侵害專利權有關財產權爭議等
智慧財產法院(民事),民專上字,100年度,5號
IPCV,100,民專上,5,20130731,2

智慧財產法院民事判決
100年度民專上字第5號
上 訴 人 即
反訴被上訴人 美商應用材料股份有限公司
（Applied Materials,Inc.）
法 定代理 人　Stephen N. Adams
訴 訟代理 人 林怡芳律師（僅受本訴之委任）
　 李貞儀律師（僅受本訴之委任）
　 童啟哲（僅受本訴之委任）
反訴被上訴人 美商業凱科技股份有限公司
法 定代理 人　Thomas Edman
上列二人共同
訴 訟代理 人　陳彥希律師
林哲誠律師
被 上訴人 即
反 訴上訴 人 韓商周星工程股份有限公司
（Jusung Engineering CO., Ltd）
　　　　　　　　　　　　　設大韓民國京畿道廣州市五浦邑陵
坪里四十九（＃49,Neungpyeong-R
i, Opo-eup,Gwangju-Si,Gyunggi-
Do,Korea)
法定代理人　 黃喆周（Hwang Chul Joo）
　住同上
被上訴人即
反訴被上訴人 英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司
　　　　　　　　　設新竹縣竹北市○○○街○○號3樓
　　　　　　　　　　　　　之2
法定代理人 　金憲度　　　住同上
上列二人共
同訴訟代理人　樓穎智　　住臺北市○○區○○○路○○○ 號7樓
黃章典律師
　　　　　　張哲倫律師
複代理人 湯舒涵律師
　 朱仙莉律師
上列當事人間侵害專利權有關財產權爭議等事件，上訴人即反訴
被上訴人對於中華民國99年12月31日臺灣新竹地方法院93年度重
智字第3 號第一審判決提起上訴，本院於中華民國102 年6 月28
日言詞辯論終結，判決如下：
主 文
兩造上訴均駁回。




第二審訴訟費用各自負擔。
事實及理由
壹、程序部分：
一、本件乃涉外民事事件，且我國法院有國際裁判管轄權： ㈠按國際私法上關於國際管轄權之決定，係依各國司法實務之 發展及準用或類推適用內國民事訴訟法上關於定管轄權之原 則而定。本件本訴上訴人即反訴被上訴人美商應用材料股份 有限公司（Applied Materials, Inc. 下稱美商應用公司） 係美商、本訴被上訴人即反訴上訴人韓商周星工程股份有限 公司（Jusung Engineering C0., Ltd.下稱韓商周星公司） 係韓商、英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司（下稱英屬 蓋曼群島商周星公司）係英屬蓋曼群島商、反訴被上訴人美 商業凱科技股份有限公司（下稱美商業凱公司）係美商，均 為外國法人，具有涉外因素，為涉外民事事件。又中華民國 涉外民事法律適用法雖於民國100 年5 月26日修正施行，惟 無論修正前後之涉外民事法律適用法均無關於國際管轄權之 規定，而依據修正前第30條及修正後第1 條之規定：「涉外 民事，本法未規定者，適用其他法律之規定，其他法律無規 定者，依法理」。又按民事事件涉及外國人或外國地者，為 涉外民事事件，內國法院應先確定有國際管轄權，始得受理 ，次依內國法之規定或概念，就爭執之法律關係予以定性後 ，決定應適用之法律（即準據法），而涉外民事法律適用法 並無明文規定國際管轄權，應類推適用民事訴訟法之規定（ 最高法院98年度台上字第2259號判決意旨參照）。故中華民 國法院對本件有無國際管轄權之認定，應類推適用中華民國 民事訴訟法之規定。
㈡復按涉外民事訴訟事件，管轄法院須以原告起訴主張之事實 為基礎，先依法庭地法或其他相關國家之法律為「國際私法 上之定性」，以確定原告起訴事實究屬何種法律類型，再依 涉外民事法律適用法定其準據法（最高法院92年度臺再字第 22號民事判決參照）。另按涉外民事法律適用法規定「實體 」法律關係所應適用之「準據法」，與因「程序上」所定「 法院管轄權」之誰屬係屬二事（最高法院83年度臺上字第11 79號民事判決參照）。又管轄權之有無，固應依原告主張之 事實為據，然管轄權之有無，為受訴法院應依職權調查之事 項，與當事人之請求是否成立無涉（最高法院98年度台抗字 第709 號判決意旨參照）。依法理，此於國際管轄權之認定 上，亦應類推適用。再按訴訟，由被告住所地之法院管轄； 被告住所地之法院不能行使職權者，由其居所地之法院管轄 ；訴之原因事實發生於被告居所地者，亦得由其居所地之法



院管轄；民事訴訟法第1 條第1 項定有明文。對於私法人或 其他得為訴訟當事人之團體之訴訟，由其主事務所或主營業 所所在地之法院管轄，同法第2 條第2 項亦有明文。又因侵 權行為涉訟者，得由行為地之法院管轄，為同法第15條第1 項所明定。本件美商應用公司主張韓商周星公司侵害其專利 權應負擔損害賠償責任，韓商周星公司則主張美商應用公司 違反公平交易法、侵權行為，應負損害賠償責任，且上述侵 權行為之結果，及美國應用公司所受之損害亦發生於臺灣境 內，揆諸前開說明及規定，中華民國法院就本件涉外事件有 國際管轄權。
㈢再按專利法所生之第一、二審民事訴訟事件，智慧財產法院 有管轄權，智慧財產法院組織法第3 條第1 款、智慧財產案 件審理法第7 條定有明文。是本院對本件涉外事件有管轄權 。又關於由侵權行為而生之債，依侵權行為地法，修正前涉 外民事法律適用法第9 條第1 項本文定有明文。而以智慧財 產為標的之權利，依該權利應受保護地之法律，涉外民事法 律適用法第42條第1 項亦定有明文。準此，本件涉外民事事 件之準據法，無論依修正前後之涉外民事法律適用法之規定 ，均應依中華民國之法律。
二、本件美商業凱公司於100 年6 月3 日向經濟部申請撤回認許 ，經經濟部100 年6 月7 日經授商字第10001116670 號函同 意撤回認許（見本院卷四第61頁），故美商業凱公司在臺訴 訟及非訟代理人郭怡之已喪失代理權限。美商業凱公司乃依 民事訴訟法第175 條規定，於101 年5 月22日具狀聲明由新 任之法定代理人Thomas Edman承受本件訴訟（見本院卷四第 54頁），並提出委任狀正本（見本院卷四第62頁）。經核並 無不合，應予准許，併此敘明。
貳、實體部分：
一、本訴部分：
㈠美商應用公司主張：
⒈美商應用公司於原審起訴主張：
⑴美商應用公司為全球知名之半導體、平面顯示器與液晶顯示 器製程設備與服務供應商，在臺灣擁有數百項與半導體、平 面顯示器與液晶顯示器製程及設備相關之物品及方法專利。 美商應用公司為中華民國經濟部智慧財產局專利證書發明第 152996號「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」專 利（下稱系爭專利）之專利權人，專利期間自西元2002年3 月1 日起至2021年1 月15日止。韓商周星公司為一韓國之半 導體、平面顯示器與液晶顯示器製程設備製造商，而主營業 所設於臺灣新竹縣之英屬開曼群島商周星公司係韓商周星公



司之關係企業，共同為半導體、平面顯示器與液晶顯示器製 程設備之經銷、客戶服務及其他業務提供者。詎韓商周星公 司製造並在臺灣銷售之用於液晶顯示器（LCD ），即「型號 EUR EKA 6000」之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈 積設備」（下稱系爭產品），已侵害系爭專利。 ⑵爭點一：關於申請專利範圍解釋
①系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「連接」係表示懸置機 構與氣體散流盤係處於連接之狀態而非分離，並無限制「懸 置機構與氣體散流盤必須先是兩個獨立構件，再予以連接」 之意，亦即系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構 與氣體散流盤須為兩個獨立之構件，此經經濟部智慧財產局 舉發不成立審定、臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判 決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。 ②依經濟部智慧財產局所公布之「專利侵害鑑定要點」第三章 第一節第四段「解釋申請專利範圍之原則」可知，解釋申請 專利範圍時，應以申請專利範圍本身之文字意義為其主要認 定依據，不得以說明書中對於「實施例」之說明限縮解釋申 請專利範圍。
③系爭專利申請專利範圍第1 項之主要技術特徵在於有一「至 少一可彎曲部分『位於氣體散流盤之上』之懸置機構」，韓 商周星公司將系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵曲解 並限縮為「一可彎曲之懸置機構」，顯然錯誤。且最高行政 法院99年度判字第945 號判決已認定系爭專利之特徵從系爭 專利申請專利範圍之文字本身即明顯可知，係在於具有至少 一可彎曲部分位於氣體散流盤之上之懸置機構，並藉此可彎 曲部分解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成之扭曲及破裂問題 並施予實質熱阻抗。
④一般金屬延展性與可彎曲係兩種不同概念，金屬具有一般延 展性並不代表其必然可彎曲，美商應用公司與經濟部智慧財 產局之見解均同，此經臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。 ⑤最高行政法院99年度判字第945 號判決已認定懸置機構並非 必需有「間隙分隔」或需由「四片」構成才可彎曲，且「間 隙」或「四片」並非系爭專利之必要技術特徵、縱算懸置機 構為「完整而不中斷」皆可據以實施而仍可達到系爭專利發 明之目的。
⑥系爭專利申請專利範圍之揭示已屬明確，無須限制懸置機構 之可彎曲部分應為某特定長度，亦無須限定可彎曲之程度， 此經臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政 法院99年度判字第945 號判決所肯認。




⑶爭點二：關於專利有效性
①最高行政法院99年度判字第945 號判決已認定系爭專利申請 專利範圍之技術特徵為「具有一位於氣體散流盤之上至少一 可彎曲部份之懸置機構」，且證據3 並未揭露或教示此項特 徵，故證據3 無法作為使系爭專利無效之先前技術。又證據 2 未揭露或教示「一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份 之懸置機構」之特徵，不論證據3 或證據3 與證據2 之結合 ，均無法認定系爭專利無效。
②系爭專利第一次舉發案之舉發不成立審定係以證據3 之固定 懸掛壁及可彎曲的薄壁，與系爭專利之懸置機構比對，並參 考證據3 之薄壁之可彎曲性，仍認為系爭專利具有新穎性及 進步性，此經最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認 。
③系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據2 所 揭露，且證據2 並未揭露位於氣體散流盤之上可彎曲部分之 懸置機構，故系爭專利相較於證據2 具有新穎性與進步性。 又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據2 所揭露。
④證據2 與證據3 欲解決之問題不相同，且兩者之技術內容並 未促使該發明所屬技術領域中具有通常知識者將其所揭露之 技術內容組合在一起，故證據2 與證據3 之組合並非明顯。 又證據2 已說明其與證據3 之結合並不恰當，兩者技術內容 所揭露之必要技術特徵先天即不相容，故其技術內容組合並 非明顯。又證據3 揭露其已欲解決散流盤熱膨脹之問題，故 於發明所屬技術領域中具有通常知識之人並無動機去結合證 據2 與證據3 。
⑤系爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 之組合 ，具有不可預期之功效，而具有進步性。縱將證據2 與證據 3 組合，僅能得出可彎曲之懸置機構位於氣體散流盤下方之 結果，亦無法產生系爭專利之發明。證據2 所教示者，係為 分離板彎曲部需在分離板本體之下，分離板彎曲部之一端連 接於分離板本體，而另一端連接於反應室腔體之側壁。且因 證據3 設置懸掛裝置之位置並未提供任何供懸掛裝置彎曲之 空間，自不能在證據3 以證據2 之分離板彎曲部替換懸掛裝 置。若強行組合證據2 與證據3 ，所產生之系統中具有之可 彎曲懸置機構將會在氣體散流盤下方，仍未揭露系爭專利在 氣體散流盤上方有可彎曲之懸置機構之特徵，故系爭專利相 對於證據2 與證據3 之組合仍具有進步性。
⑷爭點三：關於侵權分析：請見密封附件之說明。 ⑸爭點四：關於損害賠償




①韓商周星公司等分別於92年5 月30日及同年10月28日與訴外 人奇美電子股份有限公司（下稱奇美公司）簽訂1 台第5 代 系爭產品之買賣合約，復於92年12月1 日於其網站上發布訊 息表示追加簽訂2 台第5 代系爭產品及1 台第5.5 代系爭產 品之買賣合約，足見韓商周星公司等確實銷售予奇美公司至 少4 台第5 代系爭機器。況據美商業凱公司臺灣分公司前派 駐於奇美公司之客服工程師王善標於94年1 月20日所出具之 聲明書可知，韓商周星公司至94年1 月20日前至少銷售並交 付奇美公司共4 台之系爭機器。
②由韓國財務監督服務（Financial SupervisoryService）網 站於2003年6 月2 日、2003年10月28日、2003年12月1 日及 2004年8 月18日所公布韓商周星公司揭露之公開資訊可知， 韓商周星公司分別於2003年5 月30日、2003年10月28日、20 03年11月28日及2004年8 月18日獲得奇美公司共5 台第五代 氣相沈積設備訂單；另依韓國財務監督服務網站於2003年11 月14日及2004年9 月1 日之資料可知，韓商周星公司於2003 年11月交付1 台第五代氣相沈積設備，並於2004年6 月交付 2 台第五代氣相沈積設備；復依據韓國財務監督服務網站於 2005年3 月30日之資料可知，韓商周星公司於2004年8 月18 日已交付設備予奇美公司。是韓商周星公司等至少已銷售並 交付奇美公司共4 台之系爭機器，故就其造成美商應用公司 之損害，應負損害賠償責任。
③系爭專利產品為氣相沈積設備銷售及使用上不可分離之重要 設備，故計算本件侵權損害賠償金額時，應以韓商周星公司 等銷售整台氣相沈積設備所獲得之利潤計算，美商應用公司 請求韓商周星公司等賠償因其侵害行為所得利益，符合專利 法第85條第1 項第2 款規定。又韓商周星公司等無法舉證證 明美商應用公司於94年12月23日2 年前（即於92年12月23日 前），已知悉韓商周星公司等有侵權行為之事實，是韓商周 星公司主張美商應用公司之擴張請求已經罹於時效，自無可 採。
⑹爭點五：關於請求權基礎與韓商周星公司等之侵權行為態樣 ①韓商周星公司等在臺灣境內至少從事「販賣」、「使用」及 「販賣之要約」此三種行為態樣之任何一者，侵害系爭專利 。韓商周星公司等在臺灣針對系爭產品為「販賣之要約」之 行為，亦屬侵害系爭專利之行為。
②韓商周星公司等過去及目前所繼續進行之行為，包括系爭產 品之安裝、設定、測試、技術指導、操作訓練或維修等行為 確實已構成侵害專利之行為，渠等行為亦屬我國專利法第56 條所規範之「使用」行為。




⑺爭點六：美商應用公司撤回系爭專利申請專利範圍第16項及 第18項之主張非屬訴之變更，無須韓商周星公司等同意。美 商應用公司於起訴時主張系爭專利申請專利範圍第1 項、第 16項及第28項，惟為簡化本件訴訟之爭點，已於民事準備書 26狀撤回系爭專利申請專利範圍第16項及第28項之主張，此 項撤回乃屬攻擊防禦方法之減縮，並無涉及訴之變更或撤回 ，故無須韓商周星公司等人之同意。
⑻爰聲明：①被上訴人即反訴上訴人不得製造、為販賣之要約 、販賣、使用或為上述目的而進口「型號EUREKA 6000 」之 「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈積設備」及其他侵 害上訴人即反訴被上訴人所有中華民國發明第152996號專利 之電漿輔助化學氣相沈積設備。②被上訴人即反訴上訴人應 連帶給付上訴人即反訴被上訴人新台幣（下同）178,200,00 0 元，及自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利 率5%計算之利息。③訴訟費用由被上訴人即反訴上訴人負擔 。④上訴人即反訴被上訴人願供擔保，請准宣告假執行。 ⒉原審為美商應用公司敗訴之判決，美商應用公司據此提起上 訴，並主張：
⑴程序部分：韓商周星公司等人於臺灣境內為「販賣」、「使 用」及「為販賣之要約」系爭產品等至少三種侵權行為，且 上述侵權行為之結果，及美商應用公司所受之損害亦發生於 臺灣境內，臺灣法院自有管轄權。
⑵原審以界定系爭專利申請專利範圍第1 項懸置機構與氣體散 流盤應為「獨立」構件之解釋作為形成其判決理由之基礎， 然原審所界定之技術特徵不僅並未記載於系爭專利申請專利 範圍第1 項，亦非與先前技術區別之技術特徵。又原審認為 懸置機構與氣體散流盤應屬「獨立」構件或非一體成型之認 定，係將系爭專利申請專利範圍解讀為係在描述製造懸置機 構及氣體散流盤之特定方式，進而認定韓商周星公司之系爭 產品並未侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，顯然違反解釋 申請專利範圍之原則，且與經濟部智慧財產局舉發不成立審 定及最高行政法院99年度判字第945 號判決意旨相違背。 ⑶有關申請專利範圍解釋部分：
①系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「連接」係表示懸置機 構與氣體散流盤係處於連接之狀態而非分離，並無限制「懸 置機構與氣體散流盤必須先是兩個獨立構件，再予以連接」 之意，亦即系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構 與氣體散流盤須為兩個獨立之構件，此業經經濟部智慧財產 局舉發不成立審定、臺北高等行政法院97年度訴字第739 號 判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。



②系爭專利說明書所舉之實施例，亦明確以「連接」一詞，同 時描述兩構件為「一體成型」式的連結及兩構件為「分離構 件」式連結的結構關係，故所謂「連接」顯然並非僅限於用 以描述原本為分離構件然後相連接之情況，而亦包括一體成 型之情況。又韓商周星公司於其申請之中華民國第94123081 號之發明專利申請案中，亦使用「連接」一詞來描述「懸置 機構」與「氣體散流盤」為一體成型之情況下兩者之結構關 係，顯見本領域中具有通常知識者均知「連接」亦包含一體 成型式之結構。詎韓商周星公司於本件訴訟中抗辯「連接」 一詞之解釋，竟與其於申請專利所使用與認知之解釋相違背 ，其抗辯顯無可採。
③系爭專利申請專利範圍之元件命名係依其技術特徵為之，縱 以韓商周星公司自稱為一體成型設計之產品，亦可清楚讀出 懸置機構之第一端、第二端及該第一端及第二端之間之可彎 曲部分，是不論懸置機構與氣體散流盤為一體成型或分離構 件，第二端及該第一端及第二端之間之可彎曲部分等申請專 利範圍之元件均可被明確讀出。
④由系爭專利說明書第3 頁至第4 頁之系爭專利發明目的可知 ，系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「可彎曲」應係指其 彎曲程度足以容納氣體散流盤的因熱所產生之膨脹應力，亦 即藉由可彎曲之懸置機構而降低氣體散流盤上之機械應力。 ⑤以一般熟習此項技藝之人士皆知，「延展性」與「可彎曲性 」係為不相同但亦不互斥之兩個性質概念。蓋「延展性」係 為材料先天之基礎性質，每種材質之延展性均為固定，無法 以人力改變；而「可彎曲性」則為在最終裝置上之力學特徵 ，係可以後天人為之設計調整，自與「延展性」之概念完全 不同，故金屬具有一般延展性，並不代表其必然可彎曲。 ⑥於解釋申請專利範圍時，應以申請專利範圍本身之文字意義 為其主要認定依據。系爭專利申請專利範圍第1 項並無任何 「間隙」或「四片」之字眼，故顯並未限定懸置機構必須有 間隙分隔或必須為四片，亦即，懸置機構並非必需有「間隙 分隔」或需由「四片」構成才可彎曲，縱懸置機構為「完整 而不中斷」皆可據以實施而仍可達到系爭專利發明之目的， 此業經臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行 政法院99年度判字第945 號判決所肯認。系爭專利說明書中 關於實施例之說明，不得用以限定系爭專利之權利範圍，且 並無任何排除或限縮申請專利範圍之意思或效果。韓商周星 公司主張若為完整而不中斷的設計，則懸置機構將因角區應 力過大導致破裂並不可採，且與系爭專利申請專利範圍之解 釋無關。




⑦最高行政法院99年度判字第945 號判決肯認系爭專利申請專 利範圍第1 項之主要技術特徵在於有一「至少一可彎曲部分 『位於氣體散流盤之上』之懸置機構」，故原審認為「系爭 專利有別於先前技術之技術特徵在於其為獨立構件可採用不 同的材質應用於懸置機構」並無根據，且違背經濟部智慧財 產局公告之專利侵害鑑定要點所揭示之解釋申請專利範圍之 原則。
⑷有關韓商周星公司等所製造、販賣之系爭產品是否落入系爭 專利申請專利範圍第1項之文義或均等範圍部分： ①韓商周星公司所提出之94年7 月21日台大嚴慶齡工業研究中 心「專利技術鑑定報告」所檢附之「附件B 」之B2頁圖示可 知，系爭產品之技術內容對應於系爭專利編號A 至E 之技術 特徵，亦可分析為編號a 至e 共五個要件。而系爭產品之技 術特徵為：a.一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含 ；b. 一 背壁，且該背壁有一進氣穿孔（orifice ）；c.一 氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有 數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背 壁下；d.一懸置裝置（suspension）有一第一端、一第二端 、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至 少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於 該氣體散流盤；e.該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域， 該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣 穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞（fluid communicat ion ）。
②系爭產品技術內容中之要件a 、b 、c 、d 等四個要件，已 為系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵A 、B 、C 、E 等四項要件之文義所讀取。又系爭產品之設計乃根據系爭專 利之技術特徵所設計，且因此得到系爭專利之有益功效，因 系爭產品採用一位於氣體散流盤之上之可彎曲的薄懸置機構 ，以達到減少因電漿室運作時之高溫而造成氣體散流盤變形 的程度。亦即，系爭產品係採用與系爭專利相同具有可彎曲 部分之懸置機構，來達成分散氣體散流盤橫向應力，進而產 生減少氣體散流盤之變形而使氣體沈積均勻之效果，故系爭 產品具有系爭專利之申請專利範圍第1 項之全部相同之要件 與技術特徵，而構成文義侵害。
③韓商周星公司僅爭執系爭產品技術內容中的要件d 部分。惟 由美商應用公司所提出原證93之電腦模擬分析結果與原證99 號之補充分析報告，均能證明系爭產品之懸置機構具有位於 氣體散流盤之上至少一可彎曲部分（即要件d 部分）。又韓 商周星公司主張系爭產品之懸置機構與氣體散流盤為「一體



成型式的連接」，但系爭專利之懸置機構與氣體散流盤應為 兩個「分離構件再予以連接」，然不論是「分離構件再予以 連接」或「一體成型式的連接」，系爭專利與系爭產品均以 採用具有「可彎曲」部分之懸置機構作為技術手段，來達成 「分散氣體散流盤橫向應力」之功能，進而產生「減少氣體 散流盤之變形達到氣體散流盤沈積均勻」之效果，故系爭產 品「一體成型」之設計相對於系爭專利，並未產生實質差異 ，有均等論之適用，而構成均等侵害。
④原審就均等論之分析錯誤，係源自於其對於申請專利範圍解 釋之錯誤（即將懸置機構與氣體散流盤解釋為分離構件）， 並以該錯誤之解釋作為其認定系爭專利與系爭產品不均等之 主要理由。系爭產品與系爭專利申請專利範圍第1 項在技術 手段、功能及結果上均實質相同，且無先前技術阻卻之狀況 ，因此兩者確為均等，適用均等論。
⑤系爭產品具有系爭專利更正後申請專利範圍第1 項之全部技 術特徵，即系爭產品完全落入系爭專利更正後之申請專利範 圍第1 項之權利範圍，故構成文義侵害，縱認不構成文義侵 害，亦構成均等侵害。
⑸有關專利有效性部分：
①最高行政法院99年度判字第945 號判決已確認系爭專利申請 專利範之技術特徵「具有一位於氣體散流盤之上至少一可彎 曲部份之懸置機構」且證據3 並未揭露或教示此項特徵，故 證據3 並無法作為使系爭專利無效之先前技術。又證據2 未 揭露或教示「一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸 置機構」之特徵，不論證據3 或證據3 與證據2 之結合，均 無法認定系爭專利無效。
②系爭專利第一次舉發案之舉發不成立審定係以證據3 之固定 懸掛壁及可彎曲的薄壁，與系爭專利之懸置機構比對，並參 考證據3 之薄壁之可彎曲性，仍認為系爭專利具有新穎性及 進步性，此經最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認 。又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據 2 所揭露，且證據2 並未揭露位於氣體散流盤之上可彎曲部 分之懸置機構，故系爭專利相較於證據2 具有新穎性與進步 性。又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證 據2 所揭露。
③證據2 與證據3 欲解決之問題不相同，且兩者之技術內容並 未促使該發明所屬技術領域中具有通常知識者將其所揭露之 技術內容組合在一起，故證據2 與證據3 之組合並非明顯。 證據2 已說明證據3 採用之「非降流型」電漿處理裝置有問 題，而改採用「降流型」之設計，足見證據2 與證據3 之結



合並不恰當，因此兩者技術內容所揭露之必要技術特徵先天 即不相容，故其技術內容的組合並非明顯。又證據3 揭露其 已欲解決散流盤熱膨脹之問題，故於發明所屬技術領域中具 有通常知識之人並無動機去結合證據2 與證據3 。 ④系爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 之組合 ，具有不可預期之功效，而具有進步性。縱將證據2 與證據 3 組合，僅能得出可彎曲之懸置機構位於氣體散流盤下方之 結果，亦無法產生系爭專利之發明證據2 所教示者，係為分 離板彎曲部需在分離板本體之下，分離板彎曲部之一端連接 於分離板本體，而另一端連接於反應室腔體之側壁。且因證 據3 設置懸掛裝置之位置並未提供任何供懸掛裝置彎曲之空 間，自不能在證據3 以證據2 之分離板彎曲部替換懸掛裝置 。若強行組合證據2 與證據3 所產生之系統中具有之可彎曲 懸置機構將會在氣體散流盤下方，故仍未揭露系爭專利在氣 體散流盤上方有可彎曲之懸置機構之特徵，故系爭專利相對 於證據2 與證據3 之組合仍具有進步性。再者，更正後之系 爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 ，具有可 專利性。
⑹有關損害賠償部分：
①韓商周星公司等至少已銷售並交付奇美公司共4 台之系爭機 器，故就其造成美商應用公司之損害，應負損害賠償責任。 系爭專利產品為氣相沈積設備銷售及使用上不可分離之重要 設備，故計算本件侵權損害賠償金額時，應以韓商周星公司 銷售整台氣相沈積設備所獲得之利潤計算，美商應用公司請 求韓商周星公司賠償因其侵害行為所得利益，符合專利法專 利法第85條第1項第2款規定。
②韓商周星公司無法舉證證明美商應用公司於94年12月23 日2 年前（即於92年12月23日前），已知悉韓商周星公司有侵權 行為之事實，是韓商周星公司主張美商應用公司之擴張請求 已經罹於時效，自無可採。
⑺爰上訴聲明：①原判決關於本訴部分廢棄。②被上訴人即反 訴上訴人不得製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目 的而進口「型號EUREKA6000」之「供液晶顯示器用之電漿輔 助化學氣相沈積設備」及其他侵害上訴人所有中華民國發明 第152996號專利之電漿輔助化學氣相沈積設備。③被上訴人 即反訴上訴人應連帶給付上訴人即反訴被上訴人178,200,00 0 元，及自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利 率5%計算之利息。④第一、二審訴訟費用由被上訴人即反訴 上訴人負擔。⑤上訴人即反訴被上訴人願供擔保，請准宣告 假執行。




　㈡韓商周星公司則以：
⒈程序部分：
韓商周星公司於中華民國領域並無進口、製造、為販賣之要 約或銷售系爭機器之行為，韓商周星公司所有與系爭設備有 關之行為均發生在韓國，與本件有關之所有聯繫因素俱指向 韓國，唯一一件事實上之聯繫因素（而非法律上之聯繫因素 ）即為購買之客戶在臺灣（即奇美公司），美商應用公司為 藉由本件訴訟之提起而影響客戶購買設備之商業決定，仍不 惜執意於我國起訴，益證其明知本件自始欠缺審判權及管轄 權。美商應用公司刻意選擇於臺灣起訴，而非至聯繫因素較 密切之韓國進行訴訟之另一重要原因，即為系爭專利之韓國 對應案，其經核准之申請專利範圍遠遠小於系爭專利之權利 範圍，致其難於基於韓國之對應專利主張任何權利，故美商 應用公司如未能舉證證明韓商周星公司於我國領域內確有前 述行為，本件即無進一步審理之必要。
⒉有關申請專利範圍解釋部分：
⑴系爭專利之發明重點：系爭專利所界定之懸置機構本身為習 知，而系爭專利發明之重點在於其懸置機構有一「可彎曲部 分」以容納散流盤熱膨脹，以避免散流盤產生扭曲或破裂。 ⑵系爭專利之「連接」應限兩以上不同物件之接合： ①由於系爭專利申請專利範圍所有界定「連接」之文義內容， 俱為描述兩不同、獨立構件之情狀，而「連接」之解釋在系 爭專利全部請求項中應該一致，故系爭專利申請專利範圍第 1 項中懸置機構與散流盤之「連接」應解釋為兩獨立構件之 結合。由原審於99年10月15日之審判筆錄、原審技術審查官 於98年12月30日當庭提出之問題並當庭歸於原審卷內及原審 判決之意見（原判決第78至79頁）已確認系爭專利申請專利 範圍第1 項、第16項及第28項之「連接」要件，必須解讀為 兩個獨立構件相互連接，不包括「懸置機構」及「散流盤」 為一體成型之結構。
②美商應用公司自行揭露US5,844,205 及US4,854,263 兩件美 國專利前案，足見美商應用公司已自承且明知之先前技藝水 準及內容。而被上證4 之US5, 844,205之發明係關於基板支 撐座之加熱器，其散流盤與懸置機構（包括懸置機構連接背 壁之端點）顯為一體成型（詳說明書Column 4, Lines10-11 ；另US4,854, 263之發明重點係關於散流盤的孔洞形狀，其 散流盤並非懸置，並無懸置機構）。參酌系爭專利揭露之習 知結構（一體成型）可知，系爭專利申請專利範圍第1 項之 懸置機構解釋應為屬獨立構件，而不包含一體成型之情況， 況美商應用公司已自承「氣體散流盤及懸置機構間之連結關



係」很重要。
③美商應用公司主張原審僅以系爭專利以依序排列之元件結構 順序撰寫，即認定系爭專利之懸置機構與氣體散流盤屬獨立 之構件。惟原審係參酌美商應用公司於系爭專利申請專利範 圍與說明書自行作成之限制，始認定系爭專利之懸置機構與 氣體散流盤屬獨立之構件，並非僅參考系爭專利以依序排列 之元件結構順序撰寫。
④美商應用公司主張原審對系爭專利說明書第3 頁所載「電漿 室側壁」之解讀錯誤，故其關於懸置機構與氣體散流盤屬獨 立構件之解釋，亦屬錯誤。惟懸置機構與氣體散流盤屬獨立 構件以及其連接型態對系爭專利之主要技術係屬重要，應為 不爭之事實。美商應用公司一方面自承兩者之連接關係與結 構關係至為重要、將影響本件侵權之判斷，另方面卻又辯稱 其連接關係與系爭專利之主要技術特徵無關，其主張自相矛 盾。
⑤美商應用公司主張原審認定系爭專利懸置機構與氣體散流盤 屬獨立之構件，係不當以說明書所載之實施例限制申請專利 範圍，有悖於侵害鑑定要點及我國法院判決實務之見解。惟 原審係參酌系爭專利申請專利範圍關於「懸置構與氣體散流 盤連接型態之界定」、系爭專利說明書中關於「如何利用材