新型專利異議
臺北高等行政法院(行政),訴字,94年度,1934號
TPBA,94,訴,1934,20060831,2

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臺北高等行政法院判決
                   94年度訴字第1934號
               
原   告 甲○○
訴訟代理人 丁○○專利代理人
      乙○○兼送達代收
被   告 經濟部智慧財產局
代 表 人 蔡練生(局長)
訴訟代理人 戊○○
參 加 人 日月光半導體製造股份有限公司
代 表 人 丙○○(董事長)
訴訟代理人 陳森豐律師
上列當事人間因新型專利異議事件,原告不服經濟部中華民國94
年4 月29日經訴字第09406126980 號訴願決定,提起行政訴訟,
經本院命參加人獨立參加訴訟,本院判決如下:
  主 文
原告之訴駁回。
訴訟費用由原告負擔。
  事 實
一、事實概要:
參加人於民國90年6 月26日以「具多層焊墊的封裝結構」( 下稱系爭案)向被告申請新型專利,經其編為第00000000號 審查,准予專利。公告期間,原告以其違反系爭案核准審定 時專利法第98條第1 項第1 款及第2 項規定,對之提起異議 。案經被告審查,為異議不成立之處分。原告不服,乃向經 濟部提起訴願,經遭訴願決定駁回,遂向本院提起行政訴訟 。
二、兩造聲明:
 ㈠原告聲明:
1.訴願決定及原處分均撤銷。
2.被告應就系爭案為異議成立之處分。
3.訴訟費用由被告負擔。
㈡被告聲明:
1.駁回原告之訴。
2.訴訟費用由原告負擔。
㈢參加人聲明:
1.駁回原告之訴。
2.訴訟費用由原告負擔。
三、兩造之爭點:系爭案是否有違核准審定時專利法第98條第1 項第1 款及第2 項之規定,而不符新型專利要件?



 ㈠原告主張之理由:
1.原處分理由(五)並未詳究系爭案與1997年1 月28日公開 之日本特開平9-27512 號「半導體裝置」專利案(下稱引 證1)及2000 年4 月7 日公開之日本特開0000-000000號「 半導體裝置」專利案(下引證3)之實質技術內容,忽視系 爭案所揭示者係為既有技術及知識之簡單運用,而為熟習 此項技藝人士所能輕易完成者:
⑴系爭案申請專利範圍第1 項所揭示之封裝結構之圖式係可 參閱其專利說明書第4 圖。同樣地,比對系爭案專利說明 書第2 圖所自承之習知技術,並參照系爭案第2 圖所自承 之習知技術,或引證1 之第5 (b)、6、7 、8 及9 圖可 知,有關於該申請專利範圍第1 項中所述之基板、晶片、 第一焊墊層、第二焊墊層、第三焊墊層、第一焊墊、第二 焊墊、第三焊墊、第一接觸端、第二接觸端等之元件及設 置俱為習知之技術,故系爭案申請專利範圍第1 項之技術 特徵僅在於「該第一導線係與該第二導線交叉設置」,藉 以達到「該第一導線與該第三導線之間的距離拉開,且該 第一導線、第二導線及第三導線之高度約略相等」之功效 。
⑵引證3 之第2 圖已明確揭露出在晶片3 上之焊墊(5-1) 、(5-2)係藉由交叉設置之導線(6-1)、(6-2)而電 性連接至接觸端(1b),如此對應於任一熟悉該項技術者 均知,原本相鄰約略呈平行排列之複數導線中,當其中兩 條導線呈現交叉設置時,對應於該呈現交叉設置之導線相 鄰側之導線而言,自然拉開彼此間之距離,進而得以提供 呈交叉設置導線兩側之其餘導線具有較大之設置空間,可 與該交叉導線形成同樣弧形與弧高,是以系爭案之技術特 徵,自然得為熟悉該項技術者輕易結合引證3 所揭示之「 交叉導線技術」,以及引證1 或系爭案所自承之先前技術 (第2 圖)等揭示「晶片具有第一至第三焊墊層與基板具 有第一、第二接觸端之技術」等內容而達成,故不具進步 性。
⑶況按系爭案專利說明書第8 頁第15至25行所述:「由於 Tri- Tier Pad 產品銲線時線群較一般BGA 產品多,其弧 形的呈現也會較一般BGA 高;當導線的弧高增加時,就容 易在成型時遭受模流沖激而變形,並與相鄰導線碰觸而形 成短路,影響封裝良率(Yield)。 因此,在佈線時必須 將各焊墊層的線群分別維持在約略相等的高度... 方可有 效控制封裝結構的整體高度…方可有效控制封裝結構的整 體高度」。故明顯可知,系爭案申請專利範圍第1 項之技



術特徵在「該第一導線係與該第二導線交叉設置」,藉以 達到「該第一導線與該第三導線之間的距離拉開,且該第 一導線、第二導線及第三導線之高度約略相等」之功效, 確已為引證案及系爭案所自承之先前技術所揭示,因此, 系爭案之技術內容不僅為熟悉該項技術者所可輕易思及, 同時亦不具新功效或功效增進之處。故系爭案所欲解決之 習知技術問題點仍係與引證3 相同,均係可用以預防導線 受模流沖擊而發生變形、短路,故亦再次說明系爭案不具 專利性。
⑷再者,被告於原處分亦自承:「證據三(即引證3)顯示 晶片之相鄰兩焊墊5-1 、5-2 以互相交叉之導線6-1及6-2 耦接同接觸端1b」,故面對系爭案第2 圖所遭遇之習知技 術問題者,自可由熟悉該項技術者結合引證3 所揭示之內 容而輕易思及完成系爭案之技術內容,且未能增進功效。 2.原處分理由(六)未詳究系爭案與引證1 、1994年10月25 日公告之美國第5,359,227號「LEAD FRAMEASSEMBLY AND METOHD FOR WIRING SAME」專利案(下稱引證2)及2000 年2 月29日公告之美國第6,031,281號「SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE HAVING DUMMY BONDING WIRES 」專利案(下稱引證4)之 實質技術內容,忽視系 爭案所揭之技術內容實相同於前開引證案,且其所請求之 標的甚不明確,明顯涵蓋習用技術,極不合理: ⑴系爭案申請專利範圍第8 項所述之內容與原申請之專利範 圍完全相同,並未進行任何修正,且其所揭示之封裝結構 之圖式係可參閱其專利說明書第4 圖所示。比對系爭案專 利說明書第2 圖中所自承之習知技術,其亦揭示出有基板 205 ;配置於該基板205 上之晶片21,該晶片側邊處配置 有彼此相鄰之第一焊墊層、第二焊墊層及第三焊墊層210 ,220 ,230 ,該第一焊墊層包括第一焊墊225 及第二焊 墊226 ,其中,該第二焊墊226 係與該第一焊墊225 相鄰 ;第一接觸端27,配置於該基板205 上並藉長導線257 與 該第一焊墊225 耦接;以及第二接觸端25,配置於該基板 205 上並藉一短導線265 與該第二焊墊226 耦接。故相較 系爭案申請專利範圍第8 項所揭示之技術內容及系爭案所 自承之習知技術而言,其唯一之差異點,即系爭案之技術 特徵僅在於該:「導線形成八字型結構」,且系爭案申請 專利範圍第1 項雖有界定距離拉開與高度相等的技術內容 ,但於系爭案申請專利範圍第8 項沒有相同的限制,所以 系爭案申請專利範圍第8 項特徵只有打線以八字型方式構 成。又系爭案申請專利範圍第8 項並沒有強調導線高度或



交叉設置的特徵。再者,按引證1 之第5 (b)、6 、7、 8 及9 圖及原處分理由(四):「證據一(即引證1)為 一半導體裝置,其中之基板上設有第一、第二、及第三接 觸端,設置在基板上之晶片亦配置有複數相鄰之第一、第 二及第三焊墊,上述之第一、第二及第三接觸端分別以高 度不同之第一、第二及第三導線耦接第一、第二及第三焊 墊」所自承者,有關所自承者,有關基板、晶片、第一至 第三焊墊層、以及第一與第二接觸端等元件,早為習知技 術內容,因此,系爭案申請專利範圍第8 項所述之主要技 術特徵僅在於:「導線形成八字型結構」,故無參加人於 答辯理由中所述曲解系爭案之技術特徵所在。
⑵又系爭案於其申請專利範圍及專利說明書之全篇內容中俱 未交待究竟任兩條導線之兩端開口距離應為多大才構成八 字型?難道說任兩條導線不平行者即為八字型?即為侵害 系爭案之專利?惟任一具普通物理知識人士均知,線乃由 無數點所構成,而構成任兩條線之無數點之間只要有任一 點之距離彼此不相等,即便是最小的距離,就微觀而言, 此二條線必不平行,亦即勢必呈現所謂「八字型」結構。 現今半導體封裝產業中,在進行導線製程時,由於受制於 實際機具精度之限制,絕不可能形成完全平行之兩導線, 而勢必會造成導線之兩端略呈八字型,如此,是否即為落 入系爭案之權利標的中?亦即構成權利侵害?若是,實有 違社會公平正義原則;若否,則說明系爭案之權利範圍過 大,嚴重侵害社會整體利益。
⑶再者,按引證1 之第1 圖即明確繪示出配置在基板上之晶 片設有複數焊墊2a,2b,2c,該焊墊2a,2b,2c係可藉由 長導線4a而與基板第一接觸端3a電性連接,以及藉由短導 線4c 而 與基板第二接觸端3c電性連接。其中之長、短導 線4a,4b,4c即明顯呈現出「八字型」配置,而此完全揭 示出系爭案於申請專利範圍第8 項之技術特徵。 ⑷況按引證1 之第1 圖,引證2 之第1 、第5 圖、引證3 之 第2 、第4 、第6 、第7 圖,以及引證4 之第1 、第3 、 第8 、第9 、第11、第14、第16圖等,均係顯示出導線呈 現出八字型之結構型態,故系爭案之不具專利性。 ⑸依修正前專利法第98條第2 項所謂熟習該項技術者,係指 虛擬成於申請專利當時具有該新型所屬技術領域之技術常 識,能運用研究、開發等一般技術性手段(指依據既有之 技術或知識之基礎,經由邏輯分析、推理或試驗而得之技 術手段),以發揮一般創作能力,例如選擇材料或變更設 計等,並將當時該新型所屬技術領域之技術水準,化為其



本身之知識者而言。復依專利審查基準第2-2-18頁【判斷 方式】所述:「判斷是否能輕易完成時,准予將二件或二 件以上不同文獻之全部內容或其各該文獻之部分內容、或 同一文獻之各不同部分內容相互組合;准予先前技術( prior art)之 各片斷部相互組合。」、第2-3-7 頁第1 行至第10行:「申請專利範圍中之請求項,其種類可劃分 為獨立項及附屬項... 申請人應從新型說明中所揭示之新 型,依自己之判斷,於申請專利範圍之獨立項中,記載其 所欲申請專利之新型,以便明確的表示其所欲申請專利之 新型」,以及第2-3-12頁第2 行至第5 行所述:「一獨立 項所載事項,必須具備整體性之技術思想,若一獨立項所 載事項尚未能具備整體性之技術思想者,即違反專利法施 行細則第16條第2 項之規定」可知,專利權範圍係以申請 專利範圍所記載者為準。是本件對於熟悉該系爭案所自承 之習知技術者而言,由於引證1 至4 均為晶片與基板間之 打線連結技術,其自可輕易結合系爭案中所自承之習知技 術以及引證案所揭示之導線呈現八字型設置而輕易完成系 爭案之技術內容,故系爭案不具專利性。再者,依專利審 查基準第2-2-19頁【先前技術之組合部分應注意事項】指 出:「『產生某一新功效』,係指申請專利之新型,其物 品之形狀、構造或裝置之創作,對熟習該項技術者而言, 非能輕易的可憑據先前技術、或經由邏輯分析、推理或試 驗而完成者;『增進某種功效』,係指申請專利之新型, 其物品之形狀構造或裝置之改良,在效果上克服先前技術 中存在的問題點,具備好用或實用之條件者... 」。惟按 系爭案專利說明書第9 頁第13至15行所述:「導線265 與 導線257 形成圖示般的八字型結構,以增加兩導線之間的 距離,如此一來,導線265 與導線257 就可以相同的高度 進行佈線,而不會互相短路」可知,系爭案所述之「增加 兩導線之間的距離」功效,乃係單純藉由引證案中已揭示 之將原二平行設置導線之一端間隔加大而形成八字型結構 來達成,此乃為熟習該項技術者可輕易的憑據如引證1 至 4 等先前技術、或經由邏輯分析、推理或試驗而完成者, 實不具功效特點。且就原習知複數平行設置之導線而言( 如系爭案第2 圖所示),如依系爭案之技術手段將其中二 根導線設計成八字型結構,而使該二導線間隔加大避免接 觸短路時(如系爭案第4 圖所示),雖可增加該交叉導線 與一側導線之距離,但相對地,不亦造成鄰設於該二導線 旁之導線,相對間隔該二導線之距離縮短,如此反而更容 易造成鄰設於該二導線旁之導線與該二導線發生接觸短路



問題,亦何來功效增進之處。
⑹再者,被告雖於訴願答辯書之理由三辯稱:「中國字之『 八』字,其中間口之角度很明顯在45度到90度角之間,一 般寫法約在60度角左右;故系爭案各獨立項界定之『八字 形』之應用領域亦是明確具體者」,惟依前開專利審查準 可知,,被告所辯稱之「八」字之中間開口角度係「45~ 90度間」、「一般寫法約在60度角左右」,係全為被告之 說詞,且其認定之角度關係明顯與系爭案第4 圖所繪示之 圖示不符。系爭案完全未於其全篇說明書及申請專利範圍 中提及該「八」字之中間開口角度範圍。且實際上,於進 行該「八」字之書寫時,其中間開口角度之小大實係因人 而異,系爭案亦未於其說明書中明確指出其開口角度之小 大。故系爭案於其申請專利範圍中所界定之「八字形」實 乃為模糊且不明確之界定,且其技術特徵確為引證案中揭 示,而被告竟未詳予審酌,明顯有違修正前專利法規定。 ㈡被告主張之理由:
1.引證1之圖5b、6、7、8中之焊墊2a、2b、2c實際上分別屬 於不同之三個焊墊層,而系爭案申請專利範圍第8 項獨立 項中界定之第一焊墊及第二焊墊則是同屬第一焊墊層,例 如系爭案圖4 中之焊墊225 與226 ,而焊墊225 係以長導 線耦接第一接觸端257 ,焊墊226 則以短導線耦接第二接 觸端265 ;系爭案圖4 中已明確顯示該長、短兩導線形成 一八字形,其夾角由圖4 可看出約30度左右。引證1 中之 焊墊2a、2b、2c既然已不屬於同一焊墊層者,當然不會具 有系爭案申請專利範圍第8 項獨立項之技術特徵及其對應 之功效增進者。原告之誤解起因於其不了解系爭案申請專 利範圍第8 項獨立項之實質技術特徵,而引證1 中之不同 長短導線4a、4b、4c均在同一方向上延伸,亦更進一步可 用以肯定其與系爭案申請專利範圍第8 項獨立項係不相同 技術之事實。此外,引證1 第1 圖從3A、3B、3C個別拉到 2A、2B、2C,與系爭案從晶片上拉到基板上對應上並不相 同。又引證2 之第2 圖及第5 圖中之同一焊墊層中相鄰焊 墊之導線實際上長度相近,且近乎平行,顯然並非八字形 。此外,引證3第1圖係針對特殊需求的點採用交叉的方式 ,且引證3之第2、4、6、7圖中所有之導線長度均相近,且 相鄰焊墊之導線之長度更加相近且近乎相互平行;引證4諸 多圖式所示之導線亦是如此,故均不足以證明系爭案申請 專利範圍第8項獨立項不具新穎性或進步性。
2.引證3 之第2 圖中之焊墊5-1 、5-2 僅有兩個相鄰焊墊, 實質上並無系爭案中關鍵之位於同一焊墊層之第三焊墊,



亦無系爭案中之第三導線。在構成要件上,引證3 並不具 有系爭案申請專利範圍第1 項獨立項之技術特徵及其對應 之功效增進者,難謂系爭案申請專利範圍第1項獨立項不具 進步性。
㈢參加人之聲明:
1.系爭案申請專利範圍第8 項之技術特徵僅在於:「導線形 成八字形結構」,其乃是建立在「... ,一第一接觸端, 配置於該基板上並藉一長導線與該第一焊墊耦接;以及一 第二接觸端,配置於該基板上並藉一短導線與該第二焊墊 耦接」等技術條件之下的技術特徵,也唯有在此等條件之 下,可以使得晶片與基板銲墊上連接的導線,不論是長導 線或是短導線,都可以用相同的高度來佈線,卻不會有互 相短路的問題,而改善積體電路因接腳、導線愈來愈多所 導致的體積擴大的問題。而引證1 第1 圖長短導線4a、4b 、4c配置,已經呈現系爭案所主張的「導線形成八字形結 構」。實則,引證1 所揭示者係具有第一、第二、第三焊 墊層之晶片,其焊墊層包括複數焊墊2a,2b,2c,然後透 過長導線4a或短導線4c,而共同的與基板上的接觸端3a、 3b、3c等電性連接。詳言之,引證1 乃是以晶片上內、中 、外三層的焊墊層與基板上同一層的接觸端連接;相對而 言,系爭案所界定之長導線與短導線則係形成於晶片同一 焊墊層上之兩相鄰銲墊,並與基板上的內、中、外不同接 觸端電性連接。系爭案乃是以晶片上同一層的焊墊層與基 板上內、中、外三層的接觸端連接。值得注意的是,引證1 完全沒有揭示、教示或暗示同一焊墊層上之兩相鄰焊墊可 連接到基板上不同層之接觸端,由此可知,引證1 與系爭 案二者間的結構完全不同,其面臨之技術問題點自然也不 相同。且引證1 的佈線不是、亦不能達到系爭案之技術特 徵可以使得晶片與基板間的長、短導線維持等高,並據以 縮小IC體積的目的。至引證4 亦與引證1 的情形相類,皆 未揭露系爭案的整體技術特徵,而只是局部佈線外觀上的 相似。又引證案有些只有2 個相鄰焊墊,而系爭案有3 個 以上的相鄰焊墊。
2.系爭案申請專利範圍第1項之技術特徵僅在於:「該第一導 線係與第二導線交叉設置」,其乃是建立在「... ,一第 一接觸端,配置於該基板上,該第一接觸端係藉一第三導 線與該第三焊墊耦接;以及一第二接觸端,配置於該基板 上,該第二接觸端係藉一第一導線與該第一焊墊耦接並藉 一第二導線與該第二焊墊耦接,」等技術條件之下的技術 特徵。蓋晶片側邊處的第一焊墊層,其所包括的第一焊墊



、第二焊墊及第三焊墊係相鄰設置,且該第一焊墊與第二 焊墊係連接到同一個接觸端(第二接觸端),因此其等不 會有短路、互相電性干擾的考量,因此可以使第一焊墊與 第二焊墊交叉設置,並同時拉開其等與連接到第一接觸端 之第三銲墊的距離,而不至於輕易因為互相接觸而短路, 故可以使得晶片與第一、第二、第三銲墊所連接的導線, 不論是長導線或是短導線,都可以用相同的高度來佈線, 而改善積體電路因接腳、導線愈來愈多所導致的體積擴大 的問題。而引證3 第2 圖6-1 、6-2 已明確揭露出系爭案 所界定:「該第一導線係與第二導線交叉設置」,不僅原 告簡化、曲解系爭案申請專利範圍第1 項的技術特徵,且 引證3 並無如系爭案所述之技術限制「晶片側邊處配置有 彼此相鄰之一第一焊墊層、一第二焊墊層及一第三焊墊層 」、「第一焊墊層包括一相鄰的第一焊墊、一第二焊墊及 一第三焊墊」、以及「第一導線、第二導線及第三導線之 高度約略相等」,因此引證3 第2 圖6-1 、6-2 雖然是交 叉連接到同一銲墊,卻無法也不能達到系爭案所界定之在 「使第一焊墊與第二焊墊交叉設置的同時,可以拉開其等 與連接到第一接觸端之第三銲墊的距離,使得第三銲墊不 會輕易與第一焊墊或第二焊墊接觸,而可以利用同一高度 導線卻又能避免造成短路」的技術特點。且按引證3 專利 說明書之說明,其交叉之導線6-1 及6-2 乃係用以強化導 線之支撐力以防止變形,其目的並非如系爭案所述係用以 加大導線間之間距,以使不同長度的長短導線可以用約略 等高的高度來打線,故引證3 與系爭案不僅整體結構不同 ,達到的技術功能有別,所要解決的技術問題亦自始有別 ,原告所言引證3 已揭露系爭案申請專利範圍第1 項的技 術特徵實無依據。
3.綜上,透過系爭案申請專利範圍第1 項及第8 項(整體的 技術特徵),可以使得晶片與基板銲墊上連接的導線,不 論是長導線或是短導線,都可以用相同的高度來佈線,卻 不會有互相短路的問題,而改善積體電路因接腳、導線愈 來愈多所導致的體積擴大的問題。蓋習知的半導體封裝結 構,在晶片銲墊愈趨多層,以及基板上接觸墊擴增到多層 時,在進行導線佈線時,為避免晶片運作時各信號間的互 相干擾,必須讓各導線保持一定的距離,因此,習知平行 的打線、佈線是以短導線先進行,並且長導線的佈線是高 於短導線的佈線,由於長、短導線並非居於同一高度(為 避免相互干擾短路),因此,也平白的增加了半導體封裝 結構的體積,而不利現今電子元件輕薄短小的需求,而系



爭案就是為解決此等問題所提出的解決方案。原告指稱: ⑴系爭案申請專利範圍第1 項之主要技術特徵僅在於:「 提供導線成交叉設置」;⑵系爭案申請專利範圍第8 項之 主要技術特徵僅在於:「提供導線成八字形設置」。顯然 曲解簡化系爭案的技術特徵,不僅無視於前述系爭案申請 專利範圍整體技術方案的記載,有違申請專利範圍應該整 體觀之的專利要求。同時,原告所謂的:「系爭案僅是提 供導線成交叉或八字形設置」,更無法解釋系爭案所可以 達到簡化打線程序(使長短導線等高),以及使半導體封 裝結構體積縮小的功效增進。
4.引證案皆與系爭案有所不同,已如前述,該等證據既不能 達到系爭案所要達到的功效,也無法解決既有的技術問題 ,僅是外觀上局部的近似,無視申請專利範圍應該整體觀 之的專利要求。原告雖又以進步性之觀點來質疑系爭案專 利性,惟按修正前專利法第98條第2 項規定可知,關於新 型的進步性要求,必須是其既為熟習該項技術者所能輕易 完成,同時也未能增進功效時,才不具備進步性要件,如 果一新型確有功效之增進,縱其屬熟習該項技術者所能輕 易完成,仍得取得新型專利,此為系爭案核准審定時所適 用專利法關於新型與發明專利進步性之要求區別。本件系 爭案其整體的封裝結構設計,在晶片上的相鄰銲墊間與基 板上的不同層接觸端(內、外、中)相連時,透過長、短 導線間的不同配置(交叉或八字形),可以與遠近接觸端 電性相接的長短導線,可以用約略等高的高度來佈線,從 而達到縮小晶片體積的目的,卻又可避免導線過度接近所 引起的短路。就功效增進而言,以系爭案的打線方式已具 有功效的增進,符合新型專利的進步性之要求。 理 由
一、系爭案係於90年6月26日申請專利,被告於91年6月7日審定 准予專利,則系爭案有無應不予專利之原因,應以核准審定 時所適用之自90年10月24日修正公布之專利法為斷。次按凡 對物品之形狀、構造或裝置之創作或改良,而可供產業上利 用者,得依法申請取得新型專利,固為系爭案核准審定時專 利法第97條暨第98條第1項所明定。惟同法第98條第1項第1 款、第2項分別規定:「凡可供產業上利用之新型,無下列 情事之一者,得依本法申請取得新型專利:一、申請前已見 於刊物或已公開使用者。…。」「(第2項)新型係運用申 請前既有之技術或知識,而為熟習該項技術者所能輕易完成 且未能增進功效時,雖無前項所列情事,仍不得依本法申請 取得新型專利。」




二、系爭案於92年1月15日申請修正申請專利範圍,被告認未變 更實質,且為申請專利範圍過廣的修正,經准予修正並據以 審查。因此,本件應依修正後之申請專利範圍審究,應先敍 明。依卷附新型專利說明書之記載,系爭案係: 1.一種具多層焊墊的封裝結構 ,包括:一基板;一晶片,配 置於該基板上,該晶片具一晶片側邊,且該晶片側邊處配置 有彼此相鄰之一第一焊墊層、一第二焊墊層及一第三焊墊層 ,該第一焊墊層包括一第一焊墊、一第二焊墊及一第三焊墊 ,其中,該第一焊墊分別與該第二焊墊及該第三焊墊相鄰設 置;一第一接觸端,配置於該基板上,該第一接觸端係藉一 第三導線與該第三焊墊耦接;以及一第二接觸端,配置於該 基板上,該第二接觸端係藉一第一導線與該第一焊墊耦接並 藉一第二導線與該第二焊墊耦接,其中,該第一導線係與該 第二導線交叉設置,藉以使得該第一導線與該第三導線之間 的距離拉開,且該第一導線、第二導線及第三導線之高度約 略相等。
2.如申請專利範圍第1 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一焊墊層係一外焊墊層。
3.如申請專利範圍第2 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一導線、該第二導線與該第三導線之弧高均介於3 密爾 (mil) 至4.5密爾之間。
4.如申請專利範圍第1 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一焊墊層係一中央焊墊層。
5.如申請專利範圍第4 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一導線、該第二導線與該第三導線之弧高均介於6.5 密 爾至8.5 密爾之間。
6.如申請專利範圍第1 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一焊墊層係一內焊墊層。
7.如申請專利範圍第6 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一導線、該第二導線與該第三導線之弧高均介於13密爾 至15密爾之間。
8.一種具多層焊墊的封裝結構,包括:一基板;一晶片,配置 於該基板上,該晶片具一晶片側邊,且該晶片側邊處配置有 彼此相鄰之一第一焊墊層、一第二焊墊層及一第三焊墊層, 該第一焊墊層包括一第一焊墊及一第二焊墊,其中,該第二 焊墊係與該第一焊墊相鄰;一第一接觸端,配置於該基板上 並藉一長導線與該第一焊墊耦接;以及一第二接觸端,配置 於該基板上並藉一短導線與該第二焊墊耦接,其中,該短導 線係與該長導線形成一八字型結構。
9.如申請專利範圍第8項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中



該第一焊墊層係一外焊墊層。
10.如申請專利範圍第9 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該短導線與該長導線之弧高均介於3 密爾至4.5 密爾之間。 11.如申請專利範圍第8 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一焊墊層係一中央焊墊層。
12.如申請專利範圍第11項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該短導線與該長導線之弧高均介於6.5 密爾至8.5 密爾之間 。
13.如申請專利範圍第8 項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該第一焊墊層係一內焊墊層。
14.如申請專利範圍第13項所述之具多層焊墊的封裝結構,其中 該短導線與該長導線之弧高均介於13密爾至15密爾之間。三、系爭案係一種具多層焊墊的封裝結構,可包括基板、晶片、 第一接觸端及第二接觸端,晶片與接觸端均配置於基板上, 晶片之側邊處配置有相鄰的第一焊墊及第二焊墊,其中,第 一接觸端可藉第一導線及第二導線分別耦接至第一焊墊及第 二焊墊,佈線時,可將兩導線交叉設置,以增加其與鄰近導 線間的距離。再者,晶片之側邊處亦可包括相鄰的第三焊墊 與第四焊墊,第三焊墊藉短導線與第一接觸端耦接,第四焊 墊藉長導線與第二接觸端耦接,佈線時,可將此長、短導線 調整為八字型結構,以增加兩導線間的距離。因此,系爭案 係於佈線時,將兩導線交叉設置,以增加其與鄰近導線間的 距離,或將長、短導線調整為八字型結構,以增加兩導線間 的距離,以達到降低多層焊墊的封裝結構中各線群的高度, 提高封裝良率。異議理由係主張引證1、2之組合或引證1、2 、3 之組合可證明系爭案申請專利範圍第1 項不具進步性; 引證3 可證明系爭案申請專利範圍第1 項不具新穎性;引證 4 可證明系爭案申請專利範圍第8 項不具新穎性;引證1 、 2 、4 之組合可證明系爭案申請專利範圍第8 項不具進步性 等語。
四、引證1係1997年1月28日公開之日本特開平9-27512號「半導 體裝置」專利案,引證2係1994年10月25日公告之美國第 5,359,227號「LEAD FRAMEASSEMBLY AND METOHD FOR WIRING SAME」專利案,引證3係2000年4月7日公開之日本特開 0000-000000號「半導體裝置」專利案,引證4係2000年2 月 29日公告之美國第6,031,281號「SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE HAVING DUMMY BONDING WIRES」專利案。 引證1為一半導體裝置,其中之基板上設有第1、第2及第3接 觸端,設置在基板上之晶片亦配置有複數相鄰之第1、第2及 第3焊墊,上述之第1、第2及第3接觸端分別以高度不同之第



1、第2及第3導線耦接第1、第2及第3焊墊;引證2為一導線 架組合,其中顯示晶片之不同焊墊分別以高度不同之導線耦 接至基板上之接觸端。相較之下,引證1及2之組合並未揭示 系爭案申請專利範圍第1項之第1及第2導線交叉設置,亦不 具有系爭案申請專利範圍第1項對應可加大第1及第3導線之 間距,並使第1、第2及第3導線約略等高之功效,故引證1及 2之組合不足以證明系爭案申請專利範圍第1項不具進步性。五、引證3為一半導體裝置,其中顯示晶片之相鄰兩焊墊5-1、5- 2以互相交叉之導線6-1及6-2耦接同一接觸端。相較之下, 其相鄰之兩焊墊附近並無系爭案申請專利範圍第1項中與其 相鄰之第3焊墊及第3導線,故引證3無法證明系爭案申請專 利範圍第1項不具新穎性。且其交叉之導線6-1及6-2係用以 強化導線之支撐力以防止變形,並非如系爭案申請專利範圍 第1項係用以加大第1與第3導線之間距,並使各導線約略等 高者,故引證1、2及3之組合仍不足以證明系爭案申請專利 範圍第1項不具進步性。引證4為一具有虛設銲接線之半導體 IC,其中已顯示焊線130e與134係以成八字形方式分別由焊 墊112e及116耦接至接觸端124e,兩焊墊連接至同一接觸端 。但引證4其兩焊墊連接至同一接觸端,與系爭案申請專利 範圍第8項之兩焊墊分別連接至不同接觸端有所不同,引證4 無法證明系爭案申請專利範圍第8項不具新穎性;且焊線134 之設置係用以減少銲線130e於封裝注入成型時所受之外力, 其實質之構形及所產生之功效均與系爭案申請專利範圍第8 項不同,故引證4與引證1、2相關技術之組合仍不足以證明 系爭案申請專利範圍第8項不具進步性,均據原審定載明在 卷,核無不合。
六、原告雖主張引證3之第2圖已明確揭露出在晶片3上之焊墊( 5-1)、(5-2)係藉由交叉設置之導線(6-1)、(6-2)而 電性連接至接觸端(1b),如此對應於任一熟悉該項技術者 均知,原本相鄰約略呈平行排列之複數導線中,當其中兩條 導線呈現交叉設置時,對應於該呈現交叉設置之導線相鄰側 之導線而言,自然拉開彼此間之距離,進而得以提供呈交叉 設置導線兩側之其餘導線具有較大之設置空間,可與該交叉 導線形成同樣弧形與弧高等等。但查,引證3並無如系爭案 所述之技術限制「晶片側邊處配置有彼此相鄰之一第一焊墊 層、一第二焊墊層及一第三焊墊層」、「第一焊墊層包括一 相鄰的第一焊墊、一第二焊墊及一第三焊墊」、以及「第一 導線、第二導線及第三導線之高度約略相等」。因此,引證 3第2圖6-1、6-2雖然是交叉連接到同一銲墊,但並不能達到 系爭案所界定在「使第一焊墊與第二焊墊交叉設置的同時,



可以拉開其等與連接到第一接觸端之第三銲墊的距離,使得 第三銲墊不會輕易與第一焊墊或第二焊墊接觸,而可以利用 同一高度導線卻又能避免造成短路」的技術特點。又引證3 專利說明書之說明,其交叉之導線6-1及6-2乃係用以強化導 線之支撐力以防止變形,其目的並非如系爭案所述係用以加 大導線間之間距,以使不同長度的長短導線可以用約略等高 的高度來打線,故引證3與系爭案整體結構不同,尚不能認 由引證3 揭示或教示之內容可與其他引證結合,輕易思及系 爭案申請專利範圍第1 項之技術特徵。
七、原告雖再主張引證1之第1圖即明確繪示出配置在基板上之晶 片設有複數焊墊2a,2b,2c,該焊墊2a,2b,2c係可藉由長 導線4a而與基板第一接觸端3a電性連接,以及藉由短導線4c 而與基板第二接觸端3c電性連接。其中之長、短導線4a,4b ,4c即明顯呈現出「八字型」配置,而此完全揭示出系爭案 於申請專利範圍第8項之技術特徵。系爭案所述之「增加兩 導線之間的距離」功效,乃係單純藉由引證案中已揭示之將 原二平行設置導線之一端間隔加大而形成八字型結構來達成 ,此乃為熟習該項技術者可輕易的憑據如引證1至4等先前技 術、或經由邏輯分析、推理或試驗而完成者,實不具功效特 點。且引證1之第1圖,引證2之第1、第5圖、引證3之第2、

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參考資料
日月光半導體製造股份有限公司 , 台灣公司情報網