智慧財產法院行政判決
104年度行專訴字第95號
原 告 家登精密工業股份有限公司
代 表 人 邱銘乾（董事長）
訴訟代理人 楊啟元律師
被 告 經濟部智慧財產局
代 表 人 王美花（局長）住同上
訴訟代理人 謝育桓
譚漢民
參 加 人 葉宗道
訴訟代理人 李維峻律師
陳文郎律師
賴蘇民律師
上列當事人間因發明專利舉發事件，原告不服經濟部中華民國10
4 年9 月8 日經訴字第10406313970 號訴願決定，提起行政訴訟
，並經本院命參加人獨立參加被告之訴訟，本院判決如下︰
主 文
原告之訴駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
一、程序方面：
被告經合法通知，有送達證書1 件在卷可按（本院卷第115 、116 頁），未於言詞辯論期日到場，經核被告並無行政訴 訟法第218 條準用民事訴訟法第386 條各款所列情形，爰依 原告之聲請，由其一造辯論而為判決。
二、事實概要：
原告前於民國97年3 月6 日以「光罩存放裝置以及保持光罩 清潔與乾燥之方法」向被告申請發明專利，經其編為第9710 7778號審查，准予專利（申請專利範圍共9 項），發給發明 第I331123 號專利證書（下稱系爭專利）。嗣參加人以系爭 專利違反審定時專利法第22條第1 項第1 款及第4 項規定， 不符發明專利要件，對之提起舉發。案經被告審查，於104 年4 月28日（104 ）智專三㈠02060 字第10420547420 號專 利舉發審定書為「請求項1 至2 、9 舉發成立應予撤銷。請 求項3 至8 舉發不成立」之處分。原告就前揭審定書中有關 「請求項1 至2 、9 舉發成立應予撤銷」之處分部分不服， 提起訴願，經經濟部104 年9 月8 日經訴字第10406313970 號決定駁回，原告不服，遂向本院提起行政訴訟。三、原告主張：
㈠原處分錯誤解釋系爭專利申請專利範圍之技術特徵：
⒈系爭專利中所謂「入氣埠設於該光罩的投射區域以外」， 其真意在於光罩存放裝置中入氣埠之位置應避開該光罩的 投射區域，以免自入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造 成傷害，因此應解釋為排除「入氣埠設於該光罩的投射區 域」之情況。原處分解釋為涵蓋「入氣埠僅一部分設於該 光罩的投射區域以外、另一部分則設於該光罩的投射區域 」之情況，顯然有誤。
⒉且系爭專利第四圖明確顯示卡持件111 延伸至入氣埠21之 上方，入氣埠21仍位於光罩投射區域以外。顯無如參加人 曲解般入氣埠21竟位於光罩投射區域以內之情形。實際上 ，系爭專利說明書及圖式，所揭露之技術皆屬「入氣埠21 位於光罩投射區域以外」，且排除「入氣埠21位於光罩投 射區域以內」之情況。
㈡關於請求項要件技術特徵「至少一入氣埠，設於該第二蓋體 上且設於該光罩的投射區域以外」之解釋：
⒈應解釋為「一或多個入氣埠」；「設於該第二蓋體上」應 解釋為「『該一或多個入氣埠』設於該第二蓋體上」，又 關於「且設於該光罩的投射區域以外」應解釋為「並且『 該一或多個入氣埠』設於該光罩的投射區域以外」。 ⒉關於「設於該光罩的投射區域以外」之解釋，考慮一般對 於中文文義之理解，以及系爭專利說明書所載及發明所屬 技術領域中具有通常知識者之技術水準，「入氣埠設於該 光罩的投射區域以外」應解釋為排除「入氣埠設於該光罩 的投射區域」之情況，而不應涵蓋「入氣埠中之一部分設 於該光罩的投射區域以外，另一部分則設於該光罩的投射 區域」之情況。如此才能符合申請專利範圍之文義及系爭 專利說明書之記載，並符合所屬技術領域中具有通常知識 者根據系爭專利說明書所能理解之正確內容。
㈢系爭專利請求項1、2、9各項確實符合專利要件： ⒈請求項1：
⑴請求項1 包含「至少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設 於該光罩的投射區域以外」之技術特徵，在正確理解此 要件技術特徵真意之下，應認證據2 所揭露「入氣埠一 部分設於該光罩的投射區域、僅一部分設於該光罩的投 射區域以外」之技術，與請求項1 之上開請求項要件技 術特徵尚有差異。且因此差異之存在，使得證據2 無法 達成系爭專利發明所欲達成之功效。因此，證據2 無法 證明請求項1 不具進步性。
⑵證據3 揭露「光罩圖案面上設有一保護件」。然而原處 分亦指明此特徵並非系爭專利發明所欲解決問題之所在
。證據3 未揭露「入氣埠設於該光罩的投射區域以外」 之技術特徵。即使將證據2 結合證據3 ，亦無從推知證 據2 、3 皆未揭露之「入氣埠設於該光罩的投射區域以 外」之技術特徵。因此，證據2 結合證據3 無法證明請 求項1 不具進步性。同理，證據2 結合證據4 或證據2 、3 、4 之結合，亦無法證明請求項1 不具進步性。原 處分認定請求項1 不具進步性之理由，皆不成立。 ⒉請求項2：
請求項2 依附於請求項1 ，解釋上應包含請求項1 之全部 要件技術特徵。證據2 或證據2 結合證據3 或證據2結 合 證據4 或證據2 、3 、4 之結合既無法證明請求項1 不具 進步性，自亦無法證明請求項2 不具進步性。
⒊請求項9：
⑴請求項9 包含「至少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設 於該光罩投射區以外」之技術特徵，此要件與上開請求 項1之 要件之差別僅在於請求項1 的「該光罩的投射區 域」在請求項9 成為「該光罩投射區」，實質意義上並 無任何差異。而證據2 所揭露「入氣埠一部分設於該光 罩的投射區、僅一部分設於該光罩的投射區以外」之技 術，與請求項9 之技術特徵尚有差異。且因此差異之存 在，使得證據2 無法達成系爭專利發明所欲達成之功效 。因此，證據2 尚無法證明請求項9 不具進步性。 ⑵證據3 揭露「光罩圖案面上設有一保護件」。然而，原 處分亦指明此特徵並非系爭專利發明所欲解決問題之所 在。證據3 未揭露「入氣埠設於該光罩的投射區以外」 之技術特徵。即使將證據2 結合證據3 ，亦無從推知證 據2 、3 皆未揭露之「入氣埠設於該光罩的投射區域以 外」之技術特徵。因此，證據2 結合證據3 無法證明請 求項9 不具進步性。同理，證據2 結合證據4 或證據2 、3 、4 之結合，亦無法證明請求項9 不具進步性。 ㈣並聲明：撤銷原處分有關「請求項1 至2 、9 舉發成立」部 分及訴願決定。
四、被告抗辯：
㈠所謂「入氣埠設於該光罩的投射區域以外」之真意： ⒈系爭發明之目的、技術內容、特點及功效下，應認系爭發 明中所謂「入氣埠設於該光罩的投射區域以外」之真意在 避免自入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造成傷害，為 所屬技術領域具通常知識者，在參酌系爭專利說明書下， 自可正確理解。依系爭專利說明書之【發明內容】所載， ，系爭專利目的之描述均不同於原告所主張之「避免氣體
其直接對於光罩的衝擊及傷害之目的」之解釋；另外系爭 專利說明書【實施方式】相關入氣埠之說明，亦揭示系爭 專利說明書內容雖見有入氣埠之位置及供氣之功用，但並 未記載入氣埠排除氣體直接衝擊光罩之功能；即系爭專利 之目的，確實並無防止氣體直接衝擊光罩之目的；且說明 書相關入氣埠21之說明也僅止於說明該入氣埠之位置及供 氣體進入之功用，並未說明該入氣埠用於防止氣體衝擊光 罩之技術特徵；故原告所稱系爭專利「避免氣體其直接對 於光罩的衝擊及傷害」確實為原告所新增之發明目的，與 系爭專利說明書內容不符。
⒉實際上系爭專利之發明目的及說明書內容相關「入氣埠」 僅提及其位置及供氣體進入功能，並無原告所新增之入氣 埠排除氣體直接衝擊光罩之功能；又入氣埠之位置及其進 氣之功能，此於證據2 圖5 及7 之注入件(318) 的3 個噴 孔設於光罩的投射區域(168) 以外之位置及注入件注入氣 體之功能相近；系爭專利之上述「入氣埠設於該光罩的投 射區域以外」之要件技術特徵確實可對應至證據2 之相關 結構。
㈡系爭專利請求項1 、2 、9 包含「至少一入氣埠，設於該第 二蓋體上且設於該光罩的投射區域以外」之技術特徵，已為 證據2 所揭露：
系爭專利請求項1 、2 、9 並未進一步限制卡持件(111) 邊 緣延伸至入氣埠(21)上方之結構，並無法達到產生漣漪狀擴 散之系爭專利目的，另外系爭專利請求項之「至少一入氣埠 ，設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區域以外」技術特 徵之解讀並不應該將說明書所未記載之「避免氣體其直接對 於光罩的衝擊及傷害」發明目的套用解釋，而應該以說明書 所載明之內容用以解釋申請專利範圍，至於二者之比對已如 前所述。
㈢並聲明：駁回原告之訴。
五、參加人抗辯：
㈠證據2已揭露系爭專利請求項1、2、9：
⒈原告前後矛盾地將系爭專利說明書中從未曾提及之「避免 入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造成傷害」作為技術 特徵之解釋導引，卻未見原告提出任何證據以實其說，是 原告對於系爭專利請求項1 、2 及9 之「至少一入氣埠， 設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區域外」技術特徵 之解釋，並無可採。實則，系爭專利請求項1 、2 及9 之 「至少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射 區域以外」技術特徵，早已見於證2 之5 至7 圖，該圖式
中明顯可見有注入件318 部份孔位於光罩投射區域以外， 則原處分認定證據2 已揭露此等技術特徵。
⒉且原告於系爭專利說明書撰寫之時未陳明「避免入氣埠流 入之氣體直接衝擊該光罩而造成傷害」之目的，卻於事後 舉發程序與前案相較之際，方於行政訴訟程序中泛泛指出 此一專利目的，毫無根據。
㈡系爭專利請求項3 已敘明: 「依據申請專利範圍第2 項所述 之可充填氣體之光罩存放裝置，其中該卡持件之邊緣延伸至 該入氣埠之上方」。故依據「請求項差異化原則」，系爭專 利請求項2 之「卡持件」可能直接住於入氣埠之上方，而卡 持件是用以支撐光罩邊緣，則「光罩」顯然亦有可能位於入 氣埠之上方，根本無法如原告所述「避免入氣埠流入之氣體 直接衝擊該光罩而造成傷害」。職是，自系爭專利說明書以 觀，原告所述「避免入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造 成傷害」之目的，與發明內容完全不同。
㈢又縱將系爭專利請求項1 、2 及9 之「至少一入氣埠，設於 該第二蓋體上且設於該光罩的投射區域以外」技術特徵，解 釋為排除「入氣埠部分設於該光罩的投射區域」之情況，但 原告仍然沒有提出如此解釋，是否其得以達到其所稱「避免 入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造成傷害」之功效與目 的，原告所言並無根據。又證據2 之第5 至7 圖已明確揭露 注入件318 部份孔位於7 光罩投射區域以外，當足以教示光 罩盒內之入氣埠可「全部」設於「光罩的投射區域以外」， 此對於系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者而言，並無 任何困難而可輕易完成。
㈣關於系爭專利請求項1 、2 及9 之「至少一入氣埠，設於該 第二蓋體上且設於該光罩的投射區域以外」技術特徵的解釋 ：
⒈所謂「避免入氣埠流入之氣體直接衝擊該光罩而造成傷害 」之目的，從未見於系爭專利說明書中，而此目的為原告 主張入氣埠需「全部設於光罩的投射區域以外」之前提， 既然此等前提不成立，則原告主張之解釋方式當亦無可能 成立。
⒉依據「請求項差異化原則」，系爭專利請求項3 既然要求 卡持件之邊緣延伸至入氣埠的上方，則系爭專利申請專利 範圍第2 項之卡持件當然無須有邊緣延伸，進而應包含卡 持件及光罩（卡持件與光罩緊貼）直接位於入氣埠上方之 情形，因此，系爭專利請求項1 、2 及9 的光罩當然亦可 能位於入氣埠之正上方。
⒊系爭專利說明書第四圖應係對應系爭專利請求項3 ，故原
告以第四圖說明系爭專利請求項1 、2 及9 之入氣埠位置 解釋並不足採。
⒋系爭專利說明書中從未記載任何「避免入氣埠流入之氣體 直接衝擊該光罩而造成傷害」之目的，或入氣埠「全部設 於光罩的投射區域以外」之限制，則原告以系爭專利說明 書第四圖反推該等目的與限制，實屬錯誤解釋。 ㈤證據2 及3 之組合，或證據2 、3 及4 之組合，足以證明系 爭專利請求項第1 、2 及9 不具進步性：
⒈系爭專利請求項1 、2 及9 之「至少一入氣埠，設於該第 二蓋體上且設於該光罩的投射區域（project region) 以 外」技術特徵，並不得解釋為入氣埠需「全部設於光罩的 投射區域以外」，已如前述。因此，證據2 已完整揭露「 至少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區 域（project region) 以外」技術特徵。至於其餘技術特 徵亦分別由證據2 及證據3 所揭露。
⒉又證據2 之第5 至7 圖已明確揭露注入件318 部份孔位於 光罩投射區域以外，當足以教示光罩盒內之入氣埠可「全 部位於光罩的投射區域以外」，此對於系爭專利所屬技術 領域中具有通常知識者而言，顯無任何困難而可輕易完成 。對於系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者而言，依 證據2 之第5 至7 圖及其說明內容，進而將「入氣埠全部 設於該光罩的投射區域」，可得輕易思及並完成。 ㈥並聲明：駁回原告之訴。
六、兩造不爭執事項及爭點（本院卷第93至94頁）： ㈠兩造不爭執事項：
⒈原告前於97年3 月6 日以「光罩存放裝置以及保持光罩清 潔與乾燥之方法」向被告申請發明專利，經其編為第9710 7778號審查，准予專利（申請專利範圍共9 項），發給發 明第I331123 號專利（即系爭專利）證書。 ⒉參加人所提舉發證據，其中證據2 為2006年11月30日公開 之美國專利第2006/0000000 A1 號「ENVIRONMENTAL CONT ROL IN A RETICLE SMIF POD 」專利案；證據3 為2003年 2 月4 日公告之美國專利第6513654B2 號「SMIF CONTAIN ER INCLUDING AN ELECTROSTA TIC DISSIPATIVE RETICLE SUPPORT STRUCTURE 」專利案；證據4 為2001年4 月17日 公告之美國專利第0000000B1 「SMIF CONTAINER INCLUDI NG A RETICLE SUPPORT STRUC TURE 」專利案，均為公開 日早於系爭專利之引證案。
㈡本件爭點：
⒈下列證據組合是否足以證明系爭專利請求項1 不具進步性
？
⑴證據2；
⑵證據2、3之組合；
⑶證據2、3、4之組合。
⒉下列證據組合是否足以證明系爭專利請求項2 不具進步性 ？
⑴證據2；
⑵證據2、3之組合；
⑶證據2、4之組合；
⑷證據2、3、4之組合。
⒊下列證據組合是否足以證明系爭專利請求項9 不具進步性 ？
⑴證據2、3之組合；
⑵證據2、3、4之組合。
七、得心證之理由：
㈠查系爭專利係於97年3 月6 日申請，99年8 月24日審定准予 專利，參加人於103 年3 月21日申請舉發（舉發卷第2 頁） ，被告於104 年4 月28日就本件專利舉發案為審定，故系爭 專利有無撤銷之原因（實體事項），應以核准審定時有效之 92年2 月6 日修正公布之專利法為斷。
㈡按利用自然法則之技術思想之創作，且可供產業上利用之發 明，得依92年2 月6 日修正公布之專利法第21條、第22條規 定申請取得發明專利。又發明為其所屬技術領域中具有通常 知識者依申請前之先前技術所能輕易完成時，不得依同法申 請取得發明專利，同法第22條第4 項定有明文。而發明有違 反第22條第4 項規定之情事者，任何人得附具證據，向專利 專責機關提起舉發；專利專責機關接到舉發書後，應將舉發 書副本送達專利權人，專利權人應於副本送達後1 個月內答 辯，除先行申明理由，准予展期者外，屆期不答辯者，逕予 審查（同法第67條第1 項第1 款、第2 項、第69條規定參照 ）。準此，系爭專利有無違反同法第22條第4 項所定情事而 應撤銷其發明專利權，依法應由舉發人（即參加人）附具證 據證明之，專利權人（即原告）亦得答辯，供專利專責機關 （即被告）審查，倘舉發人所附之證據足以證明系爭專利有 違前揭專利法之規定，自應為舉發成立之處分。 ㈢系爭專利之技術內容：
⒈系爭專利所屬之技術領域：
依系爭專利之發明專利說明書【發明所屬之技術領域】記 載，本發明係有關於一種光罩存放裝置，以及一種使用該 光罩存放裝置保持光罩清潔與乾燥之方法。（舉發卷第45
頁）。
⒉系爭專利之創作目的：
近代半導體科技發展迅速，其中光學微影技術扮演重要的 角色，只要是關於圖形定義，皆需仰賴光學微影技術。光 學微影技術在半導體的應用上，是將設計好的線路製作成 具有特定形狀可透光之光罩。利用曝光原理，則光源通過 光罩投影至矽晶圓可曝光顯示特定圖案。由於任何附著於 光罩上的塵埃顆粒（如微粒、粉塵或有機物）都會造成投 影成像的品質劣化，用於產生圖形的光罩必須保持絕對潔 淨，因此在一般的晶圓製程中，都提供無塵室的環境以避 免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕 對無塵的狀態。因此，現代的半導體製程皆利用抗污染的 存放裝置進行光罩的保存與運輸，以使光罩保持潔淨。存 放裝置係在半導體製程中用於存放光罩，以利光罩在機台 之間的搬運與傳送，並隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩 被雜質汙染而產生變化。因此，在先進的半導體廠中，通 常會要求該等存放裝置的潔淨度要符合機械標準介面（St andard Mechanical Interface ；SMIF），也就是說保持 潔淨度在Class 1 以下。故，在該等存放裝置中充入氣體 便是目前解決的手段之一。為了充填氣體進入該等存放裝 置，通常在存放裝置中會設有至少一個「入氣埠」，以與 供氣裝置連接，將氣體導入該存放裝置。而系爭專利所提 供之光罩存放裝置，以及保持光罩清潔與乾燥之方法乃是 就光罩存放裝置中入氣埠之位置，以及氣體進入存放裝置 後吸濕、保持乾燥與夾帶廢氣離開存放裝置之措施與方法 。系爭專利係提供一種保持光罩清潔與乾燥之方法與一種 可充填氣體之光罩存放裝置，此存放裝置，用以存放至少 一光罩，其中該光罩具有一圖案面，該圖案面設有一保護 件，其中該存放裝置包含有：一第一蓋體；一第二蓋體， 用以與該第一蓋體組合，形成一內部空間可容納該光罩， 其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設於該 第二蓋體上，用以支持並定位該光罩；至少一入氣埠，設 於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區域以外；以及至少 一出氣埠，設於該第二蓋體上且以該中央部分為中心之相 對於該入氣埠之另一側。因此，系爭專利之主要目的在於 提供一種光罩存放裝置，當氣體經過其入氣埠進入該存放 裝置後會產生漣漪狀擴散。系爭專利之再一目的在於提供 一種光罩存放裝置，當氣體經過其入氣埠進入該存放裝置 後能充份將光罩表面的保護件與光罩之間的溼氣帶走。系 爭專利之再一目的在於提供一種光罩存放裝置，可將大量
氣體經過其入氣埠進入該存放裝置後，經過光罩保護件側 置換保護件上之髒氣與濕氣。系爭專利之再一目的在於提 供一種光罩存放裝置，當氣體經過其入氣埠進入該存放裝 置後，少量氣體至光罩保護件之另外一側，置換光罩上之 髒氣與濕氣。系爭專利再一目的在於提供一種光罩存放裝 置，其具有接合件，當氣體經過其入氣埠進入該存放裝置 後，過多的氣體可從出氣埠或是該可洩壓接合件之間逸出 ，但是存放裝置中氣壓未超過一預先設定值時，該接合件 可保持該存放裝置之氣密性，並達到防塵之功效。（舉發 卷第45至其反面之系爭專利的發明專利說明書【先前技術 】、【發明內容】）。
⒊系爭專利請求項共9 項，其中第1 、2 、4 、9 項為獨立 項，餘為附屬項（舉發卷第42至41頁，相關圖式如附圖1 所示）。以下僅列有爭執之請求項：
⑴請求項1 ：一種可充填氣體之光罩存放裝置，用以存放 至少一光罩，其中該光罩具有一圖案面，該圖案面設有 一保護件，其中該存放裝置包含有：一第一蓋體；一第 二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內部空間可容 納該光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固 定件，設於該第二蓋體上，用以支持並定位該光罩；至 少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區 域（project region）以外；以及至少一出氣埠，設於 該第二蓋體上且以該中央部分為中心之相對於該入氣埠 之另一側。
⑵請求項2 ：一種可充填氣體之光罩存放裝置，用以存放 至少一光罩，其中該光罩具有一圖案面，該圖案面設有 一保護件，其中該存放裝置包含有：一第一蓋體；一第 二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內部空間可容 納該光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固 定件，設於該第二蓋體上，用以支持並定位該光罩；至 少一入氣埠，設於該第二蓋體上且設於該光罩的投射區 域(project region)以外；至少一出氣埠，設於該第二 蓋體上且以該中央部分為中心之相對於該入氣埠之另一 側；以及至少一卡持件，位於該第一蓋體面對該內部空 間之內側，用以支撐該光罩之邊緣。
⑶請求項9 ：一種保持光罩清潔與乾燥之方法，該光罩具 有一圖案面，該圖案面設有一保護件，該保護件係用以 保護該光罩不受污染，其方法包含有：提供一光罩存放 裝置，該光罩存放裝置具有：一第一蓋體；一第二蓋體 ，用以與該第一蓋體組合，形成一內部空間可容納光罩
，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設 於該第二蓋體上，用以支持並定位該光罩；至少一入氣 埠，設於該第二蓋體上且設於該光罩投射區以外；以及 至少一出氣埠，設於該第二蓋體上且以該中央部分為中 心之相對於該入氣埠之另一側；將光罩置於該固定件上 ，並使該光罩具有保護件的那一面朝向該第二蓋體；將 第一蓋體與第二蓋體密合；以及將氣體自該入氣埠裝置 充填進入該光罩存放裝置，藉此使得氣體可完全流經該 光罩具有保護件之面帶走該保護件上之灰塵與濕氣後， 從設於另一側的出氣埠排出。
㈣參加人所提之引證有三：
⒈證據2 至4 均為美國專利案，其中證據2 、4 各有分別於 我國申請專利之專利家族對應案。證據2 ，US2006/00000 00對應TZ000000000 ；證據4 ，US0000000 對應TW593077 。經核對，其說明書內容近乎相同，因此，關於證據2 、 4 的揭露內容將參照各別專利家族對應案的中文內容（本 院卷第206 頁至290 頁），此亦為兩造所同意（本院卷第 92頁），先予敘明。
⒉證據2 為95年11月30日公開之美國第2006/0000000A1號「 ENVIRONMENTAL CONTROL IN ARETICLE SM IF POD 」專利 案，公開日係早於系爭專利申請日（97年3 月6 日），可 為系爭專利之相關先前技術。其為有關於一種標準機械介 面罩幕晶圓盒，係用以提供支撐一罩幕之一受控環境，其 中受控環境係實質地維持不受晶粒生長所導致之污染物污 染。因此，提供一具有過濾器元件之一層狀過濾器，該過 濾器元件可過濾微粒並吸附氣體污染物。該過濾器具有一 向內表面，通常為平坦外型，且具有一表面區域，實質地 為罩幕表面之面積的一半或以上。向內表面係極接近罩幕 圖案表面，且具有一區域，其佔罩幕圖案表面區域之顯著 部份。標準機械介面盒更提供一淨化系統，注入一極乾燥 氣體於受控環境中，不但沖去受控環境中的汙染物，並使 過濾器再生。相關圖式如附圖2 所示。
⒊證據3 為91年2 月4 日公告之美國第6513654B2 號「SMIF CONTAINER INCLUDING AN ELECTROSTATIC DISSIPATIVE R ETICLE SUPPORT STRUCTURE」專利案，公告日係早於系爭 專利申請日（97年3 月6 日），可為系爭專利之相關先前 技術。其為一種含靜電消散光柵支撐結構的SMIF容器，該 支撐結構可用於支撐光罩或矽晶圓，包括1 支支撐柱和1 個固定架。除了固定晶圓外，也建立一放電通道自晶圓中 放出靜電，此支撐架在機械結構上與各支撐柱彼此接合，
自晶圓處構成1 個放電通道。具體而言，靜電沿著支撐結 構自晶圓處消散到支撐柱，並藉由莢門自SMIF莢散逸。相 關圖式如附圖3 所示。
⒋證據4 為90年4 月17日公告之美國第6216873B1 號「SMIF CONTAINER INCLUDING A RETICLE SUPPORT STRUCTURE 」 專利案，公告日係早於系爭專利申請日（97年3 月6 日） ，可為系爭專利之相關先前技術。其為一種主光罩支撐機 構，其中一主光罩可快速且輕易的設置與卸下，且其能夠 穩固的支撐一主光罩，用以儲存與輸送。一較佳之實施例 包括一對主光罩支撐件，固定於該容器之一門上，以及一 對主光罩保留器固定於該容器之一外殼上。當該容器外殼 於該容器門相聯結時，該主光罩支撐件及該主光罩保持器 之部分嚙合該主光罩之斜角邊緣，且將該主光罩夾在該容 器中之一固定的位置上。結果於其斜角邊緣嚙合的該主光 罩，可以避免與該主光罩之上部及下部表面以及垂直邊緣 的可能有害接觸。相關圖式如附圖4 所示。
㈤關於系爭專利請求項1：
⒈證據2 可證明系爭專利請求項1不具進步性： ⑴證據2 揭示一種罩幕標準機械界面晶圓盒之環境控制， 主要係減少光罩盒中化學及微粒汙染物的技術，其中說 明書第3 頁第[0014]段（舉發卷第31頁，參照專利家族 之我國對應案TZ000000000 ，下稱對應案1 ，說明書第 10頁第8 至11行，本院卷第215 頁），記載「罩幕具有 一工具以注射增壓極清潔乾燥空氣，稱為極淨乾空氣（ Extremely Clean Dry Air ；XCDA），注入罩幕傳送盒 的密封地緊閉空間中，並包含一工具將XCDA排出緊閉空 間。」之技術內容，故該注射增壓極清潔乾燥空氣即相 當於系爭專利可充填氣體之技術，是證據2 已揭露系爭 專利請求項1 「一種可充填氣體之光罩存放裝置」之技 術特徵。
⑵證據2 說明書第3 頁第[0029]段（舉發卷第31頁，參照 對應案1 說明書第11頁第4 至8 行，本院卷第216 頁） ，記載「密封地緊閉空間118 在罩幕124 裡提供了一個 緊閉環境，用以儲存及遷移…方形的罩幕124 具有一第 一表面126 ，相對於一第二圖案表面128 」之技術內容 ，故證據2 罩幕存放於密封地緊閉空間、及罩幕其中一 面為第二圖案表面等技術，即相當於系爭專利請求項1 用以存放至少一光罩、及其中該光罩具有一圖案面的技 術特徵，是證據2 已揭露系爭專利請求項1 「用以存放 至少一光罩，其中該光罩具有一圖案面」之技術特徵。
惟證據2 發明內容並未具體揭露「該圖案面設有一保護 件」之技術特徵。
⑶證據2 說明書第3 頁第[0029]段（舉發卷第31頁，參照 對應案1 說明書第10頁最後1 行至第11頁第4 行，本院 卷第215 至216 頁），記載「罩幕傳送盒100 通常包含 一出入口部份106 ，其與傳送盒外殼112 嚙合以形成一 密封地緊閉空間118 。其中，罩幕傳送盒100 可選擇性 地稱作罩幕容器、罩幕晶圓盒或罩幕箱，出入口部份10 6 可選擇性地稱作基底部分，傳送盒外殼112 可選擇性 地稱作蓋子」之技術內容，故證據2 的傳送盒外殼及出 入口部份，分別等同於系爭專利請求項1 的第一蓋體與 第二蓋體，且證據2 出入口部份與傳送盒外殼嚙合形成 一密封緊閉空間的技術特徵，亦相當於系爭專利請求項 1 第二蓋體與第一蓋體組合形成一可容納光罩的內部空 間之技術特徵。再者由證據2 圖式第3 圖亦明顯看出出 入口部份具有中央部分（本院卷第235 頁），此亦相當 於系爭專利請求項1 第二蓋體具有一中央部分的技術特 徵。是證據2 已揭露系爭專利請求項1 「其中該存放裝 置包含有：一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋 體組合，形成一內部空間可容納該光罩，其中該第二蓋 體具有一中央部分」之技術特徵。
⑷證據2 說明書第3 頁第[0030]段（舉發卷第31頁，參照 對應案1 說明書第11頁第13至17行，本院卷第216 頁） ，記載「複數個罩幕支撐件154 、罩幕側邊定位件160 和後定位件166 向外延伸，且以一空間相隔之關係與一 般大約位於上出入口表面136 之中心部份178 之上周邊 172 相鄰。罩幕支撐件154 係用將罩幕124 支撐在上出 入口表面136 上之一預定高度156 」之技術內容，故證 據2 罩幕支撐件設於上出入口表面用以支撐罩幕之技術 特徵，即相當於系爭專利固定件設於第二蓋體上用以支 持並定位光罩的技術特徵。是證據2 已揭露系爭專利請 求項1 「至少一固定件，設於該第二蓋體上，用以支持 並定位該光罩」之技術特徵。
⑸證據2 說明書第6 頁第[0037]段（舉發卷第30頁反面， 參照對應案1 說明書第17頁倒數第2 至7 行，本院卷第 222 頁），記載「如第2 圖所示，出入口部分106 之上 周邊172 與注射埠306 和抽取埠312 相連，以介於上開 口表面136 和下開口表面142 之間且通常平行於出入口 部份106 之側壁148 之方向，延伸穿過出入口部份106 。注射埠306 和抽取埠312 係共軸地接收一注射器配件
318 及一抽取器配件324 ，注射器配件318 及抽取器配 件324 分別可穿過地耦合至注射埠306 和抽取埠312 。 」之技術內容，故證據2 注射埠與抽取埠設於出入口部 份上周邊，即相當於系爭專利的入氣埠與出氣埠設於第 二蓋體上，且證據2 注射埠與抽取埠於出入口部分上對 稱設置的技術，亦相當於系爭專利請求項1 出氣埠以該 中央部分為中心相對設於入氣埠之另一側的技術特徵。 是證據2 已揭露系爭專利請求項1 「至少一入氣埠，設 於該第二蓋體上，以及至少一出氣埠，設於該第二蓋體 上且以該中央部分為中心之相對於該入氣埠之另一側。 」之技術特徵。惟證據2 並未揭露「入氣埠設於該光罩 的投射區域以外」之技術特徵。
⑹綜上，證據2 已揭露系爭專利請求項1 的主要技術特徵 ，差異僅在於，證據2 之發明未具體揭露①該圖案面設 有一保護件；②入氣埠設於該光罩的投射區域以外等技 術特徵。惟查，
①關於系爭專利之該圖案面設有一保護件之技術特徵部 分，經查證據2 所揭示光罩盒的環境控制的發明內容 雖未明確揭露於光罩圖案面一側設有一保護件之技術 特徵，惟於光罩圖案面形成保護措施之技術，為公知
, 台灣公司情報網