損害賠償
臺灣新竹地方法院(民事),重智字,93年度,3號
SCDV,93,重智,3,20101231,6

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臺灣新竹地方法院民事判決        93年度重智字第3號
原   告
即反訴被告 美商應用材料股份有限公司(Applied Materials,
      Inc.)
法定代理人 Michael
訴訟代理人 林怡芳律師(僅受本訴之委任)
複代理人  童啟哲
訴訟代理人 賴中強律師(僅受本訴之委任)
複代理人  李貞儀律師(僅受本訴之委任)
反訴被告  美商業凱科技股份有限公司
法定代理人 郭怡之
上列二人共同
訴訟代理人 林秋琴律師
上列二人共同
訴訟代理人 陳彥希律師
上列二人共同
訴訟代理人 林哲誠律師
上列二人共同
訴訟代理人 陳長葳律師
被   告
即反訴原告 韓商周星工程股份有限公司(Jusung Enginerrin
      g C0., Ltd)
            四十九(#49,Neungpycong-Ri,Opo-E
            up,Kwangju-Gun,Kyunggi-Do,Korea
             464-892
法定代理人 Chul-ju,
            四十九(Chul-ju, Hwang)
訴訟代理人 張哲倫律師
訴訟代理人 樓穎智專利代理人
被   告
即反訴原告 英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司
           號二樓
法定代理人 李泳坤
           號二樓
上列二人共同
訴訟代理人 黃章典律師
上列當事人間損害賠償事件,本院於民國99年12月1日辯論終結
,判決如下:
主 文
原告之訴及假執行之聲請均駁回。




訴訟費用由原告負擔。
反訴原告之訴及假執行之聲請均駁回。
訴訟費用由反訴原告負擔。
事實及理由
壹、程序部分:
⒈管轄權及準據法:
本件本訴原告即反訴被告美商應用材料股份有限公司 (Applied Materials, Inc.號以下簡稱美商應材公司) 係 美商,本訴被告即反訴原告韓商周星工程股份有限公司( Jusung Enginerring C0., Ltd.以下簡稱韓商周星工程公司 )係韓商、英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司( 以下簡 稱英屬開曼群島商周星科技公司) 係英屬開曼群島商,均為 為外國法人,具有涉外因素,本訴原告其主張本訴被告侵害 其專利權應負擔損害賠償責任,反訴原告主張反訴被告違反 公平交易法、侵權行為,應負損害賠償責任,均應適用涉外 民事法律適用法,定本件之管轄法院及準據法。按因侵權行 為涉訟者,得由行為地之法院管轄,為民事訴訟法第15條第 1 項所明定。涉外民事法律適用法雖未就法院之管轄予以規 定,惟本訴被告英屬開曼群島商周星科技公司亦設於本院轄 區,反訴原告主張反訴被告之侵權行為地亦在我國,因此依 國際民事訴訟管轄之以原就被原則或類推適用我國民事訴訟 法第15條第1項規定,我國法院對本侵權事件應有管轄權。 本院就此涉外之專利侵權事件及反訴事件有管轄權。被告主 張就本件侵害專利權之訴訟,因原告不能證明被告在我國境 內有侵害專利權行為,是以我國法院應無管轄權,顯有誤會 。次按,關於由侵權行為而生之債,依侵權行為地法,但中 華民國法律不認為侵權行為者,不適用之。侵權行為之損害 賠償及其他處分之請求,以中華民國法律認許者為限,涉外 民事法律適用法第9條定有明文,故關於涉外侵權行為之準 據法,應適用「侵權行為地」及「法庭地法」,依上開規定 ,
本件涉外事件之準據法,自應適用中華民國之法律。 ⒉就被告韓商周星工程公司所提出相關產品文件及圖說,本院 業已於民國(下同)99年4月21日核發秘密保持命令,故就原告 、被告關於侵權之陳述、本院對是否侵權之判斷,因涉及該 秘密保持命令客體之營業秘密,故另以密封方式附於本判決 ,就該部分僅該受秘密保持命令裁定者始得檢閱,合先敘明 。
貳、本訴部分:
㈠、聲明:




⒈被告不得製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而 進口「型號EUREKA 6000 」之「供液晶顯示器用之電漿輔助 化學氣相沈積設備」(以下間稱系爭產品)及其他侵害原告所 有中華民國發明第152996號專利之電漿輔助化學氣相沈積設 備。
⒉被告應連帶給付原告新台幣(下同)178,200,000元,及自起 訴狀繕本送達之翌日起至清償日止按年息百分之5計算之利 息。
⒊訴訟費用由被告負擔。
⒋原告願供擔保請准宣告假執行。
㈡、陳述:
⒈緣原告為全球知名的半導體、平面顯示器與液晶顯示器製程 設備與服務供應商,在台灣擁有數百項與半導體、平面顯示 器與液晶顯示器製程及設備相關之物品及方法專利。其中包 括中華民國經濟部智慧財產局專利證書發明第152996號,發 明名稱為「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」, 專利期間為2002年3 月1 日至2021年1 月15日之發明專利( 原證一號,下稱「系爭專利」)。
⒉被告韓商周星工程公司為一韓國之半導體、平面顯示器與液 晶顯示器製程設備製造商,而主營業所設於台灣新竹縣之被 告英屬蓋曼群島商周星科技公司係韓商周星工程公司關係企 業之一,與韓商周星工程公司共同為半導體、平面顯示器與 液晶顯示器製程設備之經銷、客戶服務及其他業務,有被告 於其網站上公布之資料為憑(原證二號)。
⒊據被告所製作之用於介紹並推廣系爭TFT LCD PECVD 設備之 行銷資料(原證三號)以及被告於本件訴訟中所提出之文件 顯示,被告製造並在台灣銷售之用於液晶顯示器(LCD )之 Euroka 6000 電漿輔助化學氣相沈積設備(PECVD ),顯侵 害原告系爭專利(詳後述侵權分析)。
⒋爭點一:關於申請專利範圍解釋
⑴按最高行政法院業於99年9 月16日以99年度判字第945 號判 決肯認台北高等行政法院97年度訴字第00739 號判決及智慧 局舉發不成立審定書中有關系爭專利「申請專利範圍解釋」 之各項爭點,被告所為之錯誤解釋皆一一被最高行法院及高 等行政法院所駁斥不予採納,不容被告再事爭執;且最高行 政法院判決亦揭示有關先前技術是否揭露系爭專利技術特徵 之判斷原則,足資遵循。
①最高行政法院99年度判字第945 號確定判決(下稱「前開最 高行政法院判決」)足以證明:本件訴訟中被告所提出有關 「申請專利範圍解釋」之各項爭點,與被告該行政訴訟程序



中所提出之爭點乃完全相同(即:懸置機構與氣體散流盤是 否須為兩個獨立的構件?懸置機構是否需有『間隙分隔』或 需由『四片』構成才可彎曲」?懸置機構之可彎曲部分是否 有某特定長度之限制?,懸置機構之可彎曲程度是否需進一 步限定?一般金屬延展性與可彎曲根本是否相同?),而該 最高行政法院判決業已針對此等申請專利範圍解釋之爭點一 一為認定,今最高行政法院判決既已就該等有關申請專利範 圍解釋作終局判決,被告於本件民事訴訟程序中自不得再行 主張或爭執,本院亦不宜就專利同一保護範圍作不同之認定 。
②次按,被告於本件民事訴訟主張系爭專利無效之證據為證據 2、證據3及證據2與證據3兩者之結合共三種情況,原告引用 前開「最高行政法院判決」足以證明:
有關被告以證據三做為主張系爭專利無效之單一證據之主張 ,前開「最高行政法院判決」已認定證據3並未揭露系爭專 利之技術特徵,即系爭專利相較於證據3具有新穎性與進步 性,則依智慧財產案件審理細則第28條第2 項所揭示:「關 於智慧財產權有無應撤銷、廢止原因之同一事實及證據,業 經行政爭訟程序認定舉發或評定不成立確定,或已逾申請評 定之法定期限,或其他依法已不得於行政爭訟程序中主張之 事由,於智慧財產民事訴訟程序中,不得再行主張。」之規 定,被告於本件民事訴訟程序中自不得再行以同一證據三主 張或爭執系爭專利無效。
其次,最高行政法院確定判決肯認由於證據3並未揭露有一 具有「位於氣體散流盤之上之至少一可彎曲部分之懸置機構 」,因此證據三並不具備系爭專利之技術特徵,故不足以否 定系爭專利之新穎性及進步性。因此,在本件民事訴訟中, 當檢視其他先前技術(即證據2)時,亦應採取與前開最高 行政法院所採之相同判斷原則,即:若先前技術之懸置機構 未同時具有「位於氣體散流盤之上且可彎曲」之技術特徵時 ,即無法否定系爭專利之新穎性及進步性。換言之,具有「 位於氣體散流盤之上之至少一可彎曲部分之懸置機構」乃系 爭專利之技術特徵,此項技術特徵不可分割而視, ⑵解釋申請專利範圍時,應以申請專利範圍本身之文字意義為 其主要認定依據,不得以說明書中對於「實施例」之說明限 縮解釋申請專利範圍。
①按經濟部智慧財產局(以下簡稱智慧局)所制訂之《專利侵害 鑑定要點》第三章第一節第四段闡明「解釋申請專利範圍之 原則」時,依序揭示以下原則:
以申請專利範圍為準之原則:「專利權範圍主要取決於申請



專利範圍中之文字,若申請專利範圍中之記載內容明確時, 應以其所載之文字意義及該發明所屬技術領域中具有通常知 識者所認知或瞭解該文字在相關技術中通常所總括的範圍予 以解釋」、「申請專利範圍中每一請求項中之文字均被視為 已明確界定發明專利權範圍」、「申請專利範圍之記載內容 與發明( 或新型) 說明或圖式中之記載內容不一致時,應以 申請專利範圍之記載內容認定專利權範圍」。
發明(或新型)說明及圖式為輔助之原則:「為認定專利權 範圍之實質內容,發明(或新型)說明及圖式均得為解釋申 請專利範圍之輔助依據」、「申請專利範圍中所載之技術特 徵明確時,不得將發明(或新型)說明及圖式所揭露的內容 引入申請專利範圍」、「申請專利範圍中所載之技術特徵不 明確時,得參酌發明(或新型)說明與圖式解釋申請專利範 圍」、「申請專利範圍之記載內容與發明(或新型)說明及 圖式所揭露的內容不一致時,應以申請專利範圍為準」。 ②依上開智慧局所揭示的原則可知,解釋申請專利範圍時,應 以申請專利範圍本身之文字意義為其主要認定依據,故於解 釋申請專利範圍時,自不得援引完全未見於申請專利範圍甚 至未見於說明書中之事項,或與申請專利範圍及說明書所載 內容無關之事項,對於申請專利範圍作限縮解釋,否則即與 上開智慧局所揭示的原則相違背而顯無可採。
③最高行政法院確定判決業已認定,解釋申請專利範圍時,不 得將說明書中對於「實施例」之說明,用以限縮解釋申請專 利範圍:
最高行政法院確定判決業已認定高等行政法院以下認定正確 無誤,不容被告再事爭執:「系爭專利說明書中所舉之「實 施例」,僅係用於藉以幫助瞭解系爭專利之實施,並非用以 限定系爭專利之申請專利範圍。特別是系爭專利說明書於第 24頁「發明說明」乙節最末段明確表示:『雖然本發明以較 佳實施例說明如上,此僅係用於藉以幫助瞭解本發明之實施 ,並非用以限定本發明之申請專利範圍;凡熟悉此技藝者於 領悟本發明之精神後,在不脫離本發明之精神和範圍內,當 可作各種更動與潤飾及等效之變化替換,因此本發明的保護 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者及等同領域而定』。 」(請參高等行政法院判決第43頁第16行以下)。 ⑶系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構與氣體散流 盤之必須為兩個獨立的構件。
①懸置機構與氣體散流盤不論係兩個「獨立之構件」相連接或 「一體成型」相連接皆為系爭專利申請專利範圍所涵蓋,高 等行政法院於判決理由中早已就此詳述理由,並經最高行政



法院判決確定:
被告對系爭專利舉發時主張:「被舉發案申請專利範圍應明 確載明氣體散流盤與懸置機構係為各自獨立之構件;否則被 舉發案應因為申請專利範圍不被說明書且已涵蓋習知技術而 被撤銷專利」云云(原證95號,被告94年9 月29日專利舉發 補充理由書三第6 頁)。
然查,系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構與氣 體散流盤之必須為兩個獨立的構件,故最高行政法院確定判 決業已認定,高等行政法院以下針對系爭專利申請專利範圍 之解釋與有效性之認定正確無誤,不容被告再事爭執:「系 爭專利之技術特徵在於懸置機構有一第一端、一第二端、及 該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一 可彎曲部分(第1 至39 項 );該第一端連接於該背壁;該 第二端連接於該氣體散流盤;以及該懸置機構圍繞著該進氣 歧管中的區域,該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間。 至於該懸置機構與背壁或氣體流散盤是否為一體成型則並非 系爭專利之特徵。」(請參高等行政法院判決第42頁倒數第 8 行以下至第43頁第3 行)。換言之,最高行政法院業已認 定申請專利範圍並未限定懸置機構與氣體散流盤應為二個獨 立構件,至為明確。被告於本件訴訟中所提出之理由皆為最 高行政法院及高等行政法院所審酌,並未提出任何其他足以 改變最高行政法院及高等行政法院之認定的新理由。 至於申請專利範圍中之用語「連接」係表示懸置機構與氣體 散流盤係處於連接之狀態,並無限制「懸置機構與氣體散流 盤必須先是兩個獨立構件,再予以連接」之意。從申請專利 範圍之文字本身可以看出,系爭專利並未對於懸置機構與氣 體散流盤之連接方式有任何之限制,無論該懸置機構與該氣 體散流盤是一體成型、或與該氣體散流盤為另一個獨立之元 件,都將可達成、也不影響本發明之技術功效。換言之,無 論以何種方式產生上述之連接狀態,均可達成系爭專利之功 效,因此在未被排除之狀況下,均為申請專利範圍所涵蓋之 範圍,至為明確。
此外,系爭專利申請專利範圍第1 項之請求標的為「進氣歧 管」裝置,並非關於進氣歧管之製造方法,故縱算(假設語 氣)在原始生產時本為分離之二部份,但在組成「進氣歧管 」之後,兩者即已連接成為一體。換言之,不論以焊接或一 體方式形成,請求標的「進氣歧管」在申請專利範圍中之最 終結構中各元件均連接為一體。由於申請專利範圍第1 項所 請求者係為「進氣歧管」之最終完成結構,並非特定的製造 方法,因此無論原本是否為分離構件,只要懸置機構及氣體



散流盤在最終結構中為連接,即屬申請專利範圍第1 項所涵 蓋之範圍。
②申請專利範圍中之元件命名係依其技術特徵為之,因此即使 以被告自稱為一體成型設計之產品與系爭專利申請專利範圍 第1 項之懸置機構進行比對,亦可清楚讀出第一端、第二端 及該第一端及第二端之間的可彎曲部分。
申請專利範圍中之不同元件命名係代表其具有不同之技術特 徵,而非表示其為分離之構件;因此申請專利範圍第1 項中 之懸置機構與氣體散流盤雖具不同元件命名,然亦可為一體 成型結構中之不同部分:
A.申請專利範圍之解釋係以申請專利範圍本身之文字為準,已 如前述。為清楚界定申請專利範圍之技術特徵,故針對具不 同技術特徵之各元件給予不同之命名及說明以作為技術特徵 之區別。至於具有不同命名之各元件間相互連接關係,則需 依申請專利範圍之其他文字敘述作為限制條件加以規範。換 言之,具有不同命名之元件係具有不同之技術特徵,但並非 表示各元件需為相互分離而不可為一體成型。
B.以系爭專利而言,申請專利範圍第1 項中氣體散流盤及懸置 機構之命名分別代表其所具有之技術特徵。氣體散流盤係具 有對氣體進行散流之技術特徵;而懸置機構則具有吊掛氣體 散流盤之結構特徵。由於申請專利範圍第1 項中並未對兩者 間之連接方式進行限制,因此兩者雖各自具有不同之元件名 稱,但仍可能成為一體成型結構中之不同部分。換言之,除 附加式之連接外,氣體散流盤與懸置機構亦可以一體成型之 方式連接。此項見解,亦經前開最高行政法院確定判決肯認 確定。
如前所述,系爭專利申請專利範圍第1 項中之元件命名本身 即已明確界定其技術特徵。氣體散流盤之技術特徵在於有氣 體散流之結構,因此其係包含具有穿孔之本體部分;懸置機 構則為離開提供氣體散流盤外的部分,且在結構上提供氣體 散流盤支撐。由以下示意圖可明顯看出,位於氣體散流盤側 邊反Z 字型之部分係作為支撐氣體散流盤之用,因此已屬「 懸置機構」部分。
此外,由以上示意圖為例,懸置機構包括垂直可彎曲部份以 及水平延伸部份。在此兩部份交接處有一個轉折角,懸置機 構的第二端是氣體散流盤與水平延伸部份相交之處。以轉折 角本身而言,由於其抵抗彎曲之能力已受水平向延伸部分的 支撐,因此其抵抗彎曲之能力已明顯強於上方無側向支撐之 可彎曲部分( 垂直部分) 。換言之,以技術特徵而言,此轉 折角部分(即圖示中所指出之斜線方塊部分)因其可彎曲性



遠遜於上方之可彎曲部分,應被認為非屬於可彎曲部分。 ③系爭專利申請專利範圍第1 項中懸置機構之可彎曲部分並未 有「轉折角」之文字,且專利說明書中亦未要求懸置機構之 可彎曲部分必須有「轉折角」之限制,因故於解釋申請專利 範圍時不得將之引入作為申請專利範圍之限制。 查系爭專利申請專利範圍第1 項之文字,對懸置機構及其可 彎曲部分均無所謂「轉折角」之限制或敘述。此外,系爭專 利說明書中亦未提及任何「轉折角」與「可彎曲」性質之關 係且根本完全未要求懸置機構之可彎曲部分須有「轉折角」 之限制。相反的,系爭專利說明書中明白教示係懸置機構之 可彎曲部分吸納氣體散流盤之熱膨脹,而非因為任何有關轉 折角之部分。(請參見專利說明書第15頁第14-17 行)因此 ,在對系爭專利申請專利範圍第1 項之「可彎曲部分」進行 解釋時,若將可彎曲部分解釋成另需包含有「轉折角」部份 ,顯係增加申請專利範圍所未有之限制,而屬違背解釋申請 專利範圍之原則。
⑷系爭專利申請專利範圍第1 項之主要技術特徵在於有一「至 少一可彎曲部分『位於氣體散流盤之上』之懸置機構」,被 告將系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵曲解並限縮為 「一可彎曲之懸置機構」,顯然錯誤。
①系爭專利申請專利範圍第1 項之特徵在於有一具有至少一 可彎曲部分位於氣體散流盤之上之懸置機構,並藉此可彎曲 部分容納氣體散流盤之熱膨脹。此由系爭專利申請專利範圍 本身之文字即明確可知。
②最高行政法院確定判決業已認定,高等行政法院以下針對系 爭專利之特徵之認定正確無誤,不容被告再事爭執:「系爭 專利之特徵是在於懸置機構,其具有一位在氣體散流盤之上 的可彎曲部分。此特徵可以達到『解決氣體散流盤因為熱膨 脹所造成的扭曲及破裂問題』及『在處理室壁及該氣體散流 盤之間施予實質熱阻抗』功效。」(請參原證69:高等行政 法院判決第43頁第4 行至第7 行)之理由,業經前開最高行 政法院判決確定。
③故前開最高行政法院判決已確定肯認原告之解釋,認定系爭 專利之特徵從系爭專利之申請專利範圍文字本身即明顯可知 ,係在於具有至少一可彎曲部分位於氣體散流盤之上之懸置 機構,並藉此可彎曲部分解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成 的扭曲及破裂問題並施予實質熱阻抗。
⑸一般金屬延展性與可彎曲根本是兩種不同的概念,金屬具有 一般延展性並不代表其必然可彎曲,原告與智慧局之見解自 始至終並無任何不一致之處或前後矛盾,高等行政法院於判



決理由中早已就此詳述理由,並經前開最高行政法院判決確 定:
①以一般熟習此項技藝之人士皆知,「延展性」與「可彎曲性 」係為不相同但亦不互斥之兩個性質概念。「延展性」係為 材料先天之基礎性質,每種材質之延展性均為固定,無法以 人力改變;而「可彎曲性」則為在最終裝置上之力學特徵, 係可以後天人為之設計調整,自與「延展性」之概念完全不 同。
②查智慧局在舉發不成立審定書中第5 頁第( 五)-1-(2) 節稱 :「金屬材質( 鋁材質) 具有延展性,其於受到外力時有可 能產生形變或彎曲,此故為金屬材質( 鋁材質) 之固有特性 ,亦為眾所皆知,然其必須有特定的設計方能應用及承受氣 體散流盤之熱膨脹應力,換言之,在證據三或系爭專利之系 統操作條件下,並非只要是鋁材質就可彎曲( 尚需視其尺寸 長厚比例及承受之外力) ,或其彎曲程度足以緩衝該系統之 熱膨脹應力」等語,其意係指一般金屬雖然具有延展性,但 並非只要是有延展性就可彎曲,換言之,金屬具有延展性有 可能可以彎曲,但亦可能無法彎曲,端視是否具有特殊之設 計而定。原告之系爭專利與被告之系爭產品產品正是以具有 延展性之金屬加以特殊設計而使懸置機構可彎曲之例子。 ③次查,原告在舉發程序所稱:「材料具延展性並不表示該材 料的最終結構必然可彎曲」(請參原證號95年7 月17日舉發 補充答辯書第5 頁第10-11 行)等語,亦係指「由具有延展 性之材料所製成之最終結構有可能可以彎曲,亦有可能不可 以彎曲」。此外,原告在民事準備書( 七) 狀稱:「原告( 即參加人) 於舉發答辯狀之陳述及智慧局舉發審定書意見中 ,均未將『一般金屬之延展性』排除於『可彎曲』之適用範 圍外…」等語,亦係在進一步澄清:一般金屬延展性與可彎 曲根本是兩種不同的概念,金屬具有一般延展性並不代表其 必然可彎曲,具有延展性之材料所製成之最終結構有可能可 以彎曲,亦有可能不可以彎曲,至為明確。故原告不僅本身 之立場前後一致,並無矛盾之處,且與智慧局之見解亦始終 相符,彰彰甚明。
⑹前開最高行政法院確定判決業已認定「懸置機構並非必需有 『間隙分隔』或需由『四片』構成才可彎曲」,且「『間隙 』或『四片』並非系爭專利之必要技術特徵」、「縱算懸置 機構為『完整而不中斷』皆可據以實施而仍可達到系爭專利 發明之目的」。
①前開最高行政法院確定判決業已認定,高等行政法院以下認 定正確無誤,不容被告再事爭執:




系爭專利申請專利範圍第1 項並無任何「間隙」或「四片」 之字眼,故顯並未限定懸置機構必須有間隙分隔或必須為四 片,因此,前開最高行政法院肯認台北高等行政法院之以下 見解:「氣體散流盤可以為不同之形狀(圓形、方形、或其 他形狀),故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設 計,故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以『間 隙』間隔則非為系爭專利之必要特徵。」(請參原證69:高 等行政法院判決第42頁倒數第2 行以下至第43頁第3 行)。 「系爭專利之特徵是在於懸置機構,其具有一位在氣體散流 盤之上的可彎曲部分。此特徵可以達到『解決氣體散流盤因 為熱膨脹所造成的扭曲及破裂問題』及『在處理室壁及該氣 體散流盤之間施予實質熱阻抗』功效。懸置機構為四片並非 用來達到這些功效的一必要特徵,故不需要在所有獨立項中 包含『四片』要件。其次,由力學之觀點而言,懸置機構是 否由四片構成與是否為可彎曲以實施並無關聯性。懸置機構 是否由四片構成,僅使懸置機構角落附近之力學行為有所不 同,但兩者之懸置機構均為可彎曲。換言之,無論懸置機構 是否由四片構成,懸置機構均為可彎曲,原告(即本件訴訟 之被告)指稱懸置機構必需由四片構成始能據以實施,洵無 足採。」(請參高等行政法院判決第43頁第4 行至第15行) 。
②被告所稱有關「若氣體散流盤為方形時,其懸置機構必須有 間隙分隔,否則即會破裂」云云,不僅毫無根據,且與申請 專利範圍之解釋無關:
被告主張若為完整而不中斷的設計則懸置機構必然會產生破 裂云云,顯無可採且顯與申請專利範圍之解釋無關: A.按系爭專利之技術特徵在於懸置機構的可彎曲性與懸置機構 的位置。即使在懸置機構為「完整而不中斷」的設計下,因 懸置機構具有可彎曲性,不論是側壁或其角區域,都是可彎 曲的,並非如被告答辯(10)狀及99年9 月15日開庭簡報第49 頁中所稱必然會發生側壁斷裂分開之狀況,被告空言主張, 顯毫無根據。
B.次按,懸置機構之角區域是否會產生斷裂分開之狀況,與申 請專利範圍之解釋要屬無關,蓋解釋申請專利範圍應以申請 專利範圍本身之文字意義為其主要認定依據如前所述,被告 先妄加論定若為完整而不中斷的設計則懸置機構必然會產生 破裂,再進而主張申請專利範圍必須為非完整而不中斷之設 計云云,顯毫無根據而洵無可採。
被告主張韓國對應案之每一項獨立項的懸置機構均定義為「 四片」或「多片」之「非完整而不中斷(有間隙)」之設計



、故系爭專利亦應同等限縮云云,顯無可採,且顯與系爭專 利之申請專利範圍之解釋無關:
A.按專利法或專利審查基準並未規定一申請案之申請專利範圍 必須包括與國外對應案之申請專利範圍中相同的技術特徵。 蓋不同國家具有不同的專利制度與審查標準,且專利權人本 就有權利在不同的國家視其需要申請不同的專利範圍,被告 之論點顯主張同一發明的各國之申請專利範圍都應包括相同 的技術特徵云云,不僅甚為荒謬且毫無根據。
B.況查,美國對應案(US 6,477,980)之總項數共有18項,其 中並未限定懸置機構需有「間隙」分隔之項數就有12項( 第 1,2, 3,4,9,10,11,12,13,16,17,18 項) ,韓國對應案( No.00-000000)之總項數共有26項,其中並未限定懸置機構 需有「間隙」分隔之項數有20項( 第1, 2, 3, 12-15, 17, 20, 22, 30-32, 40-43, 45,48,50項) ,由此可明顯看出, 該等申請專利範圍皆並未要求懸置機構必須是切成『四片』 之『非完整而不中斷(有間隙)』之設計,由此足證被告所 言顯然完全不實。
C.因此,被告答辯(11)狀所附韓國對應案所提呈之產品設計圖 ,當然與系爭專利無關,不得用以限縮解釋系爭專利之申請 專利範圍,至為明確。
綜前所述可知被告主張若氣體散流盤為方形時,其懸置機構 必須有間隙分隔云云,係以曲解專利說明書內容之方式所得 出之謬誤結論,根本並非本於申請專利範圍本身之解釋,顯 無可採。
⑺系爭專利申請專利範圍之揭示已屬明確,無須限制懸置機構 之可彎曲部分應為某特定長度,亦無須限定可彎曲之程度, 高等行政法院於判決理由中早已就此詳述理由,並經最高行 政法院判決確定:
①被告於99年9 月15日開庭簡報第58頁引述原告於舉發程序中 答辯「被舉發案申請專利範圍第1 項所界定之至少一可彎曲 部分係位於氣體散流盤之上,藉以使該可彎曲部分盡可能的 長,以容納氣體散流盤的熱膨脹,而使可彎曲部分的長度不 會受限於氣體散流盤的厚度」等語,並進一步於99年9 月15 日開庭簡報第60頁中稱:「懸置機構之長度『小於氣體散流 盤厚度者』,不在系爭專利之權利範圍內」云云,然被告所 稱顯毫無根據,洵無可採。
②蓋原告於舉發程序中之上述答辯係在強調位於氣體散流盤之 上可彎曲部分之技術特徵,可防止可彎曲部分長度受到氣體 散流盤的厚度之限制,即可彎曲部分之長度可依設計需求或 材料特性的改變來選擇。原告所謂「藉以使該可彎曲部分盡



可能的長」之敘述,為系爭專利「至少一可彎曲部分係位於 氣體散流盤之上」的結構中所衍生之優點,而非對可彎曲部 分作結構上的限制。
③於解釋申請專利範圍時,應以申請專利範圍本身之文字意義 為其主要認定依據。從系爭專利之申請專利範圍文字本身即 明顯可知,系爭申請專利範圍就懸置機構之可彎曲部分,並 無任何長度之限定。系爭專利說明書第3 頁至第4 頁有關系 爭專利之發明目的載明:「本發明係有關一種用於電漿室的 氣體進氣岐管,此岐管包含一穿透之氣體散流盤(gas distribution plate),……,且此側壁(或稱懸置機構) 中可以容忍氣體散流盤的熱擴散或熱收縮,本發明之優點在 於避免因為熱擴散或熱收縮而導致氣體散流盤的斷裂或扭曲 。」,由是可知,申請專利範圍第1 項所謂為之「可彎曲」 應係指其彎曲程度足以容納氣體散流盤的因熱所產生之膨脹 應力,換言之,即藉由可彎曲之懸置機構而降低氣體散流盤 上的機械應力。
④前開最高行政法院亦肯認原告之主張並認定系爭案申請專利 範圍中以「可彎曲」作為技術特徵已然明確,無須進一步界 定可彎曲部分之長度,亦無須進一步限定彎曲之程度。 前開最高行政法院確定判決業已認定,高等行政法院採納智 慧局以下認定正確無誤,不容被告再事爭執:「舉發人指稱 前述懸置機構可彎曲部分應於各獨立項界定可彎曲之程度, 惟查系爭案前述申請專利範圍亦界定其「可彎曲」之特徵, 說明書亦明白界定其做為緩衝熱膨脹應力及施予實質熱阻斷 之作用,至於彎曲之程度熟悉該項技術之人士自可藉由系爭 案之揭示而針對不同之操作條件做調整及設計,故系爭案前 述申請專利範圍各獨立項揭示應已屬明確」之理由(審定書 第8 頁第13-20 行)。
由此足證最高行政法院亦肯認原告之主張並認定系爭案申請 專利範圍中以「可彎曲」作為技術特徵已然明確,無須進一 步界定可彎曲部分之長度,至於「特定的設計」及足以緩衝 熱膨脹之「彎曲程度」部分係可由熟悉該項技術之人士依系 爭專利之揭示來加以調整。既然申請專利範圍在未加入特定 設計細節及彎曲程度的狀況下即已明確,於進行申請專利範 圍解釋時自不得以特定設計細節及彎曲程度來對申請專利範 圍加以限縮。
⑤此外,系爭專利申請專利範圍對於懸置機構之可彎曲敘述本 身即為技術上之限定條件,而說明書中之敘述則作為例示之 用;系爭發明乃以「具有位於氣體散流盤之上的至少一可彎 曲部分之懸置機構」為手段,俾達到「避免散流盤之斷裂或



扭曲」之效果。故所謂「具有位於氣體散流盤之上的至少一 可彎曲部分之懸置機構」乃系爭專利所用以解決問題之「手 段」,而「避免散流盤之斷裂或扭曲」則為系爭專利所達成 之「效果」,就申請專利範圍解釋而言,斷無以系爭專利說 明書中所述之「效果」來限定申請專利範圍之可能,故被告 企圖以系爭專利之目的來限定申請專利範圍,於99年9 月15 日開庭簡報資料第59頁稱「就結果而言可彎曲應該低至避免 散流器的扭曲或裂痕、就程度而言弧度為1.7 度」云云,顯 無可採。
⒌爭點二:關於專利有效性
⑴前開最高行政法院判決業已確認:系爭專利申請專利範之技 術特徵「具有一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸 置機構」且證據3 並未揭露或教示此項特徵,故證據3 並無 法作為使系爭專利無效之先前技術。同樣的,證據2 亦並未 揭露或教示「一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸 置機構」之特徵,因此,若以與最高法院及高等行政法院所 認定證據3 缺乏之技術特徵相同的先前技術認定系爭專利無 效,將顯然有悖最高法院及高等行政法院之確定判決. ,故 不論是證據3 單獨或與證據2 結合,均無法使系爭專利被認 定為無效。

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參考資料
韓商周星工程股份有限公司(Jusung , 台灣公司情報網
英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司 , 台灣公司情報網
美商業凱科技股份有限公司 , 台灣公司情報網
美商應用材料股份有限公司 , 台灣公司情報網
瀚宇彩晶股份有限公司 , 台灣公司情報網
廣輝電子股份有限公司 , 台灣公司情報網
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