染之虞之場址,應即進行查證,並依相關環境保護法規管 制污染源及調查環境污染情形;土壤及地下水污染整治法 第12條第2項規定,前項場址之土壤污染或地下水污染來 源明確,其土壤或地下水污染物濃度達土壤或地下水污染 管制標準者,直轄市、縣(市)主管機關應公告為土壤、 地下水污染控制場址;土壤及地下水污染整治法第15條規 定,直轄市、縣(市)主管機關為減輕污染危害或避免污 染擴大,應依控制場址或整治場址實際狀況,採取下列應 變必要措施:……三、提供必要之替代飲水或通知自來水 主管機關優先接裝自來水。四、豎立告示標誌或設置圍籬 。……七、移除或清理污染物。八、其他應變必要措施。 (第2項)直轄市、縣(市)主管機關對於前項第3款、第 4款、第7款及第8款之應變必要措施,得命污染行為人、 潛在污染責任人、污染土地關係人或委託第三人為之;土 壤及地下水污染整治法第17條規定,土壤、地下水污染管 制區內禁止下列行為,但依法核定污染控制計畫、污染整 治計畫或其他污染改善計畫之執行事項,不在此限:1.置 放污染物於土壤、2.注入廢(污)水於地下水體、3.排放 廢(污)水於土壤、4.其他經主管機關公告之管制行為。 ……地下水污染管制區內,直轄市、縣(市)主管機關得 禁止飲用、使用地下水及作為飲用水水源;土壤及地下水 污染整治法第25條規定,污染行為人、潛在污染責任人、 污染土地關係人或土壤、地下水污染管制區內之土地使用 人、管理人或所有人對於土壤、地下水污染整治計畫、污 染控制計畫或適當措施之實施,應予配合;……。土壤及 地下水污染整治法施行細則第8條規定,本法第12條第2項 所稱地下水污染來源明確,指依查證、調查結果及資料, 可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資訊。又被 告100年9月1日公布之臺中市政府組織權限劃分自治條例 第2條規定:「中央法令明定直轄市政府為地方主管機關 ,而使本市取得地方自治團體管轄權者,本府得以組織自 治條例及相關機關組織規程為權限劃分……」;被告100 年11月22日府授環秘字第10002208961號公告:「……公 告事項:臺中市政府環境保護局執行下列法規之主管機關 權限:……二、土壤及地下水污染整治法(除第12條外) 及其子法……」。
(二)有關原告主張其無使用三氯乙烯及四氯乙烯之情形,環保 主管機關尚未就造成地下水污染之物質,已排除調查範圍 以外之污染干擾,掌握涉及產生該物質之製程或其他來源 位置,並合理論述該物質傳輸至採樣地點之途徑,地下水
污染來源不明確乙節,查土壤及地下水污染整治法第12條 第2項規定,場址之地下水污染來源明確,且污染物濃度 達地下水污染管制標準者,應公告為地下水污染控制場址 ;另土壤及地下水污染整治法施行細則第8條規定,地下 水污染來源明確係指依調查結果可判斷或確認造成地下水 污染之物質或位置等資訊。查行政院環境保護署與被告臺 中市政府環境保護局為調查臺中加工出口區之地下水污染 情形及範圍,於臺中加工出口區內及其地下水流向之上、 下游設置多口監測井,其中位於上游之監測井,除較鄰近 於臺中加工出口區者曾有地下水污染物三氯乙烯及四氯乙 烯監測濃度檢出微量值外,皆無超過管制標準情形,且與 臺中加工出口區內各監測井檢出之三氯乙烯或四氯乙烯濃 度有數十倍至數百倍之差異,顯見臺中加工出口區內之地 下水污染源來自於臺中加工出口區內甚為明確。行政院環 境保護署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 (第二期):臺中加工出口區」成果報告略以:「……六 、調查結果總結:1、依工業區尺度地下水調查……,顯 示臺中加工出口區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至 區內;……。2、保得士光學公司用地內及週圍地下水皆 有三氯乙烯及四氯乙烯超標情形,……保得士曾使用三氯 乙烯進行光學鏡片清洗,……該廠污水處理廠運作與地下 水污染仍具關聯性。3、亞洲光學用地內地下水皆有三氯 乙烯及四氯乙烯超標情形,……亞洲光學曾使用三氯乙烯 及二氯甲烷作為鏡片清洗劑……,該廠過去溶劑儲存情形 與地下水三氯乙烯污染應具關聯性。……5、根據本計畫 調查結果及被告臺中市政府環境保護局計畫土壤檢測結果 ,菱真用地(潭子區工區段169地號)地下水有三氯乙烯 及四氯乙烯污染之情形,……前手事業台灣菱慶曾使用過 含氯有機溶劑,……」等語,足認已排除臺中加工出口區 以外之污染傳輸至區內情形,並已查明臺中加工出口區內 業者(含台灣菱興公司之前身)曾有產生該污染物質之製 程或其他來源位置;另查台灣菱興公司之前身台灣菱真公 司(於95年4月間自台灣菱慶股份有限公司分割新設,於1 01年12月間變更其公司名稱為台灣菱興電子材料股份有限 公司)及前手使用人台灣菱慶股份有限公司(下稱台灣菱 慶公司,於89年間設立,95年間歇業)均於91年7月至98 年12月間於系爭地號、地址上確有申報二氯甲烷(2.875 公噸)及三氯乙烯(33.64公噸)購買及使用之紀錄,且 系爭場址之採樣地點(標準監測井B00148、B00149)分別 位於台灣菱興廠房下游及上游處,足徵被告已確認造成污
染之根源,難謂不符合地下水污染來源明確之要件;是原 告所訴未查明地下水污染之來源,不符合地下水污染來源 明確之要件等語,洵非可採。本案係被告依據行政院環境 保護署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫( 第二期)」之調查結果,確認臺中市○○區○區段○○○○ 號之地下水質,經行政院環境保護署於該地號設置之兩口 地下水(標準監測井B00148、B00149)監測井採樣檢測結 果,污染物三氯乙烯與四氯乙烯濃度均達污染管制標準, 確認造成地下水污染之物質為非自然環境存在之三氯乙烯 及四氯乙烯,所在位置為臺中市○○區○區段○○○○號, 其污染來源明確且逾管制標準,認就造成地下水污染之物 質或位置等資訊已足以判斷及確認,已符合地下水污染來 源明確之定義。爰此,該地號地下水污染來源明確,符合 土壤及地下水污染整治法第2條17款、第12條第2項及細則 第8條之規定,依法應公告為地下水污染控制場址。原告 雖針對原物料調查結果,說明未有三氯乙烯或四氯乙烯之 使用,僅能用以說明原告非污染行為人之部分,並無法排 除地下水污染來源明確及污染物濃度超過污染管制標準之 事實。復參最高行政法院101年9月20日所為101年度判字 第850號判決理由六、(三):「土壤及地下水污染整治 法施行細則第8條之規定,土壤及地下水污染整治法第12 條第2項所稱地下水污染來源明確,指依查證、調查結果 及資料,可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資 訊。該細則係依土壤及地下水污染整治法第56條規定,就 「地下水污染來源明確」定義為細節性或技術性規定,並 無不符立法意旨或逾越母法規定,法院自得予以適用。又 上述規定所稱之地下水污染來源明確,僅以地下水污染之 物質或位置等資訊,依主管機關查證、調查結果及資料, 得以判斷或確認者,即為已足」。爰此,本案依主管機關 調查結果可判斷或確認地下水污染之物質與位置,因而認 定地下水污染來源明確,被告公告該地號土地為地下水污 染控制場址,應屬適法。
(三)系爭場址於102年7月16日經被告公告為地下水污染控制場 址,被告臺中市政府環境保護局為查明該地號目前之土地 使用人,已函請臺中加工出口區管理單位臺中分處查明確 認原告為土地使用人之一,有臺中分處102年8月20日經加 中環字第10200042330號函以茲佐證,原告與台灣菱興公 司為系爭場址之共同土地使用人,此為原告於陳述意見時 未予否認之事項。被告臺中市政府環境保護局乃依土壤及 地下水污染整治法第2條第19款之規定,認定原告為污染
土地關係人,應屬適法。另依土壤及地下水污染整治法第 15條、第17條、第25條等規定,地下水污染控制場址公告 後,將對於該地號土地之利用或地下水之使用進行管制, 未來進行污染改善時並須請污染土地使用人配合,以減輕 污染危害或避免污染擴大,該等措施重在於將現存污染所 造成之危害採取初步應變必要之控制,避免再行擴大,以 減輕污染所造成的危害,此與污染行為人應負之污染控制 責任有異,被告臺中市政府依法通知原告所使用土地經公 告為地下水污染控制場址及其為污染土地關係人,應無不 當。
(四)系爭場址經查地下水污染物濃度超過地下水污染管制標準 且來源明確,被告依法公告系爭場址為控制場址,於法無 違:
⒈有關臺中加工出區內南側潭子區工區段216及217地號,前 經被告臺中市政府判認其污染來自於臺中加工出口區內, 污染來源明確,以100年5月10日府授環水字第1000067417 號公告為地下水污染控制場址,經污染土地關係人臺中加 工出口區管理處臺中分處提起行政訴訟,案經最高行政法 院駁回其訴,其理由明載:「按,土壤及地下水污染整治 法施行細則第8條之規定,土壤及地下水污染整治法第12 條第2項所稱地下水污染來源明確,指依查證、調查結果 及資料,可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資 訊。該細則係依土壤及地下水污染整治法第56條規定,就 『地下水污染來源明確』定義為細節性或技術性規定,並 無不符立法意旨或逾越母法規定,法院自得予以適用。又 上述規定所稱之地下水污染來源明確,僅以地下水污染之 物質或位置等資訊,依主管機關查證、調查結果及資料, 得以判斷或確認者,即為已足。至於系爭場址之污染行為 人是否已查明、導致污染結果之其他原因為何(污染物質 以外之原因,如由何一工廠之何項製程所產生之污染), 與污染來源是否明確並無關聯,並非該等場址應否公告為 控制、整治場址之要件」此有最高行政法院101年度判字 第850號判決可資參照。
⒉復按「各類型污染場址之公告列管範圍評估作業流程:( 一)地下水污染場址:當場址內設置之地下水標準監測井 採樣檢測結果達地下水污染管制標準且污染來源明確,如 評估地下水污染有擴散疑慮,原則得公告全廠(場)區所 有地號為場址。惟個案仍得視現場實際情況,以公告廠( 場)區部分地號方式管制(如圖二)」、「工廠類:廢棄 工廠/運作中工廠:原則公告達管制標準採樣點所在地號
;如個案場址單筆面積甚大,仍得視採樣點分布及現場實 際情況,以公告廠(場)區部分地號方式管制」,此有場 址污染範圍與管制區之劃定及公告作業原則第3點及圖二 可稽。
⒊為掌握國內高污染潛勢工業區之土壤及地下水品質狀況, 行政院環境保護署委辦「高污染潛勢工業區污染源調查及 管制計畫(第二期)」。依據全國工業區土壤及地下水品 質管理燈號分級狀況,選擇高雄楠梓加工出口區及臺中潭 子加工出口區等2處屬紅燈之工業區,作為調查對象。屬 紅燈之工業區表示現況存在污染且污染已擴散至區外者。 ⒋行政院環境保護署上開計畫,依據現場勘查結果並綜合考 量地理位置、稽查紀錄、歷年地下水監測調查資料等因子 ,挑選出共計5家事業進行工廠調查作業,名單包括:保 得士光學公司、亞洲光學公司、原告、台灣菱真公司及台 灣真珠樂器股份有限公司(下稱台灣真珠公司)。 ⒌調查結果顯示5處工廠之地下水均檢出污染物濃度超過地 下水污染管制標準,其中亞洲光學公司、保得士光學公司 、原告北環新廠、台灣真珠公司(一、二廠)、台灣菱真 公司5廠之地下水四氯乙烯及三氯乙烯均超過第二類地下 水污染管制標準。
⒍其中,台灣菱真公司所在地號為潭子區工區段169地號, 其地下水三氯乙烯濃度0.104mg/L(地下水污染管制標準 :0.05mg/L)、四氯乙烯濃度0.1784mg/L(地下水污染管 制標準:0.05mg/L),被告爰依公告作業原則第3點及圖 二,公告該地號土地為地下水污染控制場址。
⒎系爭場址污染來源經確認係來自於臺中加工出口區內,污 染來源明確:
⑴由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期) 期末報告第4-8頁及第4-26頁可知,彙整行政院環境保 護署查證、被告臺中市政府環境保護局計畫及加工出口 區管理處計畫調查結果,臺中加工出口區附近地下水主 要污染物為三氯乙烯和四氯乙烯,依被告臺中市政府環 境保護局99年計畫結果指出,污染可能來自於臺中加工 出口區,其污染來源可能係位於臺中加工出口區監測井 MW1至MW3所構成之三角區域內。
⑵由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期) 期末報告第4-37至4-41頁可知,臺中加工出口區地下水 流向大致為西北向東南流,為確認污染物是否有由區外 北側流入區內之可能,行政院環境保護署於臺中加工出 口區之東北側設置監測井L00154、北側設置監測井L001
52、西北側設置L00155。調查結果顯示,除東北側之監 測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯外(地 下水污染管制標準:0.05mg/L),監測井L00152及L001 55均未測出含氯有機污染物濃度。是以行政院環境保護 署該調查成果報告書認定「臺中加工出口區區外北側及 西北側應無相關污染傳輸至區內」。
⑶其中,由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第 二期)期末報告第4-38頁可知,監測井L00152位於系爭 場址之上游,未測出含氯有機污染物濃度,足以排除系 爭場址污染物由區外北側傳輸至區內之可能性;亦即, 可資確認系爭場址之污染物係來自於臺中加工出口區內 ,符合土壤及地下水污染整治法施行細則第8條「可確 認或判斷造成地下水污染之物質或位置等資訊」之污染 來源明確要件。
⑷另由102年2月高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 (第二期)第10頁記載「六、調查結果總結……2.保得 士公司用地內及周圍地下水皆有三氯乙烯及四氯乙烯超 標情形……依工廠現勘結果,保得士曾使用三氯乙烯進 行光學鏡片清洗……該廠污水處理廠運作與地下水污染 仍具關聯性。3.亞洲光學用地內地下水皆有三氯乙烯及 四氯乙烯超標情形……依工廠現勘結果,亞洲光學曾使 用三氯乙烯及二氯甲烷做為鏡片清洗劑……該廠過去溶 劑儲存情形與地下水三氯乙烯污染應具關聯性。……5. 根據本計畫調查結果及被告臺中市政府環境保護局計畫 土壤檢測結果,菱真用地地下水有三氯乙烯及四氯乙烯 污染之情形……前手事業台灣菱慶曾使用過含氯有機溶 劑……」等語可知,除臺中加工出口區內有多家廠商曾 有使用三氯乙烯之紀錄,且其廠區地下水亦查出三氯乙 烯污染以外,系爭場址之前手事業亦有使用三氯乙烯之 紀錄,其地下水亦查出有地下水污染物濃度超過管制標 準情事。參以污染物由區外北側傳輸進入區內之可能性 業經排除乙節可知,系爭場址之污染來源來自臺中加工 出口區內,可資明確。
⑸原告主張應查明是何家工廠造成系爭場址地下水污染方 可公告場址云云。惟系爭場址污染係由何家工廠造成, 乃屬污染行為人之認定。由最高行政法院101年度判字 第850號判決:「系爭場址之污染行為人是否已查明、 導致污染結果之其他原因為何(污染物質以外之原因, 如由何一工廠之何項製程所產生之污染),與污染來源 是否明確並無關聯,並非該等場址應否公告為控制、整
治場址之要件」之意旨可知,只要可資判斷造成地下水 污染物質或位置,即屬污染來源明確,至於該污染係由 何工廠造成等,此與污染來源明確並無關聯,非公告控 制場址之要件。
⑹另參土壤及地下水污染整治法第13條第2項前段規定: 「污染行為人或潛在污染責任人不明或不擬訂污染控制 計畫時,直轄市、縣(市)主管機關得視財務狀況及場 址實際狀況,採適當措施改善」等語可知,主管機關本 可在污染行為人尚未明確之情況下公告控制場址,並採 取適當改善措施。是原告主張未查明污染係由何家工廠 造成前,不得公告控制場址云云,不啻將使土壤及地下 水污染整治法第13條第2項成為具文。
⒏綜上,依據現場勘查結果並綜合考量地理位置、稽查紀錄 、歷年地下水監測調查資料等因子,挑選出共計5家事業 進行工廠調查作業,此5家事業所在地號之地下水均經確 認有地下水污染物濃度超過管制標準情事。其中,台灣菱 真公司所在地號為潭子區工區段169地號,其地下水三氯 乙烯及四氯乙烯均超過管制標準,污染來源已排除來自區 外北側之可能性,可據以確認係來自於臺中加工出口區內 ,污染來源明確,被告依土壤及地下水污染整治法第12條 及公告作業原則公告該地號土地為地下水污染控制場址, 於法無違。至於原告主張應查明污染係由何家工廠造成云 云,為污染行為人之認定問題,與場址公告要件無涉。(五)原告為系爭場址之使用人,被告依法認定原告為污染土地 關係人,於法無違:
⒈按「污染土地關係人:指土地經公告為污染控制場址或污 染整治場址時,非屬於污染行為人之土地使用人、管理人 或所有人」,土壤及地下水污染整治法第2條第19款定有 明文。
⒉原告為系爭場址之使用人,此有經濟部加工出口區管理處 臺中分處102年月20日經加中環字第10200042330號函,足 資認定。系爭場址既經公告為污染控制場址,原告為系爭 場址之使用人,被告認定原告為污染土地關係人,自於法 無違。
(六)依相關毒性化學物質申報紀錄與許可紀錄可知,保得士公 司、亞洲光學公司及台灣菱慶公司均曾使用含氯有機溶劑 :
⒈由行政院環境保護署「毒性化學物質許可管理系統」許可 紀錄之查詢結果可知,保得士光學公司(運作人管制編號 :L94A1563)領有二氯甲烷及三氯乙烯之使用許可、亞洲
光學公司(運作人管制編號:L0000000)領有二氯甲烷、 三氯乙烯之使用許可;此外,系爭場址之使用人之一台灣 菱真公司領有二氯甲烷之使用許可(運作人管制編號:L0 000000)。
⒉復依行政院環境保護署「毒性化學物質許可管理系統」申 報紀錄可知,保得士光學公司於98年至100年皆申報三氯 乙烯及二氯甲烷之運作紀錄。
⒊再查,台灣菱真公司(於95年自台灣菱慶公司分割新設, 於101年12月間變更其公司名稱為台灣菱興電子材料股份 有限公司)之前手使用人台灣菱慶公司(於89年間設立, 95年間歇業)於91年至94年間於系爭場址曾有購買暨使用 二氯甲烷與三氯乙烯之申報紀錄。
⒋綜上可知,系爭場址之前手事業及臺中加工出口區內其他 廠商均有使用三氯乙烯之紀錄,其地下水亦查出有地下水 三氯乙烯濃度超過管制標準情事,佐以行政院環境保護署 相關監測井資料已排除污染物由區外北側傳輸進入區內之 可能性乙節,系爭場址地下水污染物來源已可確認來自於 臺中加工出口區內,污染來源明確。
(七)原告主張系爭場址四氯乙烯來源不明云云,惟二氯甲烷、 三氯乙烯及四氯乙烯均可作為電子零件或光學製品清洗劑 之用,廠商可能將相關溶劑交錯使用,以致系爭場址驗出 四氯乙烯成分;另依過去查證經驗顯示,實務上亦多檢出 三氯乙烯與四氯乙烯於同一場址併存之情形。被告依上開 文獻及污染場址處理實務經驗等研判四氯乙烯污染與三氯 乙烯具有關聯性,自屬有據:
⒈經查,二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零 組件與光學製品製造業之清洗溶劑成分,此有國家環境毒 物研究中心網頁資料、行政院環境保護署「運作中工廠及 地下水含氯有機溶劑污染潛勢調查及查證計畫」及經濟部 工業局「含氯碳氫化合物:土壤及地下水污染預防及整治 技術手冊」等可稽。在同一污染場址,亦常見同時發現上 開含氯有機污染物。
⒉由經濟部工業局「含氯碳氫化合物-土壤及地下水污染預 防及整治技術手冊」第3頁可知,三氯乙烯和四氯乙烯具 有互相取代之功能,故不管在國內外,均常於同一污染場 址,同時發現上開含氯有機污染物。以美國而言,80%以 上之污染場址同時存在三氯乙烯及四氯乙烯污染。以我國 污染場址實務而言,早有協順、仁武、裕源等污染場址, 同時發現有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情事。
⒊以系爭場址而言,無論亞洲光學公司、保得士光學公司、
台灣真珠公司或系爭場址等,亦均同時驗出三氯乙烯及四 氯乙烯超過地下水污染管制標準情事,此查證結果與國內 外之污染場址查證實務經驗相符。
⒋復查,依據行政院環境保護署毒性化學物質許可管理系統 資料顯示,將二氯甲烷做為洗滌用途之廠商,亦常見同時 使用三氯乙烯作為清潔劑之用。
⒌由上可知,二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電 子零組件與光學製品製造業之清洗溶劑成分,其等有互相 取代之功能。故無論國內外,均常見同一場址同時檢出有 三氯乙烯及四氯乙烯污染情事,被告依據歷來文獻所載及 污染場址查證實務等研判四氯乙烯之污染與三氯乙烯之污 染具有關聯性,乃有所據,並無違經驗及論理法則。 ⒍系爭場址目前雖未有四氯乙烯申報紀錄,惟此可能係因為 早期相關管制法規尚未健全,亦無廢溶劑管理或回收再利 用法令,廠商可能未對四氯乙烯之使用進行申報,導致雖 未申報四氯乙烯使用紀錄,卻仍查出是項污染之結果。另 若廠商所使用之清洗劑倘來源不明或品質不佳,亦有可能 內含一定比例之四氯乙烯,倘廠商不知應經申報即為使用 ,亦會導致實際上有使用四氯乙烯,然而卻查無申報資料 之情形。至於如何進一步追查係臺中加工出口區內何特定 廠商使用四氯乙烯,此乃污染行為人追查問題,實與場址 公告要件無涉。
(八)原告主張亞洲光學及保得士等位於地下水下游,其污染物 不會傳輸至系爭場址云云。惟由高污染潛勢工業區污染源 調查及管制計畫(第二期)期末報告第4-38頁可知,亞洲 光學及保得士等處之地下水,有往系爭場址迴流情事,自 有將污染物傳輸至系爭場址之可能性:
⒈由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期)期 末報告第4-38頁可知,行政院環境保護署既設監測井MW4 位於亞洲光學廠區,行政院環境保護署既設監測井MW1及M W2位於保得士廠區,加工區既設監測井MW-1位於系爭場址 。復參高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期 )期末報告第4-40頁可知,該處之地下水流向係由行政院 環境保護署既設監測井MW4流向監測井MW-1(由亞洲光學 廠區流向系爭場址),以及由行政院環境保護署既設監測 井MW1及MW2流向監測井MW-1(由保得士廠區流向系爭場址 )。是以,由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫( 第二期)期末報告即可清楚明證,地下水由亞洲光學及保 得士廠區迴流至系爭場址,故亞洲光學公司及保得士公司 廠區之三氯乙烯及四氯乙烯自可藉由地下水傳輸至系爭場
址。
⒉原告主張臺中加工出口區內無地下水迴流情事云云。惟查 ,臺中加工出口區臺中分處為執行臺中加工出口區南側應 變必要措施所製作之地下水大致流向圖,此參該圖之出處 ,以及其所指地下水流向完全相同、未有任何細部區分, 即可明知。此與高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 (第二期)期末報告係行政院環境保護署為確認污染來源 ,所為臺中加工出口區地下水細部流向測量相較,自以後 者較具有準確性及代表性。此參高污染潛勢工業區污染源 調查及管制計畫(第二期)期末報告第4-39頁記載「為更 詳細瞭解區內污染可能傳輸方向,本計畫亦根據水位以su ffer軟體繪製潭子加工出口區內地下水流向,以確認除潭 子地區大尺度地下水流向(由北向南)外,潭子加工區內 是否有與區域流向不同之細部區域流場,以協助釐清後續 各監測井所檢測出之污染物可能來向」等語,即可明證。 ⒊高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期)期末 報告第4-40頁之上圖,為「潭子加工出口區自計式水位計 結果地下水流向」,其地下水流向之繪製依據為該圖上標 示圓點之監測井L00152至L00155(共4口監測井),乃為 大尺度之地下水流向之描繪,其描繪範圍亦僅限於加工出 口區內之上半部。相較而言,高污染潛勢工業區污染源調 查及管制計畫(第二期)期末報告第4-40頁之下圖「潭子 加工區環保局計畫水位量測結果地下水流向」,其地下水 流向之繪製依據為該圖上標示十字圖示之監測井BMW10、B MW08、BMW06、B00115、B00114、MW1至MW4、MW-1至MW-3 等共計12口監測井,所繪製之大尺度及小尺度之地下水流 向圖,其描繪範圍包含臺中加工出口區內之全部。由高污 染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期)期末報告 第4-39頁記載可知,該2圖均顯示臺中加工出口區內地下 水流向大致為西北向東南流,而就區域流向不同之細部區 域流場部分,自以由共計12口監測井為據、對於臺中加工 出口區內全部之細部流向有所調查之圖(4.2.2-4),更 具有準確性及代表性。
(九)原告主張應查明是何家工廠造成系爭場址地下水污染方可 公告場址云云。惟污染行為人是否業經查明,並非場址公 告要件:
⒈按系爭場址污染係由何家工廠造成,乃屬污染行為人之認 定。由最高行政法院101年度判字第850號判決:「系爭場 址之污染行為人是否已查明、導致污染結果之其他原因為 何(污染物質以外之原因,如由何一工廠之何項製程所產
生之污染),與污染來源是否明確並無關聯,並非該等場 址應否公告為控制、整治場址之要件」之意旨可知,只要 可資判斷造成地下水污染物質或位置,即屬污染來源明確 ,至於該污染係由何工廠造成等,此與污染來源明確並無 關聯,非公告控制場址之要件。
⒉另參土壤及地下水污染整治法第13條第2項前段規定:「 污染行為人或潛在污染責任人不明或不擬訂污染控制計畫 時,直轄市、縣(市)主管機關得視財務狀況及場址實際 狀況,採適當措施改善」等語可知,主管機關本可在污染 行為人尚未明確之情況下公告控制場址,並採取適當改善 措施。是原告主張未查明污染係由何家工廠造成前,不得 公告控制場址云云,不啻將使土壤及地下水污染整治法第 13條第2項成為具文。
(十)原告以訴願決定撤銷潭子區工區段25-1、25-6之場址公告 主張系爭場址污染來源不明確云云,乃屬無據之臆測: ⒈經查,訴願決定之所以撤銷潭子區工區段25-1、25-6之場 址公告,係因認該場址之北環停車場用地部分,有續為查 證之必要。北環停車場位於臺中加工出口區之最西北角, 距離系爭場址甚遠,北環停車場與系爭場址之距離,乃為 亞洲光學與系爭場址距離之2倍以上,原告主張系爭場址 係來自北環停車場,卻否認系爭場址污染與亞洲光學之關 聯性云云,乃屬顯然無據及違反經驗與論理法則之臆測之 詞。
⒉再者,由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二 期)期末報告第4-40頁可知,北環停車場所在地即臺中加 工出口區西北角之地下水,係流向監測井MW1即保得士廠 區,並非系爭場址;質言之,北環停車場與系爭場址並非 地下水上下游之關係,益證原告主張為無據之臆測。 ⒊另由行政院環境保護署撤銷北環停車場場址公告之同時, 維持系爭場址之公告乙節可知,依行政院環境保護署專業 認定,系爭場址之污染來源與北環停車場並無相關,故北 環停車場場址公告之撤銷,並不影響系爭場址應予維持之 認定。原告之臆測既無所據,違反經驗及論理法則,亦有 違行政院環境保護署之認定,自無足取。
⒋此外,由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二 期)期末報告第4-40頁及行政院環境保護署「毒性化學物 質許可管理系統」申報紀錄第17頁之比對可知,兩者之監 測井MW-1(即系爭場址)之地下水上游,為「毒性化學物 質許可管理系統」申報紀錄第17頁之監測井L00152;而L0 0152為設於臺中加工出口區外之監測井,業經查證無污染
物,經行政院環境保護署據以排除系爭場址污染來自區外 之可能性,亦即,足以研判系爭場址之污染物係來自於臺 中加工出口區內,污染來源明確,此參「毒性化學物質許 可管理系統」申報紀錄第10頁「六、調查結果總結」第1 點記載,即明。
⒌是以,系爭場址業經行政院環境保護署查證確認其污染係 來自於臺中加工出口區內,污染來源明確。原告之臆測既 無所據,違反經驗及論理法則,亦有違行政院環境保護署 之認定,並無足取。
(十一)原告以系爭場址土壤未檢測出三氯乙烯主張系爭場址前 手事業使用三氯乙烯未造成污染云云,有違環工檢測實 務經驗及污染物特性,並無足採:
⒈按三氯乙烯乃屬揮發性有機化合物(VOC),具有高度 揮發性,此參行政院環境保護署「運作中工廠及地下水 含氯有機溶劑污染潛勢調查及查證計畫」第4-24頁記載 「三氯乙烯……7.物質洩漏棄置或排放至環境之途徑及 流佈:2.……在土壤及地表水體中的三氯乙烯大部分都 會逸散至大氣中,少部分會滲入地下水。因不易被生物 分解而水解速度慢,故可能存在相當長時間」等語可稽 。
⒉再者,土壤中的化學物質及原生性微生物有可能與揮發 性有機化合物反應分解,使揮發性有機化合物成為另一 種污染質或無害的化合物,導致揮發性有機化合物未於 土壤中驗出。
⒊由上可知,原告以系爭場址之土壤中未檢出相同污染物 質,主張系爭場址地下水污染物與系爭場址之前手事業 無關云云,顯有悖於環工檢測實務經驗,亦與前揭理論 基礎不符,並無可採。
(十二)就原告所引用最高行政法院101年度判字第548號判決, 法院係認定該判決所涉場址之上及周界均無法證明三氯 乙烯之來源,故污染來源不明確。此與本件訴訟所涉系 爭場址之前手事業及臺中加工出口區內多家廠商有使用 三氯乙烯之紀錄,且已排除區外為污染來源之可能性, 已可確認其污染來源係來自於臺中加工出口區內之情況 ,截然不同。
(十三)系爭場址經查地下水污染物濃度超過地下水污染管制標 準且來源明確,被告依法公告系爭場址為控制場址,於 法無違:
⒈系爭場址之污染已排除來自於區外之可能性,足以明確 特定係來自於臺中加工出口區內,此有環保署查證報告
結果結論:「六、調查結果總結:1.依工業區尺度地下 水調查,於北、西北及東北側邊界補充調查監測井L001 52、L00155及L00154檢測結果,僅東北側邊界(臺中加 工出口區東側大門附近)之L00154地下水中檢出微量三 氯乙烯,其它監測井皆無檢測出含氯有機物濃度,顯示 臺中加工出口區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至 區內」等語可稽。
⒉原告主張污染可能來自於區外云云,惟原告所稱早有超 標之監測井均位於臺中加工出口區內,其用以主張污染 來自於區外云云,實無所據。
⒊另由臺中加工區南側周界地下水侷限應變措施計畫執行 成果報告第1頁之下圖可知,亞洲光學公司及保得士公 司(即原告藍色劃記處)之地下水有迴流至系爭場址( 即原告橘色劃記處)之情事。
⒋原告另主張其今年3月監測井檢驗水質未超過管制標準 云云。惟撤銷訴訟有關事實及法律判斷,係以原處分作 成時,為判斷基準時,此有102年度高等行政法院法律 座談會提案三決議、最高行政法院92年判字第1005號、 96年判字第2098號等判決要旨可稽。是以,原告於系爭 場址公告後所作成之檢測數據,本與系爭場址公告時合
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