智慧財產法院行政判決
106年度行專訴字第102號
原 告 東進世美肯股份有限公司（Dongjin Semichem Co.
, Ltd.）
代 表 人 李富燮（Boo Sup Lee ）（董事長）
訴訟代理人 林怡芳律師
複 代理 人 李貞儀律師
訴訟代理人 蘇佑倫律師
童啟哲專利師
被 告 經濟部智慧財產局
代 表 人 洪淑敏（局長）住同上
訴訟代理人 葉獻全
參 加 人 美商卡博特微電子公司
代 表 人 艾莉卡威爾森（Erika S .Wilson ）（智財長）
訴訟代理人 陳群顯律師
陳翠華專利師
上列當事人間因發明專利舉發事件，原告不服經濟部中華民國10
6 年10月25日經訴字第10606311740 號訴願決定，提起行政訴訟
。經本院裁定命參加人獨立參加本件被告之訴訟，本院判決如下
︰
主 文
原告之訴駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
壹、事實概要
參加人美商卡博特微電子公司之前手美商客寶公司前於民國 （以下除註明為西元者外均同）86年11月26日以「用於金屬 CMP 之組合物及淤漿」（嗣修正名稱為「化學機械磨光組合 物與淤漿以及其用途」），向改制前中央標準局（88年1 月 26日改制為智慧財產局）申請發明專利（申請專利範圍共48 項），並以85年11月26日、86年4 月8 日、86年7 月11日向 美國申請之專利案（申請案號數：08／753,482 、08／827, 918 、08／891,468 ）主張優先權，經被告編為第86117775 號審查，准予專利（下稱：「系爭專利」），並發給發明第 116769號專利證書。另參加人於102 年5 月24日提出系爭專 利申請專利範圍更正本（刪除請求項3 、18至20），並經被 告於103 年6 月21日核准公告。嗣原告以系爭專利有違核准 時專利法第20條第2 項與第71條第3 款之規定，對之提起舉 發。案經被告審查，以106 年4 月7 日（106 ）智專三（五 ）01021 字第10620368960 號專利舉發審定書為「請求項1
至2 、4 至17、21至48舉發不成立」之處分（下稱：「原處 分」）。原告不服原處分，提起訴願，經經濟部於106 年10 月25日以經訴字第10606311740 號為「訴願駁回」之決定（ 下稱：「訴願決定」）。原告不服訴願決定，遂向本院提起 行政訴訟。因本院認本件判決之結果，倘認原處分及訴願決 定均予撤銷，將影響參加人之權利或法律上之利益，爰依職 權命參加人獨立參加本件被告之訴訟。
貳、原告聲明及陳述要旨
一、舉發證據2 已揭露化學機械研磨淤漿所使用的氧化劑可為過 氧化物以及例如硝酸鐵之鐵鹽的混合物。舉發證據3 教示具 有多個氧化狀態的鐵離子作為觸媒加速過氧化氫的反應，以 提高過氧化氫反應速率的通常知識。舉發證據4 教示過氧化 氫與作為觸媒使用的鐵離子之反應機制。是以，該領域具有 通常知識者，依據舉發證據2 之揭示，並結合舉發證據3 的 通常知識及舉發證據4 的教示，即可輕易選用過氧化氫作為 氧化劑以及可分解出鐵離子（Fe+++ ）的硝酸鐵作為觸媒， 以作為能加速鎢磨光速率的化學機械磨光組合物的成分。該 領域具有通常知識者均已知觸媒的作用即用於增加其所催化 之成分的反應速率，因而藉由選用硝酸鐵作為過氧化氫的觸 媒以增進鎢磨光速率，亦屬熟習此項技術者可輕易思及完成 者。
二、依據舉發證據2 第13頁表4 之實驗數據，淤漿1 雖有最高之 磨光速率（4850埃／min），但其品質不佳，反觀淤漿3 及4 ，磨光速率雖略低，但卻有較佳之品質。由此可知，判斷淤 漿之磨光效果，除了磨光速率（埃／min ）外，品質更是重 要因素。然而，系爭專利實施例中僅有提出磨光速率之數據 ，卻完全沒有磨光品質之分析數據，如何能判斷依系爭專利 之淤漿進行磨光之金屬，具有較佳之品質。是以，由系爭專 利之實驗結果顯難證明系爭專利可達成任何不可預期之功效 。
三、針對原告指出系爭專利說明書中的實施例內容並無法排除磨 料對鎢磨光速率之影響，無法證明「過氧基氧化劑」及「鐵 觸媒」間有所謂「不可預期之協乘功效」之主張。四、系爭專利表1 之實施例中所使用之淤漿均包含硝酸鐵、氧化 劑及磨料三種成分，而舉發證據2 以及系爭專利說明書表3 及表9 之實驗結果均顯示淤漿中所使用之磨料種類及含量會 顯著影響鎢磨光速率，且系爭專利亦未提供任何實驗數據證 明其磨光品質，系爭專利之實驗結果顯不足證明併用「過氧 基氧化劑」與「鐵觸媒」可產生不可預期之協合功效（1+1 ＞2 ）。
五、舉發證據3 教科書揭露者不僅為基礎化學之通常知識，且又 係關於如何利用金屬離子增強氧化劑之作用，顯見所屬技術 領域具有通常知識者具有動機將該等前案予以結合。舉發證 據2 第8 頁第4 行起揭示：「在另一具體實施例中，研磨淤 漿中可加入氧化劑，以將金屬層氧化成氧化物。例如，在本 發明中，係利用氧化劑將金屬層氧化成氧化物，如鎢變成氧 化鎢。再利用機械性研磨去除層上的氧化鎢」。是以，舉發 證據2 已揭示，於CMP 中加入氧化劑之目的，係為利用氧化 劑進行氧化作用，以使金屬氧化，以便提高CMP 的效果，此 為所屬技術領域具有通常知識者，在系爭專利申請日前即已 具備之知識。此外，美國第5,244,534 號專利說明書（原證 5 號，同原告專利訴願理由書之附件4 號）亦揭示：「為選 擇性的移除鎢，先利用淤漿中的化學成分將鎢氧化，再利用 淤漿中磨料成分機械性的去除氧化鎢」，以及「在本件新穎 的淤漿中，利用H2O2將鎢的表面氧化，形成氧化鎢。接著在 研磨程序中將所形成的氧化鎢去除後，所露出新的鎢表面會 繼續與H2O2反應」。美國第5,244,534 號專利說明書係於82 年9 月14日即已公開，早於系爭專利之最早優先權日（85年 11月26日），亦可進一補充說明舉發證據2 之內容，即顯示 所屬技術領域具有通常知識者，在系爭專利申請日暨優先權 日前，即已充分知悉，於CMP 中加入氧化劑之目的，係為利 用氧化劑進行氧化作用，以使金屬氧化，以便提高CMP 的效 果。因此，所屬技術領域具有通常知識者於評估如何提升CM P 製程之功效時，理所當然會考量如何增強氧化劑之作用， 加速金屬氧化，以期達到較佳之效果。再者，依據舉發證據 3 教科書第9 章第2 頁之記載：「一般普遍認知，在微量催 化劑離子存在時，特別是具有一個以上氧化狀態之金屬離子 ，例如Fe3+ , Cu2+ , Cr3+等，過氧化氫之分解效率將會顯 著提高」。依據前揭內容，以微量鐵離子催化過氧化氫增加 過氧化氫的分解速率實為該領域具有通常知識者可由教科書 所得知的基本化學原理。是以，微量鐵離子可催化及加速過 氧化氫之分解速率為習知之基本化學原理，與CMP 製程中氧 化劑之作用機制實屬同一技術領域，則所屬技術領域具有通 常知識者於評估如何在CMP 製程中增強氧化劑之作用時，實 有充分之動機將舉發證據3 所揭露之催化氧化反應之基本化 學原理，運用於促進CMP 中之氧化反應。
六、舉發證據3 係明確揭露鐵離子可做為催化劑，加速過氧化氫 進行氧化作用之基本原理。一旦過氧化氫加速進行氧化作用 時，過氧化氫之含量自然會減少。從而，若是以維持過氧化 氫含量之角度思考，當然會儘量避免將過氧化氫與鐵離子混
合。然而，如前所述，在CMP 製程中，所屬技術領域具有通 常知識者所考量者，係為如何加強氧化劑之作用，促進金屬 氧化，以達到較佳之磨光效果，而不是考量如何維持氧化劑 之含量或是避免氧化劑發生作用。舉發證據3 既已明確揭露 鐵離子可做為過氧化氫氧化反應之催化劑，本發明所屬技術 領域具有通常知識者，自有動機將此催化氧化反應之基本化 學原理運用於促進CMP 製程中之氧化反應，亦即本發明所屬 技術領域具有通常知識者自有將舉發證據3 與舉發證據2 結 合之動機。
七、舉發證據3 第17頁表1 之數據，係顯示在100 ℃的環境下， 過氧化氫與不同金屬離子催化劑反應24小時之情形，結果顯 示鐵離子（Fe2+）、銅離子（Cu2+）及鉻離子（Cr3+）之催 化效果明顯較佳。而舉發證據3 第20頁則揭示鐵離子（Fe2+ ）與銅離子（Cu2+）等催化劑，在50℃的環境下與過氧化氫 反應之情形。依該圖表顯示，鐵離子（Fe2+）與銅離子（Cu 2+）具有相同之催化效果。是以，所屬技術領域具有通常知 識者，於審閱舉發證據3 全文內容後即可知悉，在不同之溫 度反應下，不同的金屬離子催化劑對過氧化氫的催化反應會 有所不同；但綜合而言，以鐵離子（Fe2+）、銅離子（Cu2+ ）及鉻離子（Cr3+）為較佳之催化劑。因此，在考量如何增 加CMP 製程中氧化反應之速率時，所屬技術領域具有通常知 識者自會考量以舉發證據3 所揭示之鐵離子（Fe2+）、銅離 子（Cu2+）或鉻離子（Cr3+）做為催化劑，並不會產生訴願 決定及原處分所稱「會傾向於選用鉻或銅，而非鐵」之情事 。此外，舉發證據2 中亦已揭示於淤漿中併用過氧化氫及硝 酸鐵之組合，且舉發證據4 中更已揭示以鐵離子做為過氧化 氫催化劑之反應式，更加促使所屬技術領域具有通常知識者 ，考量將舉發證據3 及4 所揭示之鐵離子（Fe2+）催化劑， 運用於舉發證據2 所揭示之CMP 反應，以增加CMP 反應中過 氧化氫之氧化作用。
八、原告於舉發理由書中主張，系爭專利說明書表9 所呈現的實 驗結果，顯示以檸檬酸、酞酸氫鉀、酞酸四氟、丙二酸作為 安定劑時，其磨光速率則較沒有添加安定劑的磨光速率來的 高很多。此與系爭專利說明書第16頁所載：「於本發明之組 合物中添加一種安定劑會降低該觸媒之效能」以及系爭專利 說明書中表7 及表8 所呈現之數值不符，顯見系爭專利說明 書應未明確載明實施必要之事項，或其記載了不必要之事項 ，使得實施檸檬酸、酞酸氫鉀、酞酸四氟、丙二酸作為安定 劑實為不可能或困難的。是以，系爭專利請求項11、13及14 進一步界定以「檸檬酸」、「酞酸」、「丙二酸」為安定劑
，違反核准時專利法第71條第3 款之規定，應予撤銷。九、若依原處分錯誤的邏輯，安定劑包含一「主作用」及一「副 作用」，「主作用」可安定氧化劑，「副作用」為「產生一 種安定劑／觸媒錯合物而抑制觸媒與氧化劑反應」（參原處 分第11頁第14行以下）。而表7 及表8 之實驗即為安定劑「 副作用」之表現，表9 之安定劑則只會發生「主作用」，而 不會發生「副作用」。然而，系爭專利說明書完全未記載安 定劑有任何「副作用」，以及應如何避免此「副作用」之方 法。
十、再查，系爭專利說明書第16頁第7 行起揭示：「本發明之CM P 組合物與淤漿可包含一種安定劑。若不使用該安定劑，該 觸媒與該氧化劑會以迅速降低該氧化劑活性之方式反應。於 本發明之組合物中添加一種安定劑會降低該觸媒之效能」、 「目前已知於本發明之組合物與淤漿中添加安定劑會產生一 種安定劑／觸媒錯合物，其可抑制該觸媒與氧化劑反應」、 「其可明顯降低氧化劑諸如過氧化氫之分解速率」。由此可 知，安定劑之所以能發生「安定氧化劑」之效果，即是因為 安定劑可以和觸媒「產生一種安定劑／觸媒錯合物而抑制觸 媒與氧化劑反應」，以降低氧化劑諸如過氧化氫之分解速率 。
十一、換言之，「產生一種安定劑／觸媒錯合物而抑制觸媒與氧 化劑反應」，實際上為安定劑之所以能「安定氧化劑」之 主要作用機制，原處分卻將該作用稱之「副作用」，顯然 完全曲解安定劑之作用。再者，原處分又稱「表9 之實驗 結果提供了一可避免安定劑副作用之更佳實施態樣」亦顯 然不合邏輯，蓋安定劑必須要藉由和觸媒形成一安定劑／ 觸媒錯合物，才能抑制觸媒與氧化劑反應，達到「安定氧 化劑」之功效，原處分卻稱實施例9 及表9 之安定劑，可 以在「不產生安定劑／觸媒錯合物」之情況下，達到「安 定氧化劑」之功效，顯然已完全違反系爭專利說明書對「 安定劑」之敘述。是以，系爭專利說明書表9 之實驗結果 顯示，在含有安定劑之條件下，其磨光速率反而比未添加 安定劑的情況高出許多，而此結果與系爭專利說明書表7 及表8 之結果不一致，此等與經驗法則不符之邏輯錯誤又 未經系爭專利說明書予以記載說明，顯見系爭專利說明書 應未明確載明實施必要之事項，或其記載了不必要之事項 ，使得實施請求項11、13及14所請發明為不可能或困難。十二、原告舉發理由係主張依表9 所示之數據，以檸檬酸、酞酸 氫鉀、酞酸四氟、丙二酸作為安定劑時，其磨光速率則較 沒有添加安定劑的磨光速率來的高很多。是以系爭專利說
明書應未明確載明實施必要之事項，或其記載了不必要之 事項，使得實施檸檬酸、酞酸氫鉀、酞酸四氟、丙二酸作 為安定劑實為不可能或困難的。故系爭專利請求項11、13 及14進一步界定以「檸檬酸」、「酞酸」、「丙二酸」為 安定劑，違反核准時專利法第71條第3 款之規定，應予撤 銷云云，與訴願決定所稱「表9 之實驗結果足以支持系爭 專利說明書第28頁所載『如表9 之淤漿2-5 所示，當氧化 鋁與一種氧化劑及一種觸媒安定劑錯合物併用時，其有利 於磨光一種鎢基材』之結論」，係屬兩事，互不相關。十三、原告係主張表9 之淤漿2 至5 係有加入安定劑，但其CMP 反應速率卻高於未加入安定劑之淤漿1 ，故與系爭專利說 明書第16頁所載：「於本發明之組合物中添加一種安定劑 會降低該觸媒之效能」之內容不符。故原告所比較者，均 為表9 中各淤漿之實驗結果，並無所謂將表9 之數據與表 7 及表8 數據相比較之情形。末查，表7 、表8 與表9 之 實驗數據，故可能因淤漿成分上之差異不適宜直接加以比 較，但各實驗數據間仍有交互參照之實益。蓋如表7 所示 ，無添加安定劑之淤漿的CMP 反應速率（表7 最末一列， 4300埃／ 分鐘）明顯高於其他有添加安定劑之淤漿的CMP 反應速率（670~2500埃／分鐘），此亦與系爭專利說明書 第16頁所載：「於本發明之組合物中添加一種安定劑會降 低該觸媒之效能」之論述相符，益證表9 之實驗數據與說 明書之記載不相符，顯見系爭專利說明書應未明確載明實 施必要之事項，或其記載了不必要之事項，使得實施檸檬 酸、酞酸氫鉀、酞酸四氟、丙二酸作為安定劑實為不可能 或困難的。
十四、依原告於舉發程序提出之105 年12月23日專利舉發理由書 所詳述，系爭專利請求項之技術特徵，均已完全揭露於舉 發證據2 至4 中，所屬技術領域具有通常知識者可藉由組 合舉發證據2 至4 而輕易完成系爭專利請求項1 、2 、4 至7 、9 至17、21至47之發明，或組合舉發證據2 、3 之 教示而輕易完成系爭專利請求項8 及48之發明，因此，系 爭專利不具進步性，應予撤銷。再者，系爭專利說明書表 9 之實驗結果顯示，在含有安定劑之條件下，其磨光速率 反而比未添加安定劑的情況高出許多，而此結果與系爭專 利說明書表7 及表8 之結果不一致，顯見系爭專利說明書 未明確載明實施必要之事項，或其記載了不必要之事項， 使得實施請求項11、13及14所請發明為不可能或困難，違 反專利法第71條第3 款之規定，亦應予以撤銷。十五、訴之聲明：
（一）原處分及訴願決定均撤銷。
（二）被告就系爭專利舉發案應為舉發成立，撤銷專利權之審定 。
參、被告聲明及陳述要旨
一、系爭專利主要技術特徵在於CMP 操作中併用「過氧基氧化劑 」與「鐵觸媒」之技術手段，以在CMP 速率上提供不可預期 之協乘功效（1+1> 2），進一步能提供減緩甚至避免先前技 術使用金屬氧化劑以提供所欲高磨光速率所造成之金屬污染 問題的附加效益。而系爭專利請求項1 、2 、4 至7 、9 至 17、21至47 所請範圍均包含前述之技術特徵。二、舉發證據2 為PCT 專利WO 96 ／11082 號專利案，與美國專 利第5527423 號專利案為同族專利，即同另案之證據5 及另 一案之證據3 ，係有關金屬層用的化學機械拋光淤漿（Chem ical mechanical polishing slurry for metal layers ） ，其揭露一種用於金屬層化學機械拋光的淤漿，含有均勻分 散在穩定的含水介質中的純度高、細的金屬氧化物粒子。舉 發證據2 主要係揭露關於研磨顆粒的製造與選用的技術內容 ，僅說明書第8 頁第4 至13行（對應於同族專利美國專利第 5527423 號專利案之說明書第5 欄第8 至21行）簡單提及可 添加使用的氧化劑「In another embodiment , an oxidizi ng component may be added to the polishing slurry to oxidize the metal layer to its corresponding oxide（ 氧化物）. For example , in the present invention , a n oxidizing component is used to oxidize a metal lay er to its corresponding oxide , such as tungsten to tungsten oxide . The layer is mechanically polished to remove the tungsten oxide from the layer . Althou gh a wide range of oxidizing components may be used , preferred components include oxidizing metal salts , oxidizing metal complexes , iron salts（鐵鹽）such as nitrates （硝酸鹽）, sulfates , EDTA , citrates , potassium ferricyanide and the like , aluminum salts , sodium salts , potassium salts , ammonium salts , quaternary ammonium salts , phosphonium salts , pero xides （過氧化物）, chlorates , perchlorates , perma nganates , persulfates and mixtures thereof . 」，該 內容完全未述及觸媒的使用，僅提及如上所述已知可用之氧 化劑而已，更未針對氧化劑之組合作進一步的探討，尤其根 本未如原告所宣稱之已明示使用過氧化氫與鐵離子之組合， 更未教導、建議或暗示任何氧化劑之組合可以提供如系爭專
利1+1 ＞2 的相乘效益（其相乘效益可見系爭專利說明書表 1-淤漿4 及5 之鎢磨光速率）【表1-淤漿4 及5 （鎢磨光速 率分別為4729及6214），與淤漿3 （鎢磨光速率僅為385 ） 之鎢磨光速率比較，即可明白顯示系爭專利具有1+1 ＞2 的 相乘效益】。
三、尤其舉發證據2 實施例所例示之淤漿均以5%硝酸鐵作為單一 氧化劑，從未組合使用多種氧化劑組合，遑論使用具有過氧 基之化合物與硝酸鐵之組合。在此情況下，所屬技術領域中 具有通常知識者基於舉發證據2 之教導，根本不生採用特定 氧化劑組合之動機。又將系爭專利實施例與舉發證據2 實施 例之結果比較可知，舉發證據2 之實施例結果實乃進一步顯 示系爭專利於磨光速率的改良功效，更加凸顯系爭專利功效 之不可預期。針對舉發證據2 實施例3 淤漿1 中採用高達5 重量% 硝酸鐵所提供之磨光速率（4850埃／分鐘），系爭專 利透過組合「鐵觸媒」與「過氧基氧化劑」，即可於僅採用 28ppm 鐵含量（大幅降低金屬汙染且可大幅提高磨光速率） 之情形下提供（參系爭專利說明書表5 之淤漿4 ）。清楚地 ，舉發證據2 並未揭露系爭專利在CMP 操作中併用「過氧基 氧化劑」與「鐵觸媒」之技術手段，舉發證據2 之實施例反 而進一步凸顯系爭專利為功效顯著且不可預期而具進步性之 創作。
四、舉發證據3 係有關過氧化氫的教科書，介紹過氧化氫的穩定 性、過氧化氫的相關分析、過氧化氫的應用、以及過氧化氫 化合物的具體態樣。然而，舉發證據3 從未探討有關過氧化 氫於CMP 組合物中的應用，或說明於CMP 組合物中使用過氧 化氫可提供磨光速率改良，舉發證據3 尤其未教示當使用含 有過氧化氫之CMP 組合物時，僅須存在微量的特定金屬（尤 其是鐵）即可顯著增加磨光速率。CMP 技術領域中具通常知 識者即使無意間得知舉發證據3 之內容，亦不生在CMP 操作 中將過氧化氫與鐵觸媒合併使用之動機，遑論預期可透過該 技術手段為CMP 組合物之磨光速率帶來1+1> 2的相乘效益。 再者，舉發證據3 清楚揭示，「藉由眾多研究者的努力，已 知在不含汙染觸媒之情況下且儲存於完全乾淨之非催化性材 料所製容器中時，純過氧化氫或是過氧化氫溶液是非常穩定 的物質，即使是在50°C 或更高的溫度之下亦是如此（第1 頁第一段第1 至5 行：It has been well established by the work of various investigators that pure hydrogen peroxide , or aqueous solutions thereof , in the abs ence of contaminating catalysts and in a thoroughly clean container of non-catalytic material , is a ver
y stable material , even at temperatures of 50°C . or somewhat higher）」，「微量的特定催化性離子的存在 ，會使得過氧化氫的分解速率顯著提升，尤其是其離子可具 有多重氧化狀態的金屬，例如Fe+++ 、Cu++、Cr+++ 等，另 外，懸浮的或膠態的催化物或是含有催化性活性物質的容器 壁也會使得過氧化氫的分解速率顯著提升（第2 頁第21行至 第3 頁第2 行：It is common knowledge that the decomp osition rate of hydrogen peroxide is markedly increa sed by the presence of minute concentration of certa in catalytic ions , particularly of the metals the i ons of which can exist in more than one oxidation st ate--such as Fe+++、Cu ++ 、Cr+++--or by suspended o r colloidally dispersed catalytic matter , or by the walls of the container if they contain catalytic all y active substance）」。換言之，舉發證據3 教示例如鐵 等離子具有多重氧化狀態的金屬，對於過氧化氫而言係屬汙 染物質，會不利地降低過氧化氫的穩定性，降低過氧化氫可 提供之效益。因此，本發明所屬技術領域中具有通常知識者 基於舉發證據3 之教導，為了保持過氧化氫之活性，不僅沒 有將過氧化氫與鐵觸媒組合使用之動機，反而會避免於含有 過氧化氫之CMP 組合物中使用鐵觸媒。又縱使依原告主張， 系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者因舉發證據3 文中 記載部分離子具有多重氧化狀態的特定金屬具有提高過氧化 氫之分解速率，而將之與過氧化氫組合使用（雖無此動機） ，亦會傾向於選用鉻（Cr）或銅（Cu），而非鐵（Fe），因 為舉發證據3 之實驗結果清楚顯示，鉻與銅催化過氧化氫分 解之能力遠高於鐵（參舉發證據3 第17頁表1 ）。再進一步 將舉發證據3 表1 之金屬離子催化過氧化氫分解能力之結果 與上述系爭專利說明書表5 之磨光速率結果相對照可知，儘 管銅對於過氧化氫之分解速率的催化效果遠高於鐵，但鐵觸 媒在CMP 操作中對於磨光速率之提升效果反而遠高於銅觸媒 。此一事實更加顯示，系爭專利在CMP 操作之磨光速率上展 現之協乘功效為不可預期之成功。
五、舉發證據4 係有關Fenton反應之期刊論文，舉發理由雖主張 舉發證據4 之前言已揭露三價鐵離子可作為觸媒催化過氧化 氫的分解…云云。惟舉發證據4 該期刊論文內容與CMP 技術 無關，原告所持主張顯為得知系爭專利說明書內容後拼湊各 證據之片段內容（包括舉發附件1 之教科書附錄所示之鐵的 電化學電動勢為+0.771V 及過氧化氫的電化學電動勢為+1.7 76 V）所作之後見之明，實不足採。
六、由於舉發證據2 至舉發證據4 之任一者均未揭露系爭專利在 CMP 操作中併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸媒」之技術手段 ，且舉發證據3 及舉發證據4 與CMP 技術無關，舉發證據3 甚至排除於含有過氧基氧化劑之CMP 組合物中使用鐵觸媒之 動機。在此情況下，系爭專利所屬技術領域中具通常知識者 即使無意間同時得知舉發證據2 、3 及4 之內容，亦無從輕 易思及可透過系爭專利之技術手段（在CMP 操作中併用「過 氧基氧化劑」與「鐵觸媒」），提供相應之發明功效（在磨 光速率上提供不可預期之協乘功效）。故舉發證據2 、3 及 4 之組合不足以證明系爭專利請求項1 至2 、4 至7 、9 至 17、21至47不具進步性。
七、舉發證據2 及3 之組合不足以證明系爭專利請求項8 、48不 具進步性。系爭專利係於CMP 操作中合併使用「鐵觸媒」與 「包含過氧基（-O-O- ）之化合物（過氧基氧化劑）」，可 提供出乎意料的高磨光速率，實現快速且低金屬汙染的磨光 。系爭專利請求項8 及48之內容均包含前述特徵，而如前揭 理由，舉發證據2 、3 及4 之組合不足以證明系爭專利請求 項1 、2 、4 至7 、9 至17、21至47不具進步性，故舉發證 據2 及3 之組合自亦不足以證明具有相同特徵之系爭專利請 求項8 、48不具進步性。
八、系爭專利請求項11、13、14未違反專利法第71條第3 款之規 定。如系爭專利說明書之說明，過氧化氫於存在任何金屬離 子下，若不使用安定劑係不安定的，然而，在系爭專利之組 合物中使用安定劑雖可提供安定氧化劑（如過氧化氫）、降 低其分解速率之效，但可能伴隨不利之副作用，亦即會產生 一種安定劑／觸媒錯合物而抑制觸媒與氧化劑反應。系爭專 利說明書實施例8 及表7 與表8 所記錄之實驗結果已清楚例 示上述在本發明之CMP 組合物中添加安定劑將產生之結果。 其中，表7 「8 天後殘留之過氧化氫% 」欄及表8 「6 天後 殘留之過氧化氫% 」欄均顯示，過氧化氫在組合物中存在鐵 離子之情況下，若不使用安定劑係不安定的；相對於此，表 7 及表8 之「W 磨光速率（埃／分鐘）」欄則顯示系爭專利 說明書所述，因安定劑抑制觸媒與氧化劑之反應所導致之磨 光速率降低的副作用。除實施例8 以外，系爭專利說明書另 於實施例9 例示說明一種添加安定劑之CMP 組合物態樣，其 可避免添加安定劑所產生之抑制觸媒與氧化劑之反應的副作 用，相關實驗結果紀錄於表9 。如表9 所示，該CMP 組合物 中係以氧化鋁作為磨料，於該CMP 組合物之特定組合中，雖 然使用安定劑以提供安定過氧化氫而保持其活性之效，但該 組合之整體並沒有上述抑制觸媒與氧化劑反應的副作用，從
而使得添加安定劑之CMP 組合物態樣可提供比未添加安定劑 之CMP 組合物態樣更高的磨光速率。由上述說明可知，實施 例8 與表7 及表8 之實驗結果已清楚顯示安定劑可提供安定 CMP 組合物中之氧化劑的效果，實施例9 及表9 之實驗結果 則進一步提供了一可避免安定劑所生之副作用的更佳實施態 樣。舉發理由顯然刻意曲解系爭專利說明書之揭露內容，系 爭專利說明書並無未明確載明實施必要之事項，或其記載了 不必要之事項，使得實施請求項11、13及14所請發明為不可 能或困難之情事，故系爭專利請求項11、13及14並未違反專 利法第71條第3 款之規定。
九、至於原告訴稱系爭專利說明書表1 係為硝酸鐵、氧化劑及煙 霧狀氧化矽混合產物之實驗結果，不足以證明系爭專利併用 過氧基氧化劑與鐵觸媒具有相乘效益云云。惟查，依系爭專 利說明書第20頁記載「根據實施例1 之方法製備五種磨光淤 漿以研究添加一種硝酸鐵觸媒及／或一種過氧化氫氧化劑對 於CMP 淤漿之鎢磨光速率影響。各種淤漿包括重量5%之煙霧 狀氧化矽」，而實施例1 所示之磨光淤漿係「於該標準磨料 淤漿中添加各種氧化劑與觸媒以評估各種CMP 淤漿組合物對 於磨光速率之效果。該磨光淤漿係藉由混合適當用量之SCE 煙霧狀氧化矽為底質之分散液…與列舉用量之氧化劑、觸媒 以及若情況需要使用另外之添加劑」，故可知系爭專利說明 書表1 中淤漿1 至5 均含有相同比例之煙霧狀氧化矽，而該 煙霧狀氧化矽非本次實驗之操作變因，其操作變因僅有過氧 化氫與硝酸鐵濃度之不同，且其所得結果足以證明系爭專利 併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸媒」之技術手段以提高CMP 磨光效率之技術特徵，已如前述，故原告所訴，洵不足採。十、答辯聲明：原告之訴駁回。
肆、參加人聲明及陳述要旨
一、系爭專利發明在CMP 操作中併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸 媒」之技術手段未見於舉發證據2 至舉發證據4 之任一。系 爭專利申請專利範圍請求項1 、2 、4 至17及21至48所載發 明皆包含於CMP 操作中應用「鐵觸媒」之技術特徵，透過在 CMP 操作中併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸媒」之技術手段 ，在磨光速率上提供不可預期之協乘功效（1+1> 2）。舉發 證據2 與系爭專利先前二件舉發案之主要另案證據US5,527, 423 為同族專利，具相同揭露內容，該內容業經本院104 年 度行專訴字第33號行政判決詳細審酌並確認，並未揭露系爭 專利之發明，且依據該內容並參酌申請前既有之技術或知識 ，熟習該項技術者不具有足夠之教示、建議或動機以輕易完 成系爭專利之發明。清楚地，舉發證據2 並未揭露系爭專利
在CMP 操作中併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸媒」之技術手 段，彰彰甚明！至於舉發證據3 與舉發證據4 ，此二者皆非 針對CMP 技術領域之改良的教導，當然更未提及在CMP 操作 中併用「過氧基氧化劑」與「鐵觸媒」之特定技術手段，遑 論系爭專利發明由此獲致之發明功效。
二、舉發證據2 著重於磨料改良，未提供併用「過氧基氧化劑」 與「鐵觸媒」之動機；且舉發證據2 實施例更凸顯系爭專利 發明功效之不可預期。如前述，本院業已確認與舉發證據2 屬同族專利且具相同揭露內容之US5 ,527,423「所揭露之發 明所欲解決之問題、解決問題之技術手段及對照先前技術之 功效，均係直接關於選擇特定表面積與粒徑之細金屬氧化物 粒子，並無關同時併用過氧化物及鐵鹽作為氧化組分」，並 確認基於該揭露內容「並參酌優先權日前既有之技術或知識 ，熟習該項技術者並無任何之教示、建議或動機，欲選擇含 過氧基化合物之氧化劑及鐵觸媒之組合作為CMP 組合物之成 分」。申言之，舉發證據2 係著眼於CMP 淤漿所使用之磨料 的改良，尤其針對該磨料顆粒性質對金屬層之磨光結果的改 善，根本與系爭專利發明所關切之CMP 中之磨光速率的增進 無涉。事實上，舉發證據2 對於所揭露發明之詳細說明係提 供於第4 頁第20行至第10頁第28行，其中，有高達四分之三 的篇幅係關於研磨顆粒的製造與選用的記載，僅第8 頁第4 至20行簡單提及可添加使用的氧化劑。前述揭露內容之分配 ，益證舉發證據2 之發明技術重點在於研磨顆粒，而非研磨 顆粒以外之其他成分。詳閱舉發證據2 關於氧化劑之有限篇 幅的教導可知，該內容完全未述及觸媒的使用，亦未針對氧 化劑之組合作進一步的探討，尤其未教示使用「過氧基氧化 劑」與「鐵觸媒」之組合，或教導、建議或暗示任何氧化劑 之組合可以提供1+1 ＞2 的磨光速率增進效益。關於原告所 執之舉發證據2 內容「preferred components include oxi dizing metal salts , oxidizing metal complexes , iro n salts such as nitrates , sulfates , EDTA , citrate s , potassium ferricyanide and the like , aluminum s alts , sodium salts , potassium salts , ammonium sal ts , quaternary ammonium salts , phosphonium salts , peroxides , chlorates , perchlorates , permanganates , persulfates and mixtures thereof」，該內容與US5 ,5 27,423第5 欄第8 至31行之內容完全相同，且經本院確認， 基於該內容並參酌系爭專利優先權日既有之技術或知識，熟 習該項技術者並無任何之教示、建議或動機，欲選擇含過氧 基化合物之氧化劑及鐵觸媒之組合作為CMP 組合物之成分，
無法輕易完成系爭專利之發明。事實上，於上述內容中，「 and mixtures thereof」乃專利文件所慣用之馬庫西形式界 定方式，於列出可使用之選項之後，在句末並列混合物的態 樣。詳閱舉發證據2 全文，除上述習慣性並列混合物態樣的 用語（僅僅三個英文字）以外，未見任何針對使用二種或更 多種氧化劑的教導，也無併用多種氧化劑與單獨使用一種氧 化劑的差異說明，遑論併用鐵觸媒與過氧基氧化劑於CMP 之 磨光速率可達到顯著增進效益之相關記載。尤其舉發證據2 實施例所例示之淤漿均以5%硝酸鐵作為單一氧化劑，從未組 合使用多種氧化劑組合，當然亦未使用具有過氧基之化合物 與硝酸鐵之組合。在此情況下，所屬技術領域具有通常知識 者基於舉發證據2 之教導，根本不生採用特定氧化劑組合之 動機。再者，比較系爭專利實施例與舉發證據2 實施例之結 果可知，舉發證據2 之實施例結果，實乃進一步顯示系爭專 利發明於磨光速率的改良功效，凸顯系爭專利發明功效之不 可預期。其中，由系爭專利說明書實施例2 表1 中之淤漿2 （0.2 重量% 硝酸鐵，291 埃／分鐘）與淤漿3 （5.0 重量 % 過氧化氫，385 埃／分鐘）之結果可知，單位重量之硝酸 鐵所提供的磨光速率本即遠遠優於過氧化氫。然而，針對舉 發證據2 實施例3 淤漿1 中採用高達5 重量% 硝酸鐵所提供
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