智慧財產法院民事判決
102年度民專訴字第129號
原 告 統盈國際企業有限公司
法定代理人 邱德明
訴訟代理人 徐偉峯律師
尤彰澤律師
被 告 瑞錳金屬有限公司
兼 法 定
代 理 人 陳春興
共 同
訴訟代理人 羅豐胤律師
複 代理人 吳佩書律師
上列當事人間侵害專利權有關財產權爭議等事件，本院於民國10
3 年6 月25日言詞辯論終結，判決如下：
主 文
原告之訴及假執行之聲請均駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
一、原告主張：
（一）原告為中國民國新型第M367665 號「鍋」專利之專利權人 ，專利權期間自民國98年11月1 日至108 年7 月1 日止（ 下稱系爭專利）。詎原告日前於公開市場中發現訴外人陳 ○○所販售之「藍水晶享樂鍋」產品（下稱系爭產品）之 產品特徵、結構配置與系爭專利技術內容非常相似，遂於 102 年8 月2 日派員購得系爭產品，系爭產品包裝內並附 有陳○○與製造廠商即被告瑞錳金屬有限公司（下稱瑞錳 公司）共同具名之產品保證卡乙張。嗣經原告將系爭產品 送請長江國際專利商標法律事務所鑑定，其鑑定結果為系 爭產品已落入系爭專利申請專利範圍第1 、2 、3 、5 、 6 項之權利範圍，是被告未經原告授權或同意，擅自製造 販售系爭產品，已構成對系爭專利權之侵害，爰依專利法 第120條準用第96條第1項、第3項之規定，請求被告瑞錳 公司不得自行或使第三人直接或間接為製造、為販賣之要 約、販賣、使用或為上述目的而進口系爭產品，亦不得為 其他一切侵害系爭專利之行為，至已流通於市面上之系爭 產品，亦應全部予以回收，並依同法第120條準用第96條 第2項、第97條及民事訴訟法第244條第4項之規定，暫先 請求被告瑞錳公司賠償原告所受之損害新臺幣（下同）10 0萬元。又被告陳春興為被告瑞錳公司之負責人，自應依 公司法第23條第2項之規定，與被告瑞錳公司連帶負損害
賠償責任。
（二）聲明：
１、被告應連帶給付原告100 萬元，及自起訴狀繕本送達之翌 日起至清償日止按年息百分之5 計算之利息。
２、被告不得自行或使第三人直接或間接為製造、為販賣之要 約、販賣、使用或為上述目的而進口系爭產品，亦不得為 其他一切侵害原告系爭專利之行為。被告已流通至市面上 之系爭產品，並應全部予以回收。
３、原告願供擔保，請准宣告假執行。
二、被告則抗辯如下：
（一）系爭專利申請專利範圍第1 項所謂「平整之不沾鍋面」應 解釋為「紋路須與不沾黏層高度齊平」:
１、原告曾於系爭專利遭舉發之程序中，提出答辯書陳稱：「 其油槽縱使有此塗層，其仍形成" 可供儲存油之油槽" ， 故足可證明其油槽再加上塗層，仍低於鍋底表面，而此結 構特徵與本案" 不沾粘層予以填平，使鍋底面形成平整之 不沾鍋面" 之具體特徵為兩種不同之技術內容」等語；再 參以系爭專利說明書第5 頁倒數第5 至7 行記載：「…… 且於多數個凹槽中設置不沾黏層予以填平，使鍋底面形成 平整之不沾鍋面……」等語；及前開舉發案之審定書載明 ：「顯見證據2 鍋體內表面之多個獨立油槽表面附著不粘 鍋塗層後，其鍋體內表面並不平整仍具有多個獨立油槽， 而非如系爭專利鍋底面形成平整者，兩者結構並不相同」 等語，可知系爭專利所謂的「平整」係凹槽中設置有不沾 黏層並予以填平後使不沾黏層與紋路齊平，沒有高低落差 ，成為非低於鍋底表面、非不平整、為連續式平面，而為 鍋底面形成平整者。
２. 依系爭專利申請專利範圍第1 項所載：「……該鍋底面上 佈設多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路，於該多數 個凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面」 等語，可知其字面文義，「不沾黏層」須與「紋路」齊平 ，始能形成「平整之不沾鍋面」。再者，另參酌系爭專利 說明書【新型內容】記載：「……該多數個凹槽中設置不 沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面。藉此設計，使食 物能平貼於不沾鍋面，而能達到平均受熱煮食效果，且使 工作人員之鍋鏟操作，可於鍋底面上平滑鏟動，故能避免 鍋鏟刮損不沾黏層，使鍋之煮食烹調能達到延長使用壽命 功效」等語，及【實施方式】載明：「本創作在鍋底面上 佈設多數個凹槽，且於多數個凹槽中設置不沾黏層予以填 平，使鍋底面形成平整之不沾鍋面，而讓置入的食物能平
貼於不沾鍋面，達到平均受熱煮食功效」等語，足見系爭 專利「平整之不沾鍋面」所欲達成之功效，包含「藉由使 食物平貼於不沾鍋面，以達到平均受熱烹煮之效果」，益 徵「平整之不沾鍋面」係指「不沾黏層」與「紋路」二者 齊平。
（二）系爭專利「無法據以實施」且「無法供產業上利用」而有 應撤銷之事由：
系爭專利所描述之「鍋」，其煮食空間內佈有填滿不沾黏 層的凹槽，其凹槽間形成紋路，其中凹槽中的「不沾黏層 與紋路齊平，使之為平整」，當鍋鏟與鍋的煮食空間內進 行翻炒時，不論鍋鏟的弧形、金屬材質與否，鍋鏟對於不 沾黏層和紋路的接觸機會是均等的，亦即鍋鏟也會鏟滑過 不沾黏層，故鍋鏟在翻炒時自然必將刮傷不沾黏層。由此 可知，系爭專利所稱的平整不沾鍋面「不易刮損」、「避 免刮損」等說明根本無法實施，屬非可供產業利用之創作 ，灼然甚明。
（三）系爭專利申請專利範圍第1 、2 、3 、5 、6 項「不具進 步性」而有得撤銷之原因：
１、被告所提出之引證一至引證九均可證明系爭專利申請專利 範圍第1 項不具進步性：
⑴引證一係我國第083204869 號「鍋底之改良結構」專利， 公告日為83年11月1 日；引證二係中國所公告CN0000000 號「不沾鍋」專利，公告日為86年5 月14日；引證三係我 國第088118432 號「不沾鍋表面處理方法及鍋體結構」專 利，公告日為90年12月21日；引證四係我國第086115283 號「不沾鍋之製造方法」專利，公告日為88年11月1 日； 引證五係我國第09420086號「不沾鍋之鍋具構造」專利， 公告日為94年9 月21日；引證六係中國所公告之CN000000 0 號「硬質螺紋不銹鋼不沾鍋」專利，公告日係96年4 月 18日；引證七係日本國公開特許公報特開平8-47457 號專 利，公告日係85年2 月20日；引證八係中國公開第CN2011 67837 號「鋁合金陽級氧化物理不粘鍋」專利，公告日係 97年12月24日；引證九係我國第093212989 號「烹飪鍋之 改良結構」專利，公告日為94年9 月11日。又引證一至九 之公告日均早於系爭專利申請日，可為系爭專利之先前技 術。
⑵引證一於鍋體底部內面形成蜂巢狀之凸紋11網路（同系爭 專利凹槽21間形成之紋路20），而該凸紋內形成圓凹部12 （同系爭專利之凹槽21），實與系爭專利之主要結構相同 。又引證一說明書第5 頁第7 至10行中記載：「蜂巢狀凸
狀（11）網路設計，除了不致影響煎炒之作業外，並能促 使大部分之鐵弗龍表面以細密的方式隱藏在圓凹部（12） 內，在煎炒時較不會受刮傷，達成圓凹部（12）內之鐵弗 龍特性能維持長久，提升鍋體使用壽命，且其在清洗時， 只需清水一沖就完全乾淨」等語，是引證一於圓凹部12內 設置不沾黏層之防刮傷功效，實與系爭專利完全相同。 ⑶引證二說明書第1 頁即揭示習知技術結構即具不沾黏層， 且表明該專利之鍋底表面設有凹凸花紋2 不沾黏層（同系 爭專利鍋底面上佈設多個凹槽21，該多個凹槽21間形成紋 路20，於該多數個凹槽中設置不沾黏層30）。又引證二之 第一圖可見該鍋底凹佈設置不沾黏層並為「平整鍋底」， 具防止不沾黏層被鏟掉之功效，使鍋具生產領域之人員於 觀示後均足以直接聯想出與系爭專利相同之結構。 ⑶引證三於鍋體之表面凹槽處理（同系爭專利於鍋底設置凹 槽21），又設置不沾黏表面（同系爭不沾黏層30），與系 爭專利無論於主要設置之凹凸紋路或不沾黏層之功效均相 同。又引證三說明書第7 頁記載：「由於本發明於鐵弗龍 處理層（14）之下層，直接形成一陶瓷鈦粉末層（13）之 處理，故而本發明的不沾鍋，縱使鍋體（10）凹凸處理凸 出部份的鐵弗龍層（14）因其使用而遭到刮除（如第三圖 中所示），亦可使兼具耐磨及不沾效果的陶瓷鈦粉末層（ 13）露出於鍋子表面，由於該陶瓷鈦粉末層（13）仍具有 鐵弗龍之之滑順不沾鍋特性，故而縱使本發明的鐵弗龍層 遭刮除，亦可藉由陶瓷鈦粉末層（13）來輔助殘留的鐵弗 龍層（14），同樣可保持食物不沾鍋之本來效果，使本發 明具有在長時間使用下，亦不會失去不沾鍋效果之功效增 進者」等語，與系爭專利相較而言，系爭專利之鍋底紋路 頂緣不沾黏層被刮除時，反而仍會沾黏食物，故系爭專利 之不沾黏功效不如引證三。
⑷引證四於鍋內以凹凸處理，並塗抹鐵弗龍層3 （同系爭專 利鍋底面上佈設多個凹槽21，該多數個凹槽21間形成紋路 20，於該凹槽內設置不沾黏層30）。又引證四之「第一圖 」右側小圖中，亦可見鍋底具與系爭專利相同之「平整表 面」。
⑸引證五之鍋體底面有凸肋，而該凸肋部分為凹槽（同系爭 專利之凹槽21及紋路20），與系爭專利之結構相同。 ⑹引證六鍋體5 的內表面刻有螺紋1 ，該螺紋1 由鍋底中央 以同心圓的結構向鍋邊延伸，所述螺紋1 包括波峰2 、波 谷3 和波面4 ，在所述的波峰2 、波谷3 和波面4 的上面 鍍有不沾黏層（同系爭專利鍋底面上佈設多個凹槽21，該
多個凹槽21間形成紋路20，於該多數個凹槽中設置不沾黏 層30）。又引證六第3 頁載明：「本實用新型的積極效果 如下：由於鍋體由不銹鋼材質構成，所以硬度高且不易銹 蝕，延長了鍋體的使用壽命；由於鍋體內表面刻有螺紋， 使鍋底呈凹凸不平的形狀，所以在使用中的鍋鏟只有波峰 的尖端滑過而不與波面直接接觸，從而保護鍋體，而且螺 紋還可增加鍋的不黏性；由於鍋體內表面鍍有不沾黏塗層 ，所以食物不易與鍋黏接，達到不黏鍋的效果」等語，其 效果與系爭專利完全相同。
⑺由引證七之圖示可知其容器具凹凸表面26，並由其說明書 （0012）段中可見凹凸表面26具PTFE（鐵弗龍）不沾黏被 覆（同系爭專利鍋體具凹槽21及紋路20並設置不沾黏層30 ），與系爭專利之構造完全相同。
⑻引證八中「鋁片拉伸成鍋」之技術特徵，實與系爭專利申 請範圍第1 項之「一種鍋(10)，其包含一體成型之鍋底(1 1)及環繞於該鍋底周緣向上彎折之鍋邊(12)，而在其中形 成一煮食空間」之技術特徵完全相同，顯見此已屬業界之 習知結構。另引證八中「鍋體1 內表面的多個微孔(3)」 之技術特徵，則與系爭專利申請範圍第1 項之「該鍋底面 上佈設多數個凹槽(21)，該多數個凹槽(21)之間形成紋路 (20) 」技術特徵相當；引證八中「不連續的疏水性物質 所填充的微孔間的鍋體1 內表面」，則相當於系爭專利申 請範圍第1 項之「其紋路(20)即相鄰凹槽(21)間所形成」 ；引證八中「微孔中填充有疏水性物質」之技術特徵，與 系爭專利申請範圍第1 項之「於該多數個凹槽(21)中設置 不沾黏層(30)」技術特徵相同。而「引證八」圖2 亦清楚 地揭露鍋體1 內表面有為疏水性物質所填充的微孔且呈平 整之技術特徵，更與系爭專利之「使鍋底面形成平整之不 沾鍋面」技術特徵完全相同。
⑽引證九之鍋身底面設有環繞螺旋紋，並該螺旋紋呈鋸齒狀 ，並具齒溝，與系爭專利鍋底上佈設凹槽之技術特徵相同 。
⑾綜上所述，引證一至引證九足以證明系爭專利申請範圍第 1 項不具進步性，違反核准時專利法第94條第4 項之規定 ，故系爭專利申請專利範圍第1 項確有得撤銷之原因。 ２、引證一至引證九均可證明系爭專利申請專利範圍第2 、3 、5 、6 項不具新穎性、進步性：
⑴系爭專利申請專利範圍第2 項係依附第1 項，並增加鍋底 與鍋邊處設置凹槽，然該鍋體底面設置凹槽面積，係早於 系爭專利申請前即已公開之引證一至引證九即可輕易思及
之設計，且引證六於鍋底及鍋邊處佈設波谷之技術特徵， 更與系爭專利申請範圍第2 項完全相同。
⑵系爭專利申請專利範圍第3 項之特徵為凹槽的深度尺寸為 0.06mm至0.3mm ，該凹槽尺寸為配合製造時之鍋底厚度設 計，係屬基本鍋具製造技術，僅為尺寸大小的限定，並無 任何功效的增進，顯無進步性可言。況且，引證三中亦曾 提出其凹槽深度設定，顯屬該產品領域中具有通常知識者 依據早於系爭專利申請前即已公開之引證一至引證九資料 ，即可輕易思及之設計。
⑶系爭專利申請專利範圍第5 項為依附第1 或2 項、第6 項 為依附第3 項，特徵為「鍋之周面設置一把手」，惟該鍋 具把手本為鍋具之基本結構，此如引證五之圖示亦繪製有 把手，即足知悉，故系爭專利申請專利範圍第5 、6 項均 為所屬技術領域中具有通常知識者觀諸引證一至引證九之 公開資料即可輕易得知。
⑷由上述可知，引證一至引證九已可證明系爭專利申請專利 範圍第2 、3 、5 、6 項不具新穎性及進步性，違反核准 時專利法第94條第1 項第1 款及第4 項之規定，故系爭專 利申請專利範圍第2 、3 、5 、6 項確有得撤銷之原因。（三）系爭產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1 、2 、3 、 5 、6項之文義範圍及均等範圍：
１、系爭產品不符合系爭專利申請專利範圍第1 項之文義讀取 ：系爭產品之鍋底面形成「不平整的不沾鍋面」，不同於 系爭專利在申請專利範圍第1 項所界定之技術特徵，故系 爭產品不符合系爭專利申請專利範圍第1 項的「文義讀取 」，合先敘明。
２、系爭產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1 項之均等範 圍：
⑴就採用之技術手段而言，系爭產品之不沾黏層與紋路間具 有高度落差，系爭專利則無：
系爭專利之要件係使「紋路與不沾黏層高度齊平」，以使 鍋底呈現平整連續式之平面；惟系爭產品之凹槽內雖存有 不沾黏層，但該「不沾黏層與紋路間存有顯而亦見之高度 落差」，使不沾黏層明顯低於凹槽之紋路，致鍋底面形成 不連續、不平整的不沾鍋面，故兩者技術手段顯不相同。 原告故意忽略兩者間「高度齊平」或「具有落差」之顯著 差異，僅以兩者凹槽間皆置有不沾黏層即逕稱技術手段相 同云云，顯已過度且不當擴張其專利範圍至所有不沾黏層 之技術，殊難採憑。此外，系爭產品中「不沾黏層與紋路 間之高低落差」，並非原告所稱僅有0.07mm，經被告實際
以深度計測量後發現，系爭產品之高低落差至少為0.13mm ，顯屬具有高低落差之「不平整」鍋底。然而，依據系爭 專利申請專利範圍第4 項所述，系爭專利於「凹槽」部分 設計深度即僅僅有0.08至0.15mm，則再依其所述技術「填 入不沾黏層」且「予以填平」後，系爭專利中之不沾黏層 即已與鍋底紋路齊平而無任何高低落差，顯與系爭產品經 填入不沾黏層後，卻仍有高達0.13mm之高低落差乙節，顯 有不同。易言之，系爭產品於「填入不沾黏層後之高低落 差」仍遠比系爭專利「尚未填入不沾黏層之單純凹槽」更 深，足證系爭產品之技術特徵顯與系爭專利全然不同。況 且，無論系爭產品中「不沾黏層與紋路間之高低落差」為 何，均屬「不平整」之鍋底，核與系爭專利說明書所強調 予以填平之「平整」鍋底全然不同，不容原告混為一談， 附此敘明。
⑵就達成之功能而言，系爭產品具有以較高之鍋底紋路阻擋 鍋鏟之滑動，使鍋鏟無法刮傷不沾黏層之功能，系爭專利 則無：
原告雖稱系爭專利於功能上，能使鍋鏟平滑鏟動，不致直 接刮傷凹槽內之不沾黏層云云，惟因系爭專利實為鍋底紋 路與不沾黏層「齊平」之鍋面，故鍋鏟滑動時，尖銳處勢 必仍將刮傷齊平之不沾黏層，根本無法達成其所述之功能 而應予剔除，系爭專利僅因其屬於平整之鍋面，而能達成 原告所述第2 種「使食物貼於不沾黏層」之功能；反觀系 爭產品，因鍋底紋路與不沾黏層間具有顯著之高度落差， 故雖無法達成使食物平貼於不沾黏層之功能，但卻因此一 高度落差，而能達成鍋鏟滑動時，以較高之鍋底紋路阻擋 鍋鏟之滑動，使鍋鏟無法刮傷不沾黏層之功能，是以，兩 者間之功能完全不同。
⑶就產生之效果而言，系爭專利藉由使食物平貼於不沾黏層 之功能，以達成其所追求使食物平均受熱煮食之結果與功 效，系爭產品則無：
系爭專利藉由使食物平貼於不沾黏層之功能，以達成其所 追求使食物平均受熱煮食之結果與功效；然而於系爭產品 部分，因鍋底紋路與不沾黏層間具有顯著之高度落差，故 食物將置於較高之鍋底紋路上，無法平貼於不沾黏層，無 法產生平均受熱之效果，兩者之結果實質不同，已臻至明 。
３、綜上，系爭產品不符合系爭專利申請專利範圍第1 項之文 義讀取，亦未落入系爭專利申請專利範圍第1 項之均等範 圍，故系爭產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1 項之
權利範圍。又系爭專利申請專利範圍第1 項為獨立項，其 餘第2 、3 、5 、6 項為附屬項，在系爭產品未落入系爭 專利申請專利範圍第1 項之基礎下，系爭產品自亦不落入 系爭專利申請專利範圍第2 、3 、5 、6 項之權利範圍， 已臻至明。
（四）被告瑞錳公司並無故意或過失：
被告瑞錳公司於102 年8 月間收受原告之警告信時，已回 覆被告瑞錳公司產製系爭產品所使用之外型結構，早為鍋 具業者熟知之習用技術，並無侵害系爭專利權，且原告並 未依法檢附技術報告證明系爭專利之有效性等語，即可證 明被告瑞錳公司並無侵害系爭專利權之故意或過失，自無 需負連帶賠償之責任。
（五）聲明：原告之訴駁回。如受不利判決，被告願供擔保，請 准宣告免為假執行。
三、兩造不爭執之事實：
（一）原告為系爭專利之專利權人，專利權期間自98年11月1 日 起至108 年7 月1 日止。
（二）原告於102 年8 月2 日向陳○○所買受之系爭產品為被告 瑞錳公司所製造。
四、本件爭點：
（一）系爭專利申請專利範圍第1 項所謂「平整之不沾鍋面」應 如何解釋？
（二）系爭專利申請專利範圍第1 、2 、3 、5 、6 項是否有應 撤銷之原因？
（三）系爭產品是否有落入系爭專利申請專利範圍第2 、3 、5 、6 項之文義範圍或第1 項之均等範圍？
（四）被告瑞錳公司有無侵害原告專利權之故意或過失？（五）原告得請求被告賠償之金額為若干？
五、得心證之理由：
（一）按當事人主張或抗辯智慧財產權有應撤銷、廢止之原因者 ，法院應就其主張或抗辯有無理由自為判斷，不適用民事 訴訟法、行政訴訟法、專利法或其他法律有關停止訴訟程 序之規定。前項情形，法院認有撤銷、廢止之原因時，智 慧財產權人於該民事訴訟中不得對於他造主張權利，智慧 財產案件審理法第16條定有明文。本件被告既否認系爭專 利具有可專利性，並以前揭情詞置辯，依前開規定，本院 就被告之抗辯有無理由，應自為判斷。又系爭專利係於98 年7 月2 日申請，並經智慧局於98年11月1 日審定核准之 ，故系爭專利有無撤銷之原因，應以核准審定時之92年2 月6 日修正公布、93年7 月1 日施行之專利法（下稱92年
專利法）為斷。
（二）系爭專利技術分析：
１、系爭專利技術內容：
系爭專利係關於一種鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於 該鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間， 該鍋底面上佈設多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路 ，於該多數個凹槽中設置不沾黏層予以填平，使鍋底面形 成平整之不沾鍋面，藉此設計，使不沾黏層位於凹槽中， 而能避免工作人員之鍋鏟操作刮損到該不沾黏層（主要圖 式如附圖所示）。
２、系爭專利申請專利範圍：
系爭專利申請專利範圍共計7 項，其中第1 項為獨立項， 第2 至7 項為附屬項，其中與本件請求相關者為第1 、2 、3 、5、6項，其內容如下：
⑴第1 項：一種鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於該鍋底 周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間，該鍋底 面上佈設多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路，於該 多數個凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋 面。
⑵第2 項：如申請專利範圍第1 項所述之鍋，其中，鍋底與 鍋邊交接處佈設多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成細緻 紋路，於該多數個凹槽中設置不沾黏層。
⑶第3 項：如申請專利範圍第1 或2 項所述之鍋，其中，凹 槽的深度尺寸為0.06mm至0.3mm 的尺寸範圍中。 ⑷第5 項：如申請專利範圍第1 或2 項所述之鍋，其中，鍋 之周面設置一把手。
⑸第6 項：如申請專利範圍第3 項所述之鍋，其中，鍋之周 面設置一把手。
（三）系爭產品之技術內容：：
系爭產品為一種具有菱形蜂槽之不沾鍋，鍋之周面設置一 把手，鍋身包含一體成型之鍋底及環繞於該鍋底周緣向上 彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間，該鍋底面上佈設 多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路，凹槽中設置不 沾黏層。
（四）系爭專利申請專利範圍第1 項所謂「平整之不沾鍋面」之 解釋：
１、按新型專利權範圍，以說明書所載之申請專利範圍為準， 於解釋申請專利範圍時，得審酌說明書及圖式，92年專利 法第106 條第2 項定有明文。是以，專利權範圍係以申請 專利範圍之記載為準，倘申請專利範圍之記載內容已然明
確，應以其所載之文字意義（plain meaning ），及其所 屬技術領域中具通常知識者所認知或瞭解該文字在該技術 領域中通常所總括的範圍予以解釋。倘申請專利範圍之記 載內容並非明確，則優先參酌創作說明及圖式之定義。若 尚無法由創作說明、圖式瞭解其文義，則得參酌專利申請 階段至專利權維護過程之歷史檔案（內部證據）與「外部 證據」，後者指內部證據以外之其他證據。關於內部證據 與外部證據之適用順序，係先使用內部證據解釋申請專利 範圍，如足使申請專利範圍清楚明確，即無考慮外部證據 之必要。
２、依系爭專利申請專利範圍第1項所載：「……該鍋底面上 佈設多數個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路，於該多數 個凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面」 等語，可知其字面文義，「不沾黏層」須與「紋路」齊平 ，始能形成「平整之不沾鍋面」。再者，參酌系爭專利說 明書【新型內容】載有：「……該多數個凹槽中設置不沾 黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面。藉此設計，使食物 能平貼於不沾鍋面，而能達到平均受熱煮食效果，且使工 作人員之鍋鏟操作，可於鍋底面上平滑鏟動，故能避免鍋 鏟刮損不沾黏層，使鍋之煮食烹調能達到延長使用壽命功 效」等語（參本院卷第24頁第7 至12行），及【實施方式 】載有：「本創作在鍋底面上佈設多數個凹槽，且於多數 個凹槽中設置不沾黏層予以填平，使鍋底面形成平整之不 沾鍋面，而讓置入的食物能平貼於不沾鍋面，達到平均受 熱煮食功效」等語（參本院卷第24頁背面末段），足見系 爭專利「平整之不沾鍋面」所欲達成之功效，包含「藉由 使食物平貼於不沾鍋面，以達到平均受熱烹煮之效果」， 益徵「平整之不沾鍋面」係指「不沾黏層」與「紋路」二 者齊平。蓋按系爭專利申請時其所屬技術領域之通常知識 ，倘「不沾黏層」與「紋路」並非同高，則將無法使食物 均勻貼覆於鍋面。依上開申請專利範圍解釋原則，既然系 爭專利申請專利範圍、說明書之內容，「平整」乙語已然 明確，自無須再參酌其他證據為解釋。又原告曾於本院10 2 年度民專訴字第83號侵害專利權有關財產權爭議等事件 102 年12月18日言詞辯論期日同意就「平整之不沾鍋面」 應解釋為「紋路需與不沾黏層高度齊平」，有該言詞辯論 期日筆錄附卷可稽（參本院卷第285頁），併予敘明。（五）系爭產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1 項之均等範 圍及第2 、3 、5 、6 項之文義範圍：
１、系爭產品可文義讀取系爭專利申請專利範圍第1項「一種
鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於該鍋底周緣向上彎折 之鍋邊，而在其中形成一煮食空間，該鍋底面上佈設多數 個凹槽，該多數個凹槽之間形成紋路，於該多數個凹槽中 設置不沾黏層」之技術內容，但無法文義讀取該申請專利 範圍第1項之「使鍋底面形成平整之不沾鍋面」要件，兩 造均不爭執（參本院卷第255頁）。是本件侵權判斷，應 視系爭產品是否均等讀取系爭專利申請專利範圍第1項「 使鍋底面形成平整之不沾鍋面」之要件，合先敘明。 ２、就技術手段而言，系爭專利之「使鍋底面形成平整之不沾 鍋面」要件，係藉由使紋路與不沾黏層高度齊平，以形成 平整之不沾鍋面；而系爭產品因不沾黏層係低於凹槽之紋 路，故而無法使鍋底形成平整之不沾鍋面，是以二者技術 手段實質不同。就功能而言，系爭專利因鍋底形成平整之 不沾鍋面，得使食物、鍋鏟接觸不沾黏層；而系爭產品因 不沾黏層係低於凹槽之紋路，故而無法使任何食物於烹煮 時即能接觸「不沾黏層」，是無必然使食物平貼於不沾鍋 面之可能。再者，正常使用鍋鏟時（如：翻炒、鏟動）， 鍋鏟係與紋路接觸，而無法接觸至不沾黏層，因此二者功 能實質不同。就結果而言，系爭專利可使食物平貼於不沾 鍋面而平均受熱，並使鍋鏟得於鍋底面上平滑鏟動，此亦 為系爭專利說明書所載創作目的及所欲達成之功效（參見 系爭專利說明書第4 頁第9 至11行，本院卷第24頁）；反 觀系爭產品，既無法使任何食物均得平貼於「不沾鍋面」 ，且因鍋底面並非平整，是而無法產生使食物自始即能平 均受熱。此外，鍋鏟移動時，僅能於紋路上滑動，並無法 產生「平滑鏟動」之效果，足見二者結果實質不同。何況 ，原告曾在經濟部智慧財產局（下稱智慧局）關於系爭專 利N01舉發階段中答辯：「證據2雖揭露本案於其鍋底11底 面上所佈設的多數個凹槽21及位於該多數個凹槽21之間的 紋路20，以及在該多數個凹槽21中設置不沾黏層30等技術 特徵。但是，證據2則係揭露鍋底內所設之塗佈有不粘鍋 塗層油槽21是形成凹槽狀，而本案（即系爭專利）請求項 1係明確界定"該多數個凹槽21中設置不沾黏層30使鍋底11 面形成平整不沾鍋面"，兩者之形狀構造完全不同」、「 反觀本案請求項1界定之鍋，其係利用鍋底面佈設的多數 凹槽21中以不沾粘層予以填平，使鍋底面形成平整之不沾 鍋面，讓置入的食物能平貼於不沾鍋面」等語（參本院卷 第77頁），無非是強調系爭專利異於先前技術之技術特徵 在於「凹槽以不沾黏層填平」，此由原告簡報引用舉發答 辯書之段落，迭次強調「於凹槽21中以不沾黏層予以『填
平』而形成之不沾鍋面」益明（參原告103年6月25日言詞 辯論期日所提出之簡報第5至8頁）。據上，系爭專利申請 專利範圍第1項之「使鍋底面形成平整之不沾鍋面」要件 與系爭產品之「不平整鍋面」相較，二者並非以實質相同 之技術手段，且不具有實質相同之功能，亦無法產生實質 相同之結果，自無均等論之適用。準此，系爭產品自未落 入系爭專利申請專利範圍第1項之均等範圍。又系爭專利 申請專利範圍第2、3、5及6項為直接或間接依附於第1項 之附屬項，故包括第1項之所有技術內容，並加以限定。 既然，系爭產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1項之 文義範圍，自亦未落入系爭專利申請專利範圍第2、3、5 及6項之文義範圍。同理，系爭產品並未落入系爭專利申 請專利範圍第1項之均等範圍，是自亦未落入系爭專利申 請專利範圍第2、3、5及6項之均等範圍。
３、原告雖稱：原告於舉發答辯狀中，在說明系爭專利與各個 舉發引證案之區別時，皆是明白陳述系爭專利與各引證案 不同之處在於「引證案之技術無法使食物能平貼於不沾鍋 面，而無法達到平均受熱煮食效果」。由此可知原告於N0 1舉發階段之答辯狀，明確未放棄「使食物能平貼於不沾 鍋面而能達到平均受熱煮食效果」之均等範圍云云。惟查 ，判斷是否有「均等論」之適用，應視專利之技術要件與 被控侵權物對應該要件者，二者是否實質相同，而非「具 有相同功效者」，即可判斷落入均等範圍，原告前述理由 ，應有誤解。又原告於103 年6 月25日言詞辯論期日提出 之簡報第10頁繪製「舉發引證案、系爭專利、侵權產品之 比較」（下稱「比較圖」，參本院卷第296 頁背面），藉 以說明系爭專利於N01 舉發階段之舉發證據2 、系爭專利 與系爭產品之技術關係，並藉以證明系爭產品並非系爭專 利於舉發階段所排除之權利範圍。然查，系爭專利N01 舉 發證據2 並未揭示「凹槽深度範圍」，是上揭比較圖之凹 槽深度，應為原告所推測。再者，前揭N01 舉發審定書認 舉發證據2 「鍋體內表面不平整」，故有別於系爭專利（ 參本院卷第68頁背面第23至26行），亦即明確將「不平整 」鍋面排除於系爭專利之權利範圍，始為「舉發不成立」 之處分。此外，按一般常理，只要鍋底面形成有凹槽，油 脂自然會流入其中。正常使用下，除非油脂量多達足以填 滿所有凹槽，否則凹槽內之油脂量應非一致，亦即應如前 揭比較圖中「舉發引證案」所示。因此，舉發引證案與系 爭產品同為「不平整」鍋面，理應產生「油脂流入凹槽」 之相同結果，並無原告比較圖所示之差異（舉發引證案之
凹槽有油脂，而系爭產品之凹槽內無油脂），是該比較圖 並無法呈現實際狀況。職是，原告所繪比較圖，並無根據 ，亦有悖於常理，故不足證明系爭產品並非其舉發階段已 排除之權利範圍。
４、原告另稱：系爭專利申請專利範圍第1項之技術手段，係 於鍋底面佈設多數個凹槽(21)，該多數個凹槽之間形成紋 路(20)，於該多數個凹槽中設置不沾黏層(30)；而系爭產 品，係於鍋底部設有圓弧形網狀之紋路，於圓弧形網狀紋 路之間形成複數個以上呈圓弧形之凹槽，該複數個凹槽內 設置有不沾鍋之塗層，故二者技術手段實質相同等語（參 本院卷第266 頁背面至第267 頁）。然查，系爭專利申請 專利範圍第1 項已明確界定「形成平整之不沾鍋面」，其 技術手段自應限定於「平整」不沾鍋面之態樣。換言之， 系爭專利之技術手段除設有「紋路」與「不沾黏層」外， 尚須限定於使「紋路」及「不沾黏層」二者高度齊平而形 成「平整之不沾鍋面」。原告僅因系爭專利與系爭產品二 者均設有「紋路」及「不沾黏層」，即認二者技術手段實 質相同，實已忽略限定於請求項之技術特徵，委無足採。 ５、原告固又稱：縱系爭產品之不沾黏層與紋路頂面未完全齊 平，但仍能達到使食物平貼於不沾黏層及平均受熱煮食之
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