，該電路板之一側設有一金屬罩，該金屬罩遮罩該光接收器 ；該金屬罩具有一跨隙，該跨隙跨過該電路板之一電路，該 濾波透鏡設於一外殼，該光接收器及該光發射器設於該外殼 中。
⒒請求項11：
如請求項2所述的雷射干擾器，其中該處理單元包括一與該 光接收器通聯之第一級放大器、一與該第一級放大器通聯之 第二級放大器、一與該第二級放大器通聯之處理器，該處理 器與該光發射器通聯，該第一級及第二級放大器處理該入射 光訊號成一放大訊號，該處理器依據該放大訊號間隔時間、 且驅動該光發射器產生該干擾雷射光。
⒓請求項12：
如請求項3所述的雷射干擾器，其中該處理單元包括一與該 光接收器通聯之第一級放大器、一與該第一級放大器通聯之 第二級放大器、一與該第二級放大器通聯之處理器，該處理 器與該光發射器通聯，該第一級及第二級放大器處理該入射 光訊號成一放大訊號，該處理器依據該放大訊號間隔時間、 且驅動該光發射器產生該干擾雷射光。
⒔請求項13：
如請求項4所述的雷射干擾器，其中該處理單元包括一與該 光接收器通聯之第一級放大器、一與該第一級放大器通聯之 第二級放大器、一與該第二級放大器通聯之處理器，該處理 器與該光發射器通聯，該第一級及第二級放大器處理該入射 光訊號成一放大訊號，該處理器依據該放大訊號間隔時間、 且驅動該光發射器產生該干擾雷射光。
二、系爭專利2之技術分析：
㈠系爭專利2之技術內容：
系爭專利2係關於一種雷射干擾器，包括：一光接收器，供 接收一入射雷射光並產生一入射光訊號；一光發射器；一處 理單元，與該光接收器及該光發射器電性連接，包括一訊號 放大單元，該訊號放大單元電性連接該光接收器並處理該入 射光訊號成一放大訊號，該處理單元依據該放大訊號驅動該 光發射器產生一干擾雷射光；一電磁屏蔽罩，至少罩蓋屏蔽 該訊號放大單元。（見系爭專利2摘要，本院卷一第57頁） ㈡系爭專利2主要圖式：
⒈系爭專利2圖2為為雷射干擾器之分解圖
⒉系爭專利2圖4為雷射干擾器之結構方塊圖
⒊系爭專利2圖6為訊號干擾示意圖
㈢系爭專利2申請專利範圍：
系爭專利2核准公告之請求項共9項，其中請求項1為獨立項 ，其餘為附屬項。原告於舉發案中提出系爭專利2申請專利
範圍更正本（112年6月30日更正本），更正後請求項共16項 ，因原告主張系爭專利2請求項1至15受侵害，故僅列出請求 項1至15內容如下：
⒈請求項1：
一種雷射干擾器，包括：
一光接收器，供接收一包括複數入射脈波之入射雷射光並產 生一入射光訊號；
一光發射器；
一處理單元，與該光接收器及該光發射器電性連接，包括一 訊號放大單元，該訊號放大單元電性連接該光接收器並處理 該入射光訊號成一放大訊號，該處理單元依據該放大訊號驅 動該光發射器產生一包括複數干擾脈波之干擾雷射光，該干 擾雷射光之干擾脈波係與該入射雷射光之入射脈波至少部份 重疊；
一電磁屏蔽罩，至少罩蓋屏蔽該訊號放大單元； 其中該電磁屏蔽罩另設有至少一對應於該光接收器之透光部 ；
其中該光接收器連接於一電路板，該電磁屏蔽罩固定於該電 路板之一側上。
⒉請求項2：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該電磁屏蔽罩係為金屬 罩，該金屬罩遮罩該光接收器。
⒊請求項3：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該光接收器包括複數光 電二極體，各該光電二極體包括一受光頭端，該透窗部包括 對應於該複數光電二極體之受光頭端的複數透孔，該金屬罩 具有一跨隙，該跨隙跨過該電路板之一電路。
⒋請求項4：
如請求項3所述的雷射干擾器，其中該複數透孔與該複數光 電二極體之受光頭端形狀概為對應，且該複數透孔橫向連通 ，於該光接收器之前方另設有一濾波透鏡，該濾波透鏡設於 一外殼，該光接收器及該光發射器設於該外殼中。 ⒌請求項5：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該光接收器接收該入射 雷射光並產生一與該複數入射脈波相關聯之入射光訊號，該 處理單元依據該入射光訊號計算該複數入射脈波之相鄰二者 之間的間隔時間，該複數干擾脈波間斷地各於該複數入射脈 波之相鄰二者之間的間隔時間內發射。
⒍請求項6：
如請求項5所述的雷射干擾器，其中該複數干擾脈波各持續
至重疊於其中一該入射脈波。
⒎請求項7：
如請求項4所述的雷射干擾器，其中該電磁屏蔽罩係為金屬 罩；該光接收器接收該入射雷射光並產生一與該複數入射脈 波相關聯之入射光訊號，該處理單元依據該入射光訊號計算 該複數入射脈波之相鄰二者之間的間隔時間，該複數干擾脈 波間斷地各於該複數入射脈波之間隔時間內發射；該處理單 元包括一與該光接收器通聯之第一級放大器、一與該第一級 放大器通聯之第二級放大器、一與該第二級放大器通聯之處 理器，該處理器與該光發射器通聯，該第一級及第二級放大 器處理該入射光訊號成該放大訊號，該處理器依據該放大訊 號間隔時間、且驅動該光發射器產生該干擾雷射光；該複數 干擾脈波各持續至重疊於其中一該入射脈波之1/2以上；該 干擾雷射光之發射訊號頻率與該入射雷射光之發射訊號頻率 相同；該複數入射脈波之數量至少為3個；該干擾脈波之振 幅大於該入射脈波之振幅；該光接收器及該光發射器固定於 該電路板上。
⒏請求項8：
如請求項7所述的雷射干擾器，其中該第一級放大器為電晶 體放大器，該第二級放大器為視頻放大器，該處理單元另包 括一通聯於該視頻放大器與該處理器之間的比較器，該比較 器設有一閥值，該比較器僅允許經該視頻放大器處理後之放 大訊號大於該閥值的峰部部分通過，該等峰部部分中之相鄰 二者之間間隔該間隔時間。
⒐請求項9：
如請求項1所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒑請求項10：
如請求項2所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒒請求項11：
如請求項3所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒓請求項12：
如請求項4所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒔請求項13：
如請求項5所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒕請求項14：
如請求項6所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
⒖請求項15：
如請求項7所述的雷射干擾器，其中該雷射干擾器另包括一 電性連接於該光發射器之驅動電路、及一電性連接於該光發 射器與該驅動電路之間的連接電路，該電磁屏蔽罩空跨過該 連接電路。
三、系爭產品技術內容：
原告主張系爭產品1、2、3對於系爭專利1、2均構成文義及 均等侵權。
㈠系爭產品1：
系爭產品1之外盒包裝如上左圖（本院卷一第75頁），系爭 產品1之本體及其連接線等如上右圖所示（本院卷一第77頁) 。
㈡系爭產品2：
系爭產品2之外盒包裝如上左圖（本院卷一第151頁），系爭 產品2之本體及其連接線等如上右圖所示（本院卷一第155頁 )。
㈢系爭產品3：
系爭產品3之外盒包裝如上左圖（本院卷三第39頁），系爭 產品3之本體及其連接線等如上右圖所示（本院卷三第39頁) 。
陸、得心證之理由：
一、系爭產品1：
㈠系爭產品1未落入系爭專利1請求項1至7、11至13之文義範圍
，亦未落入系爭專利1請求項8、10之均等範圍： ⒈系爭專利1請求項1之技術特徵解析：
⑴原告於110年7月9日向智慧財產局申請更正系爭專利1（本 院卷二第81至107頁），經智慧財產局併同舉發案審查於1 12年4月14日審定「110年7月9日之更正事項，准予更正」 、「請求項1至13舉發不成立」（本院卷五第29至66頁） 。前述更正內容業經智慧財產局於112年5月11日公告在案 ，依專利法第68條第3項規定，說明書、申請專利範圍及 圖式經更正公告者，溯自申請日生效，是就系爭專利1之 侵權比對，應以110年7月9日更正內容為準。 ⑵系爭專利1請求項1可解析為下列1A至1E技術特徵： ①1A：「一種雷射干擾器，包括：」。 ②1B：「一光接收器，供接收一包括複數入射脈波之入射 雷射光並產生一與該複數入射脈波相關聯之入射光訊號 ；」。
③1C：「一光發射器；」。
④1D：「一處理單元，依據該入射光訊號計算該複數入射 脈波之相鄰二者之間的間隔時間、且驅動該光發射器產 生一干擾雷射光，」。
⑤1E：「該干擾雷射光包括複數干擾脈波，該複數干擾脈 波間斷地各於該複數入射脈波之間隔時間內發射、且各 持續至重疊於其中一該入射脈波。」
⒉系爭產品1未落入系爭專利1請求項1之文義範圍： ⑴1A技術特徵：依系爭產品1之外包裝盒所示（本院卷一第75 頁），系爭產品1係南極星HP-3 Plus「雷射二極體無線防 護罩」，並註明其功能為「防禦三眼雷射槍」、「對於現 役雷射測速儀可達到JTG反制最高標準」等，亦即系爭產 品1係用來干擾雷射測速儀(槍)之偵測，即為1A技術特徵 之「一種雷射干擾器」。
⑵1B及1C技術特徵：系爭產品1經拆解後，其內部電路板上設 有光接收器，供接收一包括複數入射脈波之入射雷射光（ 參下述1D技術特徵）並產生一與該複數入射脈波相關聯之 入射光訊號，該電路板上另設有一光發射器（如下圖所示 ，本院卷三第66頁），可發射干擾雷射光（參下述1D技術 特徵），對應於1B及1C技術特徵。
⑶1D技術特徵：系爭產品1另一電路板上設有微控制器（型號 ：ATmega32A，如下左圖，本院卷三第69頁），其規格書 如甲證20附件2（本院卷三第97至119頁）所示；另依系爭 產品1之檢測結果，系爭產品1在前7個入射光訊號（本院
卷三第9頁）並無干擾雷射光（干擾脈波）產生，而在第8 個入射光訊號（入射脈波）前，系爭產品1產生干擾脈波 ，且干擾脈波之間隔時間對應於入射脈波之間隔時間（如 下右圖，本院卷三第11至12頁），據此可知系爭產品1之 微控制器（相當於1D技術特徵之「處理單元」）依據入射 光訊號計算複數入射脈波之相鄰間隔時間，驅動光發射器 產生干擾雷射光，是以系爭產品1具有1D技術特徵。
⑷1E技術特徵：
①如甲證20第23頁（如下圖，本院卷三第70頁）所示，系 爭產品1經原告檢測，其發出之干擾雷射光包括複數干 擾脈波，且間斷地於複數入射脈波之間隔時間內發射， 固然對應於1E技術特徵之「該干擾雷射光包括複數干擾 脈波，該複數干擾脈波間斷地各於該複數入射脈波之間 隔時間內發射…」部分。
②惟就1E技術特徵中「複數干擾脈波…各持續至重疊於其中 一該入射脈波」部分，經檢視原告放大後之檢測結果波 形圖（如下圖，本院卷三第70頁），各(主)入射脈波包 含複數入射脈波(放大)，各(主)干擾脈波亦包含複數干 擾脈波(放大)，顯然有部分的干擾脈波(放大)完全未與 任何入射脈波重疊，或第二個入射脈波(放大)以後並無 任何干擾脈波(放大)與之相互重疊，與前述技術特徵並 不相符。
③原告主張系爭產品1具有技術特徵1E，無非是認為系爭產 品1只要有任何干擾脈波與入射脈波重疊即可，惟前述1 E技術特徵明確界定「複數干擾脈波…『各』持續至重疊於 其中一該入射脈波」，亦即各個干擾脈波均需與入射脈 波相重疊。復參酌系爭專利1說明書第【0011】段所載 「該干擾雷射光21之發射訊號頻率與該入射雷射光40之 發射訊號頻率相同，確保同步干擾該雷射偵測器接收反 射之入射雷射光。…。各該干擾脈波22持續至重疊於其 中一該入射脈波41之1/2以上，較佳為重疊3/4以上、甚 至完全重疊，以完全阻斷、干擾該雷射偵測器接收反射 之入射雷射光」、「較佳地，該複數入射脈波41之數量 至少為3個，該干擾雷射光21相對地於其前三個入射脈 波41之後發射，以確定所接收之入射脈波41所具有之光 波長、訊號發射頻率、振幅等性質，確實為所欲干擾之 目標入射雷射，避免誤判及該光發射器20不必要地發射 該干擾雷射光21，精準而節能」，可知系爭專利1係以
相同於入射脈波頻率之干擾脈波，來阻斷、干擾雷射偵 測器接收反射之入射脈波，益見前述1E技術特徵之「複 數干擾脈波…各持續至重疊於其中一該入射脈波」，係 指各干擾脈波與各入射脈波至少部分重疊，否則無法達 成系爭專利1精準干擾雷射偵測器之發明目的。又原告 對於系爭專利1請求項1前述技術特徵之解釋亦係「out of phase」（脈波部分重疊）（參原告113年7月18日庭 呈「專利有效性部分」簡報第4、5頁），即兩脈波間雖 有相位差但均部分重疊，而非僅有少部分的脈波重疊， 其餘脈15波卻完全不重疊之情形。觀之兩造會同鑑驗系 爭產品所做出如下圖之波形圖（本院卷六第183頁）， 原告所提關於系爭產品1的20個波形圖中，其中編號1-1 、1-7、1-8、1-16至1-19之波形圖顯示複數干擾脈波中 僅有1個干擾脈波有與入射脈波重疊，此與技術特徵1E 之「複數干擾脈波…各持續至重疊於其中一該入射脈波 」不符；而其餘13個波形圖中之干擾脈波與入射脈波並 無任何重疊，亦與技術特徵1E之「複數干擾脈波…各持 續至重疊於其中一該入射脈波」不符，故系爭產品1未 具備部分1E之技術特徵。
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